電腦配色調墨處理平台
- 技術司可移轉技術資料集 @ 經濟部

技術名稱-中文電腦配色調墨處理平台的執行單位是印研中心, 產出年度是94, 計畫名稱是數位網路配色建構技術開發計畫, 技術規格是作業系統/windows98、windows2000、windowsXP、使用者身份認証、系統啟用機制、系統回饋Time小於5min、線上即時記錄小於5sec, 潛力預估是強化印刷產業配色作業之處理速度並可協助印刷產業提升產品附加價值及降低成本.

序號	851
產出年度	94
技術名稱-中文	電腦配色調墨處理平台
執行單位	印研中心
產出單位	(空)
計畫名稱	數位網路配色建構技術開發計畫
領域	(空)
已申請專利之國家	(空)
已獲得專利之國家	(空)
技術現況敘述-中文	技術說明：以Visual Basic.Net語言，利用自行定義的控制項處理電腦配色資料庫，建構適用於Web ASP.NET格式的互動式網路配色系統，減少油墨調色成本。
技術現況敘述-英文	(空)
技術規格	作業系統/windows98、windows2000、windowsXP、使用者身份認証、系統啟用機制、系統回饋Time小於5min、線上即時記錄小於5sec
技術成熟度	雛型
可應用範圍	印刷業
潛力預估	強化印刷產業配色作業之處理速度並可協助印刷產業提升產品附加價值及降低成本
聯絡人員	張絜喁
電話	02-29990016
傳真	02-29990018
電子信箱	cju@ptri.org.tw
參考網址	(空)
所須軟硬體設備	軟體設備：I.E 6.0
需具備之專業人才	硬體設備：個人電腦（Windows）

序號

851

產出年度

技術名稱-中文

電腦配色調墨處理平台

執行單位

印研中心

產出單位

(空)

計畫名稱

數位網路配色建構技術開發計畫

領域

(空)

已申請專利之國家

(空)

已獲得專利之國家

(空)

技術現況敘述-中文

技術說明：以Visual Basic.Net語言，利用自行定義的控制項處理電腦配色資料庫，建構適用於Web ASP.NET格式的互動式網路配色系統，減少油墨調色成本。

技術現況敘述-英文

(空)

技術規格

作業系統/windows98、windows2000、windowsXP、使用者身份認証、系統啟用機制、系統回饋Time小於5min、線上即時記錄小於5sec

技術成熟度

雛型

可應用範圍

印刷業

潛力預估

強化印刷產業配色作業之處理速度並可協助印刷產業提升產品附加價值及降低成本

聯絡人員

張絜喁

電話

02-29990016

傳真

02-29990018

電子信箱

cju@ptri.org.tw

參考網址

(空)

