台半
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公司名稱台半的年度是108, 季別是3, 稅前純益率(%)(稅前純益)/(營業收入)是11.99, 稅後純益率(%)(稅後純益)/(營業收入)是9.45, 營業收入(百萬元)是7803.80, 營業利益率(%)(營業利益)/(營業收入)是12.02, 出表日期是109/01/01.

出表日期109/01/01
年度108
季別3
公司代號5425
公司名稱台半
營業收入(百萬元)7803.80
毛利率(%)(營業毛利)/(營業收入)32.02
營業利益率(%)(營業利益)/(營業收入)12.02
稅前純益率(%)(稅前純益)/(營業收入)11.99
稅後純益率(%)(稅後純益)/(營業收入)9.45

出表日期

109/01/01

年度

108

季別

3

公司代號

5425

公司名稱

台半

營業收入(百萬元)

7803.80

毛利率(%)(營業毛利)/(營業收入)

32.02

營業利益率(%)(營業利益)/(營業收入)

12.02

稅前純益率(%)(稅前純益)/(營業收入)

11.99

稅後純益率(%)(稅後純益)/(營業收入)

9.45

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布丁香味 5425 103051

英文商品名稱: PUDDING 5425 103051 | 食品添加物產品登錄碼: TFAA30000290705 | 分類: 布丁 | 型態: 液狀(液劑、液體) | 公司或商業登記名稱: 廣成香料化學股份有限公司 | 食品業者登錄字號: F-115465603-00000-3

@ 食品添加物業者及產品登錄資料集

布丁香味5425 103051

英文商品名稱: PUDDING 5425 103051 | 食品添加物產品登錄碼: TFAA30000178081 | 分類: 布丁 | 型態: 液狀(液劑、液體) | 公司或商業登記名稱: 廣成香料化學股份有限公司 | 食品業者登錄字號: F-115465603-00000-3

@ 食品添加物業者及產品登錄資料集

秋桂山相思林

作者: 蕭綱侯 | 關鍵字: 秋桂山相思林 | 描述:

@ 台灣采風翦影

二十五秒咖啡館

統一編號: 36758859 | 聯絡電話: | 屏東縣屏東市 | 設立日期: 2012/2/15 上午 12:00:00

@ 原住民族之商業清冊

得騏興業有限公司

統一編號: 23952297 | 電話號碼: 02-8687-5431 | 新北市樹林區備內街1巷37之1號2樓

@ 出進口廠商登記資料

恆安禮儀有限公司

電話: （02）2503-5425 | 管轄所屬: 臺北市

@ 禮儀服務業合法業者

電紡製程製作導電纖維

執行單位: 工研院院本部 | 產出年度: 101 | 產出單位: | 計畫名稱: 工研院創新前瞻技術研究計畫 | 領域: | 技術規格: 本計畫將使用奈米銀與銀前驅物當填充物。 | 潛力預估: 未來可廣泛應用在LED、觸控面板及奈米電子等。

@ 經濟部產業技術司–可移轉技術資料集

具雙閘極有機薄膜電晶體之電路結構及其應用

核准國家: 中華民國 | 執行單位: 工研院院本部 | 產出年度: 98 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 工研院創新前瞻技術研究計畫 | 專利發明人: 王右武 ,王怡凱 ,貢振邦 ,蕭智文 , | 證書號碼: I316760

@ 經濟部產業技術司–專利資料集

布丁香味 5425 103051

英文商品名稱: PUDDING 5425 103051 | 食品添加物產品登錄碼: TFAA30000290705 | 分類: 布丁 | 型態: 液狀(液劑、液體) | 公司或商業登記名稱: 廣成香料化學股份有限公司 | 食品業者登錄字號: F-115465603-00000-3

@ 食品添加物業者及產品登錄資料集

布丁香味5425 103051

英文商品名稱: PUDDING 5425 103051 | 食品添加物產品登錄碼: TFAA30000178081 | 分類: 布丁 | 型態: 液狀(液劑、液體) | 公司或商業登記名稱: 廣成香料化學股份有限公司 | 食品業者登錄字號: F-115465603-00000-3

