以分子束磊晶在氮化鎵基底上成長氮化銦鋁薄膜之特性分析
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論文名稱以分子束磊晶在氮化鎵基底上成長氮化銦鋁薄膜之特性分析的作者是蔡長恩, 指導教授是羅奕凱, 學位類別是碩士, 畢業學年度是108, 論文名稱(外文)是Growth and characterization of InAlN thin film on GaN template by molecular beam epitaxy, 系所名稱是物理學系研究所, 學校名稱是國立中山大學.
論文名稱 | 以分子束磊晶在氮化鎵基底上成長氮化銦鋁薄膜之特性分析 |
論文名稱(外文) | Growth and characterization of InAlN thin film on GaN template by molecular beam epitaxy |
學校名稱 | 國立中山大學 |
系所名稱 | 物理學系研究所 |
畢業學年度 | 108 |
學位類別 | 碩士 |
作者 | 蔡長恩 |
指導教授 | 羅奕凱 |
博碩士論文網址 | https://hdl.handle.net/11296/hwz6w7 |
論文名稱以分子束磊晶在氮化鎵基底上成長氮化銦鋁薄膜之特性分析 |
論文名稱(外文)Growth and characterization of InAlN thin film on GaN template by molecular beam epitaxy |
學校名稱國立中山大學 |
系所名稱物理學系研究所 |
畢業學年度108 |
學位類別碩士 |
作者蔡長恩 |
指導教授羅奕凱 |
博碩士論文網址https://hdl.handle.net/11296/hwz6w7 |