常壓電漿成長氮化矽薄膜之研究
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論文名稱常壓電漿成長氮化矽薄膜之研究的作者是陳育秀, 指導教授是陳弘穎, 學位類別是碩士, 畢業學年度是108, 論文名稱(外文)是Silicon nitride thin films prepared using atmospheric pressure plasma, 系所名稱是化學工程與材料工程系, 學校名稱是國立高雄科技大學.

論文名稱常壓電漿成長氮化矽薄膜之研究
論文名稱(外文)Silicon nitride thin films prepared using atmospheric pressure plasma
學校名稱國立高雄科技大學
系所名稱化學工程與材料工程系
畢業學年度108
學位類別碩士
作者陳育秀
指導教授陳弘穎
博碩士論文網址https://hdl.handle.net/11296/5wt97f

論文名稱

常壓電漿成長氮化矽薄膜之研究

論文名稱(外文)

Silicon nitride thin films prepared using atmospheric pressure plasma

學校名稱

國立高雄科技大學

系所名稱

化學工程與材料工程系

畢業學年度

108

學位類別

碩士

作者

陳育秀

指導教授

陳弘穎

博碩士論文網址

https://hdl.handle.net/11296/5wt97f

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陳育秀

職稱: 董事 | 持有股份數: 2700000 | 所代表法人: | 華奕國際實業有限公司 | 統一編號: 29065522

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陳育秀

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陳育秀

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陳育秀25225907歇業 - 獨資

嘉義市西區榮檜里民生北路334號一樓
陳育秀10122185歇業 - 獨資

高雄市三民區立忠路74號
陳育秀29065522核准設立

嘉義市西區車店里世賢路三段113號二樓
陳育秀36616108歇業 - 獨資

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