@ 食品添加物業者及產品登錄資料集

秋桂山相思林

作者: 蕭綱侯 | 關鍵字: 秋桂山相思林 | 描述:

@ 台灣采風翦影

二十五秒咖啡館

統一編號: 36758859 | 聯絡電話: | 屏東縣屏東市 | 設立日期: 2012/2/15 上午 12:00:00

@ 原住民族之商業清冊

得騏興業有限公司

統一編號: 23952297 | 電話號碼: 02-8687-5431 | 新北市樹林區備內街1巷37之1號2樓

@ 出進口廠商登記資料

恆安禮儀有限公司

電話: （02）2503-5425 | 管轄所屬: 臺北市

@ 禮儀服務業合法業者

電紡製程製作導電纖維

執行單位: 工研院院本部 | 產出年度: 101 | 產出單位: | 計畫名稱: 工研院創新前瞻技術研究計畫 | 領域: | 技術規格: 本計畫將使用奈米銀與銀前驅物當填充物。 | 潛力預估: 未來可廣泛應用在LED、觸控面板及奈米電子等。

@ 經濟部產業技術司–可移轉技術資料集

具雙閘極有機薄膜電晶體之電路結構及其應用

核准國家: 中華民國 | 執行單位: 工研院院本部 | 產出年度: 98 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 工研院創新前瞻技術研究計畫 | 專利發明人: 王右武 ,王怡凱 ,貢振邦 ,蕭智文 , | 證書號碼: I316760

@ 經濟部產業技術司–專利資料集
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# 台半 於 經濟部產業技術司–可移轉技術資料集 - 1

序號7992
產出年度103
技術名稱-中文非揮發性電阻式記憶體(RRAM)元件特性驗證與分析報告
執行單位工研院電光系統所
產出單位(空)
計畫名稱智慧手持裝置核心技術攻堅計畫 /雄才大略_混合型態記憶體設計_M組技術支援
領域智慧科技
已申請專利之國家(空)
已獲得專利之國家(空)
技術現況敘述-中文電阻式記憶體元件的基本特性與可靠度的測試
技術現況敘述-英文(空)
技術規格使用ALD機台開發金屬氧化物鍍膜技術
技術成熟度試量產
可應用範圍半導體製造公司
潛力預估隨著半導體製程技術微縮，應用在先進記憶體等領域之商機潛力大
聯絡人員鍾佩翰
電話03-5912777
傳真03-5917690
電子信箱tephen.chung@itri.org.tw
參考網址(空)
所須軟硬體設備半導體原子級薄膜沉積機台
需具備之專業人才半導體製程相關元件之製程技術能力
序號: 7992
產出年度: 103
技術名稱-中文: 非揮發性電阻式記憶體(RRAM)元件特性驗證與分析報告
執行單位: 工研院電光系統所
產出單位: (空)
計畫名稱: 智慧手持裝置核心技術攻堅計畫 /雄才大略_混合型態記憶體設計_M組技術支援
領域: 智慧科技
已申請專利之國家: (空)
已獲得專利之國家: (空)
技術現況敘述-中文: 電阻式記憶體元件的基本特性與可靠度的測試
技術現況敘述-英文: (空)
技術規格: 使用ALD機台開發金屬氧化物鍍膜技術
技術成熟度: 試量產
可應用範圍: 半導體製造公司
潛力預估: 隨著半導體製程技術微縮，應用在先進記憶體等領域之商機潛力大
聯絡人員: 鍾佩翰
電話: 03-5912777
傳真: 03-5917690
電子信箱: tephen.chung@itri.org.tw
參考網址: (空)
所須軟硬體設備: 半導體原子級薄膜沉積機台
需具備之專業人才: 半導體製程相關元件之製程技術能力