所須軟硬體設備

軟體設備：I.E 6.0

需具備之專業人才

硬體設備：個人電腦（Windows）

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印刷配色秤量系統	執行單位: 印研中心 \| 產出年度: 93 \| 產出單位: \| 計畫名稱: 印刷電腦配色調墨技術研發三年計劃 \| 領域: \| 技術規格: 印刷用墨精準度≧98﹪ \| 潛力預估: 減少印刷業人力並減少殘墨存量與生產成本 @ 技術司可移轉技術資料集
環保油墨配方資料庫	執行單位: 印研中心 \| 產出年度: 94 \| 產出單位: \| 計畫名稱: 數位網路配色建構技術開發計畫 \| 領域: \| 技術規格: 重金屬含量小於100ppm、濃度/4 color、耐摩擦測試/30～40、乳化程度/50±15%、表面乾燥速度/8～10小時、完全乾燥速度/18～20小時、配方數大於500種 \| 潛力預估: 可做為往後油墨製造上的有利參考，並提升印刷業環保油墨的使用，減少印刷產業造成的環境污染。 @ 技術司可移轉技術資料集
六色印刷式導表(Test-Form)	執行單位: 印研中心 \| 產出年度: 95 \| 產出單位: \| 計畫名稱: 高傳真精密印刷技術研發三年計畫 \| 領域: \| 技術規格: 印刷線數：400Line/inch；印刷色數：6色(CMYKOG)；印墨墨膜：1-3μm；色差：△E＜2；網屏角度：6種角度 \| 潛力預估: 可直接應用在精美畫冊和高級美術印刷品等方面，防止仿冒。 @ 技術司可移轉技術資料集
光譜彩色網點評估軟體	執行單位: 印研中心 \| 產出年度: 95 \| 產出單位: \| 計畫名稱: 高傳真精密印刷技術研發三年計畫 \| 領域: \| 技術規格: 軟體安裝需求：1.適用於IBM PC個人電腦。2.作業軟體：WINDOW 2000/XP。3. 記憶體：512MB以上。4.硬碟空間：30MB以上。軟體內容及功能：1.含程式碼及安裝檔。2.RGB格... \| 潛力預估: 可應用於印刷、設計等影像相關產業。可將低解析度圖檔轉換為高解析圖檔，具有提高印刷品畫質品級之功能。 @ 技術司可移轉技術資料集
數位浮水印，隱藏置入於印刷測試導表中	執行單位: 印研中心 \| 產出年度: 95 \| 產出單位: \| 計畫名稱: 高傳真精密印刷技術研發三年計畫 \| 領域: \| 技術規格: FM網點：Highlight；AM網點：Midtone＆Shadow； GCR：0-7階 \| 潛力預估: 可直接應用在精美畫冊和高級美術印刷品等方面，防止仿冒。 @ 技術司可移轉技術資料集
金屬色彩色票一份	執行單位: 印研中心 \| 產出年度: 95 \| 產出單位: \| 計畫名稱: 高傳真精密印刷技術研發三年計畫 \| 領域: \| 技術規格: 金屬色印刷技術，是以金屬色為滿版底，再以分色技術將CMYK色塊已不同比例之色階進行印刷，再藉由多角度分光光譜儀進行資料庫之建立，印刷線數為200線，四色網點為AM網點 \| 潛力預估: 未來可用於包裝彩盒及精美印刷 @ 技術司可移轉技術資料集
套色印刷套準對位回饋控制之方法與控制標	執行單位: 印研中心 \| 產出年度: 97 \| 產出單位: \| 計畫名稱: 高傳真精密印刷技術研發三年計畫 \| 領域: \| 技術規格: (1)套色對位控制標： CMYK； (2)輔助控制標/蠕印、雙影、解析度； (3)網格方框/套準度； (4)每色旋轉角度/3.75~6度 \| 潛力預估: 印刷技術人員可根據控制標快速判斷偏移進行對位調整，將可提升印刷作業之效率，減少試印時紙張與油墨之耗損。 @ 技術司可移轉技術資料集
IMD油墨電腦配色資料庫	執行單位: 印研中心 \| 產出年度: 97 \| 產出單位: \| 計畫名稱: 高傳真精密印刷技術研發三年計畫 \| 領域: \| 技術規格: (1)Specular：SPIN(含鏡面光)； (2)量測光源：D65； (3)視角：10°； (4)配方數：305組配方； (5)色差 \| 潛力預估: 本資料庫以四色CMYK配方模擬Pantone色票，印刷上可達接近特別色之效果。應用特別色電腦油墨配方將可簡化印刷工作流程、降低成本，提高印刷品之附加價值。 @ 技術司可移轉技術資料集

