陽極氧化補償氧化鋁耦合金氧半穿隧二極體非揮發性記憶體研究
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論文名稱陽極氧化補償氧化鋁耦合金氧半穿隧二極體非揮發性記憶體研究的作者是林津丞, 指導教授是胡振國, 學位類別是碩士, 畢業學年度是110, 論文名稱(外文)是Study of Nonvolatile Memory in Coupled MIS(p) TD with Anodization-Compensated Al2O3 Dielectric, 系所名稱是電子工程學研究所, 學校名稱是國立臺灣大學.

論文名稱	陽極氧化補償氧化鋁耦合金氧半穿隧二極體非揮發性記憶體研究
論文名稱(外文)	Study of Nonvolatile Memory in Coupled MIS(p) TD with Anodization-Compensated Al2O3 Dielectric
學校名稱	國立臺灣大學
系所名稱	電子工程學研究所
畢業學年度	110
學位類別	碩士
作者	林津丞
指導教授	胡振國
博碩士論文網址	https://hdl.handle.net/11296/afqt8j

論文名稱

陽極氧化補償氧化鋁耦合金氧半穿隧二極體非揮發性記憶體研究

論文名稱(外文)

Study of Nonvolatile Memory in Coupled MIS(p) TD with Anodization-Compensated Al2O3 Dielectric

學校名稱

國立臺灣大學

系所名稱

電子工程學研究所

畢業學年度

110

學位類別

碩士

作者

林津丞

指導教授

胡振國

博碩士論文網址

https://hdl.handle.net/11296/afqt8j

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