# 台半 於 經濟部產業技術司–可移轉技術資料集 - 2

序號7988
產出年度101
技術名稱-中文I&T案實驗室建構與環境檢測
執行單位工研院電光系統所
產出單位(空)
計畫名稱工研院環境建構總計畫/奈米電子製程環境升級
領域智慧科技
已申請專利之國家(空)
已獲得專利之國家(空)
技術現況敘述-中文Q-film製程開發實驗室建置之整體需求報告
技術現況敘述-英文(空)
技術規格低於200度C以下的半導體製程整合技術
技術成熟度試量產
可應用範圍半導體製造公司
潛力預估隨著半導體製程技術微縮，應用在先進感測器晶片、和生物晶片等領域之商機潛力大
聯絡人員鍾佩翰
電話03-5912777
傳真03-5917690
電子信箱tephen.chung@itri.org.tw
參考網址(空)
所須軟硬體設備半導體FIB-SEM機台
需具備之專業人才半導體製程相關元件之製程、量測技術能力
序號: 7988
產出年度: 101
技術名稱-中文: I&T案實驗室建構與環境檢測
執行單位: 工研院電光系統所
產出單位: (空)
計畫名稱: 工研院環境建構總計畫/奈米電子製程環境升級
領域: 智慧科技
已申請專利之國家: (空)
已獲得專利之國家: (空)
技術現況敘述-中文: Q-film製程開發實驗室建置之整體需求報告
技術現況敘述-英文: (空)
技術規格: 低於200度C以下的半導體製程整合技術
技術成熟度: 試量產
可應用範圍: 半導體製造公司
潛力預估: 隨著半導體製程技術微縮，應用在先進感測器晶片、和生物晶片等領域之商機潛力大
聯絡人員: 鍾佩翰
電話: 03-5912777
傳真: 03-5917690
電子信箱: tephen.chung@itri.org.tw
參考網址: (空)
所須軟硬體設備: 半導體FIB-SEM機台
需具備之專業人才: 半導體製程相關元件之製程、量測技術能力

# 台半 於 經濟部產業技術司–可移轉技術資料集 - 3

序號7989
產出年度102
技術名稱-中文FY102 IT案關鍵製程技術開發報告
執行單位工研院電光系統所
產出單位(空)
計畫名稱工研院環境建構總計畫/奈米電子實驗室
領域智慧科技
已申請專利之國家(空)
已獲得專利之國家(空)
技術現況敘述-中文開發特殊感光材料低溫蝕刻技術
技術現況敘述-英文(空)
技術規格低於200度C以下的半導體製程整合技術
技術成熟度試量產
可應用範圍半導體製造公司
潛力預估隨著半導體製程技術微縮，應用在先進感測器晶片、和生物晶片等領域之商機潛力大
聯絡人員鍾佩翰
電話03-5912777
傳真03-5917690
電子信箱tephen.chung@itri.org.tw
參考網址(空)
所須軟硬體設備半導體FIB-SEM機台
需具備之專業人才半導體製程相關元件之製程、量測技術能力
序號: 7989
產出年度: 102
技術名稱-中文: FY102 IT案關鍵製程技術開發報告
執行單位: 工研院電光系統所
產出單位: (空)
計畫名稱: 工研院環境建構總計畫/奈米電子實驗室
領域: 智慧科技
已申請專利之國家: (空)
已獲得專利之國家: (空)
技術現況敘述-中文: 開發特殊感光材料低溫蝕刻技術
技術現況敘述-英文: (空)
技術規格: 低於200度C以下的半導體製程整合技術
技術成熟度: 試量產
可應用範圍: 半導體製造公司
潛力預估: 隨著半導體製程技術微縮，應用在先進感測器晶片、和生物晶片等領域之商機潛力大
聯絡人員: 鍾佩翰
電話: 03-5912777
傳真: 03-5917690
電子信箱: tephen.chung@itri.org.tw
參考網址: (空)
所須軟硬體設備: 半導體FIB-SEM機台
需具備之專業人才: 半導體製程相關元件之製程、量測技術能力