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輕量化高分子複材先期技術授權	執行單位: 工研院材料所 \| 產出年度: 93 \| 產出單位: \| 計畫名稱: 先進有機材料產業技術四年計畫 \| 領域: \| 技術規格: 塗佈技術規格：模厚40 mm ± 10%,預浸材規格：FAW = 100 g/m2，樹脂含量35~37%，耐衝擊性提升10 % \| 潛力預估: 預估國內複合材料在運動器材之應用需求超過 5000噸 / 年，可增加複材相關產業產值20億台幣以上。輕量化高分子複材，可提升複材之材料性能，提高產品設計之自由度。對應用產品之輕量化及提高附加價值均有...
高應答速度液晶材料先期技術授權	執行單位: 工研院材料所 \| 產出年度: 93 \| 產出單位: \| 計畫名稱: 先進有機材料產業技術四年計畫 \| 領域: \| 技術規格: 其他液晶參數:Δn = 0.1561，γ1 /κ11 =7.8 ，κ11 =1.15 e-11，γ1 = 90，FOM = 3.1，Vth = 1.74 V \| 潛力預估: 建立我國液晶材料配製、光電特性量測、評估技術能力；促成國內液晶顯示器產業垂直整合的完整性、技術開發完成攻佔市場後可搶佔數10億元以上之的收益。
新型配向材料技術先期技術授權	執行單位: 工研院材料所 \| 產出年度: 93 \| 產出單位: \| 計畫名稱: 先進有機材料產業技術四年計畫 \| 領域: \| 技術規格: 水平pre-tilt photo-tuned 0~10度,垂直pre-tilt photo-tuned 80~90度 \| 潛力預估: 可促進產值達50億元以上
低溫硬化互連導電材料先期技術授權	執行單位: 工研院材料所 \| 產出年度: 93 \| 產出單位: \| 計畫名稱: 先進有機材料產業技術四年計畫 \| 領域: \| 技術規格: \| 潛力預估: 1.高性能要求之電子構裝材料 2.需要特定加工操作溫度之熱硬化塗裝材料
電容去離子奈米複合碳電極材料開發	執行單位: 工研院材料所 \| 產出年度: 93 \| 產出單位: \| 計畫名稱: 工研院材料與化工領域環境建構計畫 \| 領域: \| 技術規格: 奈米複合碳電極材料具高放電電容量> 100 F/g；CDI去除率> 250 ppm/次 \| 潛力預估: 以商品化電化學電容器碳材為例，其最大放電電容量僅約100 F/g，目前材料所針對商用碳材以奈米一維材料表面修飾，可得一中孔性奈米結構碳材，其電容量可增加25~40%，預期其市場接受性高，且目前並無相...
奈米可見光光觸媒材料技術	執行單位: 工研院材料所 \| 產出年度: 93 \| 產出單位: \| 計畫名稱: 工研院材料與化工領域環境建構計畫 \| 領域: \| 技術規格: (1)摻有奈米氧化鋅粉(0.2wt.%)之大腸桿菌培養液在可見光(波長543nm/強度1500Lux)照射6小時後，細菌數目減少至原來之0.1%以下；(2)根據ASTM G21-96測試對黑麴黴菌(A... \| 潛力預估: 根據日本工業新聞的統計，2000年時日本光觸媒的年產值為70億日圓。預估到2005年時，日本的光觸媒產值將達100億日圓，約有新台幣28億元。使用光觸媒作為殺菌、消臭、防污的觀念，在日本已經十分普...
超薄型塗佈技術先期技術授權	執行單位: 工研院材料所 \| 產出年度: 93 \| 產出單位: \| 計畫名稱: 工研院材料與化工領域環境建構計畫 \| 領域: \| 技術規格: 乾膜厚度￡0.5μm、厚度均勻度395%, 塗佈寬度3300mm \| 潛力預估: 本技術可增進國內廠商建立上游材料的製作技術，建立如觸控面板、增亮膜、廣試角膜、抗反射膜、抗炫膜與其他光學補償膜等等，如果本土材料產業成功的話，可提供下游就近的材料提供與成本競爭力，預期可以有很大的產業...
