Utilizing Sub-5 nm Sidewall Electrode Technology for Atomic-Scale Resistive Memory Fabrication
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titleUtilizing Sub-5 nm Sidewall Electrode Technology for Atomic-Scale Resistive Memory Fabrication的creator是Kai-Shin Li;ChiaHua Ho;Ming-Taou Lee;Min-Cheng Chen;Cho-Lun Hsu;J. M. Lu;C. H. Lin;C. C. Chen;B. W. Wu;Y. F. Hou;C. Yi. Lin;Y. J. Chen;T. Y. Lai;M. Y...., date是14/6/9, contributor是應用科學研究中心, language是en, description.note是已出版;有審查制度;具代表性, relation是Symposium on VLSI Technology (HONOLULU, USA : IEEE), type是conference.

contributor	應用科學研究中心
creator	Kai-Shin Li \| ChiaHua Ho \| Ming-Taou Lee \| Min-Cheng Chen \| Cho-Lun Hsu \| J. M. Lu \| C. H. Lin \| C. C. Chen \| B. W. Wu \| Y. F. Hou \| C. Yi. Lin \| Y. J. Chen \| T. Y. Lai \| M. Y. Li \| I. Yang \| C. S. Wu \| Fu-Liang Yang
date	14/6/9
description.sponsorship	應用科學研究中心
description.note	已出版;有審查制度;具代表性
language	en
relation	Symposium on VLSI Technology (HONOLULU, USA : IEEE)
title	Utilizing Sub-5 nm Sidewall Electrode Technology for Atomic-Scale Resistive Memory Fabrication
type	conference

contributor

應用科學研究中心

creator

date

14/6/9

description.sponsorship

應用科學研究中心

description.note

已出版;有審查制度;具代表性

language

relation

Symposium on VLSI Technology (HONOLULU, USA : IEEE)

title

Utilizing Sub-5 nm Sidewall Electrode Technology for Atomic-Scale Resistive Memory Fabrication

type

conference

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