# 台半 於 經濟部產業技術司–可移轉技術資料集 - 4

序號7990
產出年度103
技術名稱-中文高溫系統環境建立報告
執行單位工研院電光系統所
產出單位(空)
計畫名稱工研院環境建構總計畫/記憶體測試驗證環境建立
領域智慧科技
已申請專利之國家(空)
已獲得專利之國家(空)
技術現況敘述-中文即時高溫測試記憶體晶片的環境
技術現況敘述-英文(空)
技術規格高於常溫的記憶體晶片即時測試環境
技術成熟度試量產
可應用範圍半導體、記憶體公司
潛力預估隨著半導體製程技術微縮，應用在先進記憶體等領域之商機潛力大
聯絡人員鍾佩翰
電話03-5912777
傳真03-5917690
電子信箱tephen.chung@itri.org.tw
參考網址(空)
所須軟硬體設備半導體電性量測機台
需具備之專業人才半導體製程相關元件之製程、量測技術能力
序號: 7990
產出年度: 103
技術名稱-中文: 高溫系統環境建立報告
執行單位: 工研院電光系統所
產出單位: (空)
計畫名稱: 工研院環境建構總計畫/記憶體測試驗證環境建立
領域: 智慧科技
已申請專利之國家: (空)
已獲得專利之國家: (空)
技術現況敘述-中文: 即時高溫測試記憶體晶片的環境
技術現況敘述-英文: (空)
技術規格: 高於常溫的記憶體晶片即時測試環境
技術成熟度: 試量產
可應用範圍: 半導體、記憶體公司
潛力預估: 隨著半導體製程技術微縮，應用在先進記憶體等領域之商機潛力大
聯絡人員: 鍾佩翰
電話: 03-5912777
傳真: 03-5917690
電子信箱: tephen.chung@itri.org.tw
參考網址: (空)
所須軟硬體設備: 半導體電性量測機台
需具備之專業人才: 半導體製程相關元件之製程、量測技術能力

# 台半 於 經濟部產業技術司–可移轉技術資料集 - 5

序號7991
產出年度100
技術名稱-中文電阻式記憶體劣化行為研究報告
執行單位工研院電光系統所
產出單位(空)
計畫名稱固態儲存關鍵技術開發及系統驗證四年計畫 /測試技術開發
領域智慧科技
已申請專利之國家(空)
已獲得專利之國家(空)
技術現況敘述-中文著重在劣化行為的研究與劣化機制的探討，以期解決當前記憶體所面臨最嚴重的可靠度問題
技術現況敘述-英文(空)
技術規格新世代非揮發性記憶體的劣化機制探討
技術成熟度試量產
可應用範圍半導體、記憶體公司
潛力預估隨著半導體製程技術微縮，應用在先進記憶體等領域之商機潛力大
聯絡人員鍾佩翰
電話03-5912777
傳真03-5917690
電子信箱tephen.chung@itri.org.tw
參考網址(空)
所須軟硬體設備半導體電性量測機台
需具備之專業人才半導體製程相關元件之製程、量測技術能力
序號: 7991
產出年度: 100
技術名稱-中文: 電阻式記憶體劣化行為研究報告
執行單位: 工研院電光系統所
產出單位: (空)
計畫名稱: 固態儲存關鍵技術開發及系統驗證四年計畫 /測試技術開發
領域: 智慧科技
已申請專利之國家: (空)
已獲得專利之國家: (空)
技術現況敘述-中文: 著重在劣化行為的研究與劣化機制的探討，以期解決當前記憶體所面臨最嚴重的可靠度問題
技術現況敘述-英文: (空)
技術規格: 新世代非揮發性記憶體的劣化機制探討
技術成熟度: 試量產
可應用範圍: 半導體、記憶體公司
潛力預估: 隨著半導體製程技術微縮，應用在先進記憶體等領域之商機潛力大
聯絡人員: 鍾佩翰
電話: 03-5912777
傳真: 03-5917690
電子信箱: tephen.chung@itri.org.tw
參考網址: (空)
所須軟硬體設備: 半導體電性量測機台
需具備之專業人才: 半導體製程相關元件之製程、量測技術能力

