基於關鍵製程對於鐵電元件特性及可靠度之影響: 二氧化鋁插入層、原位原子層沉積系統、奈米基層板和不同摻雜元素
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論文名稱基於關鍵製程對於鐵電元件特性及可靠度之影響: 二氧化鋁插入層、原位原子層沉積系統、奈米基層板和不同摻雜元素的作者是張廷聿, 指導教授是吳添立, 學位類別是碩士, 畢業學年度是111, 論文名稱(外文)是Effects of Key Processes on the Characteristics and Reliability of Ferroelectric Devices: Aluminum Oxide Insertion Layer, In-situ Atomic Layer Deposi..., 系所名稱是國際半導體產業學院, 學校名稱是國立陽明交通大學.

論文名稱基於關鍵製程對於鐵電元件特性及可靠度之影響: 二氧化鋁插入層、原位原子層沉積系統、奈米基層板和不同摻雜元素
論文名稱(外文)Effects of Key Processes on the Characteristics and Reliability of Ferroelectric Devices: Aluminum Oxide Insertion Layer, In-situ Atomic Layer Deposition System, Nanolaminates Structure, and Various Dopant Elements
學校名稱國立陽明交通大學
系所名稱國際半導體產業學院
畢業學年度111
學位類別碩士
作者張廷聿
指導教授吳添立
博碩士論文網址https://hdl.handle.net/11296/by9p68

論文名稱

基於關鍵製程對於鐵電元件特性及可靠度之影響: 二氧化鋁插入層、原位原子層沉積系統、奈米基層板和不同摻雜元素

論文名稱(外文)

Effects of Key Processes on the Characteristics and Reliability of Ferroelectric Devices: Aluminum Oxide Insertion Layer, In-situ Atomic Layer Deposition System, Nanolaminates Structure, and Various Dopant Elements

學校名稱

國立陽明交通大學

系所名稱

國際半導體產業學院

畢業學年度

111

學位類別

碩士

作者

張廷聿

指導教授

吳添立

博碩士論文網址

https://hdl.handle.net/11296/by9p68

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新北市樹林區中山路1段141號
張廷聿80004263核准設立 - 合夥

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