計量式精密塗佈技術	執行單位: 工研院材料所 \| 產出年度: 93 \| 產出單位: \| 計畫名稱: 工研院材料與化工領域環境建構計畫 \| 領域: \| 技術規格: 乾膜厚度介於1~100μm之間、厚度均勻度395% \| 潛力預估: 舉凡各種光學膜，如彩色光阻、廣視角膜、增亮膜、偏光膜、補償膜、擴散片、塑膠基板及電池極板之製作，皆與「精密塗佈技術」為核心之關鍵技術互相牽連在一起，如有相關技術之建立,可促成工業供應鏈的齊全
奈米纖維材料製造與應用技術先期技術授權	執行單位: 工研院材料所 \| 產出年度: 93 \| 產出單位: \| 計畫名稱: 工研院材料與化工領域環境建構計畫 \| 領域: \| 技術規格: 複合奈米金屬線/纖維寬徑≦100nm，線/纖維長度≧20μm，長度/寬徑比(aspect ratio)> 200 \| 潛力預估: 開發複合奈米纖維材料製造技術及應用評估，以應用於儲能、微感測器、場發射平面顯示器上的材料使用，本技術包括奈米中空管、奈米金屬纖維、複合奈米金屬纖維之製造技術
奈米模板合成技術先期技術授權	執行單位: 工研院材料所 \| 產出年度: 93 \| 產出單位: \| 計畫名稱: 工研院材料與化工領域環境建構計畫 \| 領域: \| 技術規格: AAO模板的均勻孔洞直徑為最小可達50 nm，最大可達120nm, 模板厚度10 mm以上；AAO模板的面積可以達到200 mm x 200 mm \| 潛力預估: LCD、OLED、LED產業
功能性奈米粉體製造及應用技術先期技術授權	執行單位: 工研院材料所 \| 產出年度: 93 \| 產出單位: \| 計畫名稱: 工研院材料與化工領域環境建構計畫 \| 領域: \| 技術規格: 粉體之平均粒徑可操控在10 ~ 200 nm間，比表面積可高達240 m2/g以上，而粉體形狀可操控為球狀、棒狀或四足錐狀。遮蔽UV(>85%)及IR(>30%)光、可見光照射下抗菌(A>2)、疏水... \| 潛力預估: 根據美國SRI Consulting報告，2001年全球使用奈米粉體材料總價值已達31億美元。未來十年，市場規模會隨應用領域之開拓而急劇增加
奈米檢測技術-表面分析檢測技術應用先期技術授權	執行單位: 工研院材料所 \| 產出年度: 93 \| 產出單位: \| 計畫名稱: 工研院材料與化工領域環境建構計畫 \| 領域: \| 技術規格: 以微區ESCA技術分析表面/薄膜深度可 \| 潛力預估: 可應用在DLED開發高亮度、高發光效率
奈米導電粉體製造技術先期技術授權	執行單位: 工研院材料所 \| 產出年度: 93 \| 產出單位: \| 計畫名稱: 工研院材料與化工領域環境建構計畫 \| 領域: \| 技術規格: 奈米導電/磁性粉體粒徑小於30奈米，其外披覆有機殼層而呈核殼結構 \| 潛力預估: 電磁波遮蔽與高頻磁性應用之奈米粉體材料國內市場潛力約在新台幣24億元規模
軟凝態奈米混成材料分散及流變技術先期技術授權	執行單位: 工研院材料所 \| 產出年度: 93 \| 產出單位: \| 計畫名稱: 工研院材料與化工領域環境建構計畫 \| 領域: \| 技術規格: 塗膜厚度均勻性>90%，邊際效益< 2mm；3C放電容量維持率達94% \| 潛力預估: 自2005年起鋰電池電極板需求量激增，保守估計國內每月需求量9萬米平方產值約1.3億NT$
材料高頻電磁特性量測技術開發先期技術授權	執行單位: 工研院材料所 \| 產出年度: 93 \| 產出單位: \| 計畫名稱: 工研院材料與化工領域環境建構計畫 \| 領域: \| 技術規格: 高頻測試治具與測試標準評估與開發，其電氣特性符合:測試頻率：< 65 GHz, K Value：1 \| 潛力預估: 可提升廠商之高頻量測技術能力，強化對產品設計及特性之掌握度，加速產品進入市場的速度，提高競爭力