# 台半 於 經濟部產業技術司–可移轉技術資料集 - 6

序號7993
產出年度104
技術名稱-中文透過實驗設計法改善 ALD製程HfO2膜厚均勻度
執行單位工研院電光系統所
產出單位(空)
計畫名稱工研院環境建構總計畫/實驗室運作_L組
領域智慧科技
已申請專利之國家(空)
已獲得專利之國家(空)
技術現況敘述-中文金屬氧化物之原子級沉積技術
技術現況敘述-英文(空)
技術規格奈米級金屬沉積技術
技術成熟度試量產
可應用範圍半導體、記憶體公司
潛力預估隨著半導體製程技術微縮，應用在先進記憶體等領域之商機潛力大
聯絡人員鍾佩翰
電話03-5912777
傳真03-5917690
電子信箱tephen.chung@itri.org.tw
參考網址(空)
所須軟硬體設備半導體原子級薄膜沉積機台
需具備之專業人才半導體製程相關元件之製程技術能力
序號: 7993
產出年度: 104
技術名稱-中文: 透過實驗設計法改善 ALD製程HfO2膜厚均勻度
執行單位: 工研院電光系統所
產出單位: (空)
計畫名稱: 工研院環境建構總計畫/實驗室運作_L組
領域: 智慧科技
已申請專利之國家: (空)
已獲得專利之國家: (空)
技術現況敘述-中文: 金屬氧化物之原子級沉積技術
技術現況敘述-英文: (空)
技術規格: 奈米級金屬沉積技術
技術成熟度: 試量產
可應用範圍: 半導體、記憶體公司
潛力預估: 隨著半導體製程技術微縮，應用在先進記憶體等領域之商機潛力大
聯絡人員: 鍾佩翰
電話: 03-5912777
傳真: 03-5917690
電子信箱: tephen.chung@itri.org.tw
參考網址: (空)
所須軟硬體設備: 半導體原子級薄膜沉積機台
需具備之專業人才: 半導體製程相關元件之製程技術能力

# 台半 於 經濟部產業技術司–可移轉技術資料集 - 7

序號7994
產出年度103
技術名稱-中文不同材料利用橢圓偏光技術建置光學模型量測關鍵技術報告
執行單位工研院電光系統所
產出單位(空)
計畫名稱工研院環境建構總計畫 /17館實驗室運作
領域智慧科技
已申請專利之國家(空)
已獲得專利之國家(空)
技術現況敘述-中文HORIBA 橢圓儀偏光技術量測雙層結構模型技術
技術現況敘述-英文(空)
技術規格雙層薄膜光量測模型技術
技術成熟度試量產
可應用範圍半導體、記憶體公司
潛力預估隨著半導體製程技術微縮，應用在先進感測器晶片、和生物晶片等領域之商機潛力大
聯絡人員鍾佩翰
電話03-5912777
傳真03-5917690
電子信箱tephen.chung@itri.org.tw
參考網址(空)
所須軟硬體設備半導體光學量測機台
需具備之專業人才半導體製程相關元件之製程、量測技術能力
序號: 7994
產出年度: 103
技術名稱-中文: 不同材料利用橢圓偏光技術建置光學模型量測關鍵技術報告
執行單位: 工研院電光系統所
產出單位: (空)
計畫名稱: 工研院環境建構總計畫 /17館實驗室運作
領域: 智慧科技
已申請專利之國家: (空)
已獲得專利之國家: (空)
技術現況敘述-中文: HORIBA 橢圓儀偏光技術量測雙層結構模型技術
技術現況敘述-英文: (空)
技術規格: 雙層薄膜光量測模型技術
技術成熟度: 試量產
可應用範圍: 半導體、記憶體公司
潛力預估: 隨著半導體製程技術微縮，應用在先進感測器晶片、和生物晶片等領域之商機潛力大
聯絡人員: 鍾佩翰
電話: 03-5912777
傳真: 03-5917690
電子信箱: tephen.chung@itri.org.tw
參考網址: (空)
所須軟硬體設備: 半導體光學量測機台
需具備之專業人才: 半導體製程相關元件之製程、量測技術能力

