金屬銦與硒化銦凡德瓦接面處的能障高度與電子傳輸性質之研究
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論文名稱金屬銦與硒化銦凡德瓦接面處的能障高度與電子傳輸性質之研究的作者是黃彥庭, 指導教授是盧怡穎, 學位類別是碩士, 畢業學年度是108, 論文名稱(外文)是Study on the Energy Barrier Height and Electronic Transport Properties at the van der Waals interface of metallic Indium and Indium Selenide, 系所名稱是物理學系研究所, 學校名稱是國立中山大學.

論文名稱	金屬銦與硒化銦凡德瓦接面處的能障高度與電子傳輸性質之研究
論文名稱(外文)	Study on the Energy Barrier Height and Electronic Transport Properties at the van der Waals interface of metallic Indium and Indium Selenide
學校名稱	國立中山大學
系所名稱	物理學系研究所
畢業學年度	108
學位類別	碩士
作者	黃彥庭
指導教授	盧怡穎
博碩士論文網址	https://hdl.handle.net/11296/6kdaq7

論文名稱

金屬銦與硒化銦凡德瓦接面處的能障高度與電子傳輸性質之研究

論文名稱(外文)

Study on the Energy Barrier Height and Electronic Transport Properties at the van der Waals interface of metallic Indium and Indium Selenide

學校名稱

國立中山大學

系所名稱

物理學系研究所

畢業學年度

108

學位類別

碩士

作者

黃彥庭

指導教授

盧怡穎

博碩士論文網址

https://hdl.handle.net/11296/6kdaq7

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