以低溫雷射處理技術輔助製備新型透明導電薄膜
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計畫名稱以低溫雷射處理技術輔助製備新型透明導電薄膜的計畫編號是NSC97-2218-E-131-003-, 日期是20081001, 序號是94692.

序號94692
計畫編號NSC97-2218-E-131-003-
計畫名稱以低溫雷射處理技術輔助製備新型透明導電薄膜
日期20081001
報告網址http://www.etop.org.tw/index.php?c=adm11252&m=getReportFile&d=adm&i=94692

序號

94692

計畫編號

NSC97-2218-E-131-003-

計畫名稱

以低溫雷射處理技術輔助製備新型透明導電薄膜

日期

20081001

報告網址

http://www.etop.org.tw/index.php?c=adm11252&m=getReportFile&d=adm&i=94692

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