# 台半 於 經濟部產業技術司–可移轉技術資料集 - 8

序號7995
產出年度103
技術名稱-中文高密度量子薄膜影像感應元件關鍵製程開發
執行單位工研院電光系統所
產出單位(空)
計畫名稱工研院環境建構總計畫 /奈米電子製程環境升級
領域智慧科技
已申請專利之國家(空)
已獲得專利之國家(空)
技術現況敘述-中文影像感應元件關鍵製程開發及專案管理技術
技術現況敘述-英文(空)
技術規格Quantum film製程整合技術
技術成熟度試量產
可應用範圍半導體、記憶體公司
潛力預估隨著半導體製程技術微縮，應用在先進感測器晶片、和生物晶片等領域之商機潛力大
聯絡人員鍾佩翰
電話03-5912777
傳真03-5917690
電子信箱tephen.chung@itri.org.tw
參考網址(空)
所須軟硬體設備半導體後段金屬層製程機台
需具備之專業人才半導體製程相關元件之製程、量測技術能力
序號: 7995
產出年度: 103
技術名稱-中文: 高密度量子薄膜影像感應元件關鍵製程開發
執行單位: 工研院電光系統所
產出單位: (空)
計畫名稱: 工研院環境建構總計畫 /奈米電子製程環境升級
領域: 智慧科技
已申請專利之國家: (空)
已獲得專利之國家: (空)
技術現況敘述-中文: 影像感應元件關鍵製程開發及專案管理技術
技術現況敘述-英文: (空)
技術規格: Quantum film製程整合技術
技術成熟度: 試量產
可應用範圍: 半導體、記憶體公司
潛力預估: 隨著半導體製程技術微縮，應用在先進感測器晶片、和生物晶片等領域之商機潛力大
聯絡人員: 鍾佩翰
電話: 03-5912777
傳真: 03-5917690
電子信箱: tephen.chung@itri.org.tw
參考網址: (空)
所須軟硬體設備: 半導體後段金屬層製程機台
需具備之專業人才: 半導體製程相關元件之製程、量測技術能力
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名稱 台半 找到的公司登記或商業登記

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公司地址負責人統一編號狀態

新竹縣竹北市鹿場里文興路259號6樓		陳文村54512204核准設立

臺北市大安區安和路2段118號4樓		24458533解散 (文號: 2009-11-2 府產業商字 第09890231600號)

登記地址: 新竹縣竹北市鹿場里文興路259號6樓 | 負責人: 陳文村 | 統編: 54512204 | 核准設立

登記地址: 臺北市大安區安和路2段118號4樓 | 統編: 24458533 | 解散 (文號: 2009-11-2 府產業商字 第09890231600號)

與台半同分類的上櫃公司營益分析查詢彙總表(全體公司彙總報表)

太普高

年度: 108 | 季別: 2 | 稅前純益率(%)(稅前純益)/(營業收入): -6.32 | 稅後純益率(%)(稅後純益)/(營業收入): -5.95 | 營業收入(百萬元): 435.52 | 營業利益率(%)(營業利益)/(營業收入): -1.53 | 出表日期: 108/10/30

微端

年度: 108 | 季別: 2 | 稅前純益率(%)(稅前純益)/(營業收入): 1.69 | 稅後純益率(%)(稅後純益)/(營業收入): 1.11 | 營業收入(百萬元): 456.60 | 營業利益率(%)(營業利益)/(營業收入): -0.53 | 出表日期: 108/10/30

英濟

年度: 108 | 季別: 2 | 稅前純益率(%)(稅前純益)/(營業收入): -2.49 | 稅後純益率(%)(稅後純益)/(營業收入): -3.15 | 營業收入(百萬元): 2128.05 | 營業利益率(%)(營業利益)/(營業收入): -3.95 | 出表日期: 108/10/30

杭特

年度: 108 | 季別: 2 | 稅前純益率(%)(稅前純益)/(營業收入): -15.56 | 稅後純益率(%)(稅後純益)/(營業收入): -14.74 | 營業收入(百萬元): 107.58 | 營業利益率(%)(營業利益)/(營業收入): -31.25 | 出表日期: 108/10/30

岱稜

年度: 108 | 季別: 2 | 稅前純益率(%)(稅前純益)/(營業收入): 10.36 | 稅後純益率(%)(稅後純益)/(營業收入): 8.37 | 營業收入(百萬元): 1209.46 | 營業利益率(%)(營業利益)/(營業收入): 10.02 | 出表日期: 108/10/30

錦明

年度: 108 | 季別: 2 | 稅前純益率(%)(稅前純益)/(營業收入): -17.54 | 稅後純益率(%)(稅後純益)/(營業收入): -17.96 | 營業收入(百萬元): 398.91 | 營業利益率(%)(營業利益)/(營業收入): -6.09 | 出表日期: 108/10/30

