以射頻磁控濺鍍研製HfO2 & TiO2電阻式記憶體
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論文名稱以射頻磁控濺鍍研製HfO2 & TiO2電阻式記憶體的作者是陳奐宇, 指導教授是陳世志, 學位類別是碩士, 畢業學年度是110, 論文名稱(外文)是The Study on Fabrication of HfO2 & TiO2 Resistive Random Access Memories by RF Magnetron Sputtering, 系所名稱是電子工程系, 學校名稱是國立雲林科技大學.

論文名稱以射頻磁控濺鍍研製HfO2 & TiO2電阻式記憶體
論文名稱(外文)The Study on Fabrication of HfO2 & TiO2 Resistive Random Access Memories by RF Magnetron Sputtering
學校名稱國立雲林科技大學
系所名稱電子工程系
畢業學年度110
學位類別碩士
作者陳奐宇
指導教授陳世志
博碩士論文網址https://hdl.handle.net/11296/d5cxfg

論文名稱

以射頻磁控濺鍍研製HfO2 & TiO2電阻式記憶體

論文名稱(外文)

The Study on Fabrication of HfO2 & TiO2 Resistive Random Access Memories by RF Magnetron Sputtering

學校名稱

國立雲林科技大學

系所名稱

電子工程系

畢業學年度

110

學位類別

碩士

作者

陳奐宇

指導教授

陳世志

博碩士論文網址

https://hdl.handle.net/11296/d5cxfg

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陳奐宇

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