Effect of substrate bias on the promotion of nanocrystalline silicon growth from He-diluted SiH4 pla
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titleEffect of substrate bias on the promotion of nanocrystalline silicon growth from He-diluted SiH4 plasma at low temperature的creator是D. Das;D. Raha;W. C. Chen;K. H. Chen;C. T. Wu;L. C. Chen, date是2012, contributor是原子與分子科學研究所, language是en, description.note是已出版;[SCI];有審查制度;具代表性, relation是JOURNAL OF MATERIALS RESEARCH 27, 1303, type是article.

contributor原子與分子科學研究所
creatorD. Das | D. Raha | W. C. Chen | K. H. Chen | C. T. Wu | L. C. Chen
date2012
description.sponsorship原子與分子科學研究所
description.note已出版;[SCI];有審查制度;具代表性
languageen
publisher(空)
relationJOURNAL OF MATERIALS RESEARCH 27, 1303
titleEffect of substrate bias on the promotion of nanocrystalline silicon growth from He-diluted SiH4 plasma at low temperature
typearticle

contributor

原子與分子科學研究所

creator

D. Das | D. Raha | W. C. Chen | K. H. Chen | C. T. Wu | L. C. Chen

date

2012

description.sponsorship

原子與分子科學研究所

description.note

已出版;[SCI];有審查制度;具代表性

language

en

publisher

(空)

relation

JOURNAL OF MATERIALS RESEARCH 27, 1303

title

Effect of substrate bias on the promotion of nanocrystalline silicon growth from He-diluted SiH4 plasma at low temperature

type

article

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螢光奈米鑽石為基礎之量子感測與量子光學

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@ 中央研究院主題研究計畫核定通過名單

光電化學分解水產氫之研究

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@ 中央研究院主題研究計畫核定通過名單

基質輔助雷射脫附離子化機制、軟X光的光游離及光分解動力學、及其在生物分子質譜學上的應用

計畫主持人(中): 倪其焜、胡維平 | 計畫編號: AS-102-TP-A08 | 計畫主持人所屬單位(中): 中研院原子與分子科學研究所、國立中正大學化學暨生物化學系 | 參與研究人員所屬單位(中): 中研院原子與分子科學研究所、國立中正大學化學暨生物化學系、國立交通大學應用化學系、國家同步輻射研究中心科學研究組 | 西元年: 2012 | 執行期間(起): 2013-01-01 | 執行期間(迄): 2015-12-31 | 備註: NULL

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熱電材料作為新能源的研

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