鑫創

年度: 108 | 季別: 2 | 稅前純益率(%)(稅前純益)/(營業收入): -26.50 | 稅後純益率(%)(稅後純益)/(營業收入): -26.50 | 營業收入(百萬元): 299.02 | 營業利益率(%)(營業利益)/(營業收入): -26.78 | 出表日期: 108/10/30

威剛

年度: 108 | 季別: 2 | 稅前純益率(%)(稅前純益)/(營業收入): 3.14 | 稅後純益率(%)(稅後純益)/(營業收入): 2.19 | 營業收入(百萬元): 11979.91 | 營業利益率(%)(營業利益)/(營業收入): -1.14 | 出表日期: 108/10/30

欣銓

年度: 108 | 季別: 2 | 稅前純益率(%)(稅前純益)/(營業收入): 16.23 | 稅後純益率(%)(稅後純益)/(營業收入): 11.79 | 營業收入(百萬元): 3754.42 | 營業利益率(%)(營業利益)/(營業收入): 16.49 | 出表日期: 108/10/30

廣寰科

年度: 108 | 季別: 2 | 稅前純益率(%)(稅前純益)/(營業收入): 4.06 | 稅後純益率(%)(稅後純益)/(營業收入): 3.74 | 營業收入(百萬元): 197.06 | 營業利益率(%)(營業利益)/(營業收入): 1.49 | 出表日期: 108/10/30

點晶

年度: 108 | 季別: 2 | 稅前純益率(%)(稅前純益)/(營業收入): 0.86 | 稅後純益率(%)(稅後純益)/(營業收入): 0.86 | 營業收入(百萬元): 61.58 | 營業利益率(%)(營業利益)/(營業收入): -4.06 | 出表日期: 108/10/30

宜特

年度: 108 | 季別: 2 | 稅前純益率(%)(稅前純益)/(營業收入): -9.46 | 稅後純益率(%)(稅後純益)/(營業收入): -9.23 | 營業收入(百萬元): 1517.56 | 營業利益率(%)(營業利益)/(營業收入): -10.70 | 出表日期: 108/10/30

東浦

年度: 108 | 季別: 2 | 稅前純益率(%)(稅前純益)/(營業收入): 7.56 | 稅後純益率(%)(稅後純益)/(營業收入): 5.82 | 營業收入(百萬元): 1234.44 | 營業利益率(%)(營業利益)/(營業收入): 7.11 | 出表日期: 108/10/30

鈊象

年度: 108 | 季別: 2 | 稅前純益率(%)(稅前純益)/(營業收入): 43.55 | 稅後純益率(%)(稅後純益)/(營業收入): 36.39 | 營業收入(百萬元): 2129.42 | 營業利益率(%)(營業利益)/(營業收入): 42.25 | 出表日期: 108/10/30

鼎天

年度: 108 | 季別: 2 | 稅前純益率(%)(稅前純益)/(營業收入): 5.83 | 稅後純益率(%)(稅後純益)/(營業收入): 5.83 | 營業收入(百萬元): 783.11 | 營業利益率(%)(營業利益)/(營業收入): 1.54 | 出表日期: 108/10/30

太普高

年度: 108 | 季別: 2 | 稅前純益率(%)(稅前純益)/(營業收入): -6.32 | 稅後純益率(%)(稅後純益)/(營業收入): -5.95 | 營業收入(百萬元): 435.52 | 營業利益率(%)(營業利益)/(營業收入): -1.53 | 出表日期: 108/10/30

微端

年度: 108 | 季別: 2 | 稅前純益率(%)(稅前純益)/(營業收入): 1.69 | 稅後純益率(%)(稅後純益)/(營業收入): 1.11 | 營業收入(百萬元): 456.60 | 營業利益率(%)(營業利益)/(營業收入): -0.53 | 出表日期: 108/10/30

英濟

年度: 108 | 季別: 2 | 稅前純益率(%)(稅前純益)/(營業收入): -2.49 | 稅後純益率(%)(稅後純益)/(營業收入): -3.15 | 營業收入(百萬元): 2128.05 | 營業利益率(%)(營業利益)/(營業收入): -3.95 | 出表日期: 108/10/30

杭特

年度: 108 | 季別: 2 | 稅前純益率(%)(稅前純益)/(營業收入): -15.56 | 稅後純益率(%)(稅後純益)/(營業收入): -14.74 | 營業收入(百萬元): 107.58 | 營業利益率(%)(營業利益)/(營業收入): -31.25 | 出表日期: 108/10/30

岱稜

年度: 108 | 季別: 2 | 稅前純益率(%)(稅前純益)/(營業收入): 10.36 | 稅後純益率(%)(稅後純益)/(營業收入): 8.37 | 營業收入(百萬元): 1209.46 | 營業利益率(%)(營業利益)/(營業收入): 10.02 | 出表日期: 108/10/30

錦明

年度: 108 | 季別: 2 | 稅前純益率(%)(稅前純益)/(營業收入): -17.54 | 稅後純益率(%)(稅後純益)/(營業收入): -17.96 | 營業收入(百萬元): 398.91 | 營業利益率(%)(營業利益)/(營業收入): -6.09 | 出表日期: 108/10/30

鑫創

年度: 108 | 季別: 2 | 稅前純益率(%)(稅前純益)/(營業收入): -26.50 | 稅後純益率(%)(稅後純益)/(營業收入): -26.50 | 營業收入(百萬元): 299.02 | 營業利益率(%)(營業利益)/(營業收入): -26.78 | 出表日期: 108/10/30

威剛

年度: 108 | 季別: 2 | 稅前純益率(%)(稅前純益)/(營業收入): 3.14 | 稅後純益率(%)(稅後純益)/(營業收入): 2.19 | 營業收入(百萬元): 11979.91 | 營業利益率(%)(營業利益)/(營業收入): -1.14 | 出表日期: 108/10/30

欣銓

年度: 108 | 季別: 2 | 稅前純益率(%)(稅前純益)/(營業收入): 16.23 | 稅後純益率(%)(稅後純益)/(營業收入): 11.79 | 營業收入(百萬元): 3754.42 | 營業利益率(%)(營業利益)/(營業收入): 16.49 | 出表日期: 108/10/30

廣寰科

年度: 108 | 季別: 2 | 稅前純益率(%)(稅前純益)/(營業收入): 4.06 | 稅後純益率(%)(稅後純益)/(營業收入): 3.74 | 營業收入(百萬元): 197.06 | 營業利益率(%)(營業利益)/(營業收入): 1.49 | 出表日期: 108/10/30

點晶

年度: 108 | 季別: 2 | 稅前純益率(%)(稅前純益)/(營業收入): 0.86 | 稅後純益率(%)(稅後純益)/(營業收入): 0.86 | 營業收入(百萬元): 61.58 | 營業利益率(%)(營業利益)/(營業收入): -4.06 | 出表日期: 108/10/30

宜特

年度: 108 | 季別: 2 | 稅前純益率(%)(稅前純益)/(營業收入): -9.46 | 稅後純益率(%)(稅後純益)/(營業收入): -9.23 | 營業收入(百萬元): 1517.56 | 營業利益率(%)(營業利益)/(營業收入): -10.70 | 出表日期: 108/10/30

東浦

年度: 108 | 季別: 2 | 稅前純益率(%)(稅前純益)/(營業收入): 7.56 | 稅後純益率(%)(稅後純益)/(營業收入): 5.82 | 營業收入(百萬元): 1234.44 | 營業利益率(%)(營業利益)/(營業收入): 7.11 | 出表日期: 108/10/30

鈊象

年度: 108 | 季別: 2 | 稅前純益率(%)(稅前純益)/(營業收入): 43.55 | 稅後純益率(%)(稅後純益)/(營業收入): 36.39 | 營業收入(百萬元): 2129.42 | 營業利益率(%)(營業利益)/(營業收入): 42.25 | 出表日期: 108/10/30

鼎天

年度: 108 | 季別: 2 | 稅前純益率(%)(稅前純益)/(營業收入): 5.83 | 稅後純益率(%)(稅後純益)/(營業收入): 5.83 | 營業收入(百萬元): 783.11 | 營業利益率(%)(營業利益)/(營業收入): 1.54 | 出表日期: 108/10/30

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