由具有二氧化鈰殼層之有機奈米研磨顆粒所組成之化學機械研磨漿料
- 技術司可移轉技術資料集 @ 經濟部

技術名稱-中文由具有二氧化鈰殼層之有機奈米研磨顆粒所組成之化學機械研磨漿料的執行單位是工研院能資所, 產出年度是94, 計畫名稱是工研院創新前瞻技術研究計畫, 技術規格是以0.25%之顆粒濃度為例，其磨除率可達到321.8(A/min)。本實施例所合成的研磨漿料對Oxide和Nitride的選擇比可達到4：1表面形貌分析，不論是在Oxide或Nitride的其研磨後之表面粗糙度皆在0～1.3 nm之間，研磨後之表面相當平整，且沒有存在著刮傷(scratch)的問題..., 潛力預估是目前國內外半導體廠之化學機械研磨製程，皆是使用無機型陶瓷顆粒(ceramic particles)所組成之研磨漿料，除日本JSR等研磨液供應商已開始積極開發由有機研磨顆粒組成之研磨液外，尚未有成熟之商業化產品推出。.

序號	1128
產出年度	94
技術名稱-中文	由具有二氧化鈰殼層之有機奈米研磨顆粒所組成之化學機械研磨漿料
執行單位	工研院能資所
產出單位	(空)
計畫名稱	工研院創新前瞻技術研究計畫
領域	(空)
已申請專利之國家	(空)
已獲得專利之國家	(空)
技術現況敘述-中文	開發一種具可分解性之高效能有機奈米研磨顆粒合成技術，藉由本技術的開發，將能製造出具有高穩定、高分散、高均一性之圓球狀奈米研磨顆粒，再配合奈米顆粒的表面改質技術，使其在有機顆粒表面形成特定的陶瓷殼層(coating layer,如CeO2、SiO2)，而能同時兼具高移除率、高選擇比及高平坦化之能力。
技術現況敘述-英文	(空)
技術規格	以0.25%之顆粒濃度為例，其磨除率可達到321.8(A/min)。本實施例所合成的研磨漿料對Oxide和Nitride的選擇比可達到4：1表面形貌分析，不論是在Oxide或Nitride的其研磨後之表面粗糙度皆在0～1.3 nm之間，研磨後之表面相當平整，且沒有存在著刮傷(scratch)的問題。
技術成熟度	概念
可應用範圍	半導體及其他具有研磨製程，使用研磨液之相關產業
潛力預估	目前國內外半導體廠之化學機械研磨製程，皆是使用無機型陶瓷顆粒(ceramic particles)所組成之研磨漿料，除日本JSR等研磨液供應商已開始積極開發由有機研磨顆粒組成之研磨液外，尚未有成熟之商業化產品推出。
聯絡人員	劉旭娟
電話	03-5913782
傳真	03-5835338
電子信箱	CherryHCLiu@itri.org.tw
參考網址	http://www.itri.org.tw/
所須軟硬體設備	奈米粒徑與界面電位分析儀，X光繞射儀，穿透式電子顯微鏡，原子力顯微鏡，化學機械混合式表面平坦系統
需具備之專業人才	具基礎化學，半導體製程之基礎概念與能力者及分析儀器如奈米粒徑與界面電位分析儀操作經驗

序號

1128

產出年度

技術名稱-中文

由具有二氧化鈰殼層之有機奈米研磨顆粒所組成之化學機械研磨漿料

執行單位

工研院能資所

產出單位

(空)

計畫名稱

工研院創新前瞻技術研究計畫

領域

(空)

已申請專利之國家

(空)

已獲得專利之國家

(空)

技術現況敘述-中文

開發一種具可分解性之高效能有機奈米研磨顆粒合成技術，藉由本技術的開發，將能製造出具有高穩定、高分散、高均一性之圓球狀奈米研磨顆粒，再配合奈米顆粒的表面改質技術，使其在有機顆粒表面形成特定的陶瓷殼層(coating layer,如CeO2、SiO2)，而能同時兼具高移除率、高選擇比及高平坦化之能力。

技術現況敘述-英文

(空)

技術規格

以0.25%之顆粒濃度為例，其磨除率可達到321.8(A/min)。本實施例所合成的研磨漿料對Oxide和Nitride的選擇比可達到4：1表面形貌分析，不論是在Oxide或Nitride的其研磨後之表面粗糙度皆在0～1.3 nm之間，研磨後之表面相當平整，且沒有存在著刮傷(scratch)的問題。

技術成熟度

概念

可應用範圍

半導體及其他具有研磨製程，使用研磨液之相關產業

潛力預估

目前國內外半導體廠之化學機械研磨製程，皆是使用無機型陶瓷顆粒(ceramic particles)所組成之研磨漿料，除日本JSR等研磨液供應商已開始積極開發由有機研磨顆粒組成之研磨液外，尚未有成熟之商業化產品推出。

聯絡人員

劉旭娟

電話

03-5913782

傳真

03-5835338

電子信箱

CherryHCLiu@itri.org.tw

參考網址

http://www.itri.org.tw/

所須軟硬體設備

奈米粒徑與界面電位分析儀，X光繞射儀，穿透式電子顯微鏡，原子力顯微鏡，化學機械混合式表面平坦系統

需具備之專業人才

具基礎化學，半導體製程之基礎概念與能力者及分析儀器如奈米粒徑與界面電位分析儀操作經驗

根據名稱由具有二氧化鈰殼層之有機奈米研磨顆粒所組成之化學機械研磨漿料找到的相關資料

無其他由具有二氧化鈰殼層之有機奈米研磨顆粒所組成之化學機械研磨漿料資料。

[ 搜尋所有 由具有二氧化鈰殼層之有機奈米研磨顆粒所組成之化學機械研磨漿料 ... ]

根據電話 03-5913782 找到的相關資料

(以下顯示 7 筆) (或要:直接搜尋所有 03-5913782 ...)

12吋晶圓廠製程排水回收計畫	執行單位: 工研院能資所 \| 產出年度: 93 \| 產出單位: \| 計畫名稱: 永續資源技術開發三年計畫 \| 領域: \| 技術規格: 協助廠商提升水回收率10~15% \| 潛力預估: 根據力晶12吋廠實際推動的經驗，不僅可提升回收水質與水回率，且因機台排管分流資料庫的建立，大幅提升污染事故的處置效率與經濟效益。 @ 技術司可移轉技術資料集
12吋晶圓廠製程生產用水規劃	執行單位: 工研院能資所 \| 產出年度: 93 \| 產出單位: \| 計畫名稱: 工研院永續發展領域環境建構計畫 \| 領域: \| 技術規格: 協助廠商去除水中有機物達回收限值1ppm以下 \| 潛力預估: 提升TOC處理效率，節省用藥成本與降低環境二次污染的風險。 @ 技術司可移轉技術資料集
實廠機台排水分流回收技術	執行單位: 工研院能資所 \| 產出年度: 94 \| 產出單位: \| 計畫名稱: 高科技產業用水技術開發計畫 \| 領域: \| 技術規格: \| 潛力預估: 1.機台排水特性資料建置完整。2.回收系統穩定評估。 @ 技術司可移轉技術資料集
工業級製程廢水UV/O3氧化技術	執行單位: 工研院能資所 \| 產出年度: 94 \| 產出單位: \| 計畫名稱: 工研院環安與資源領域環境建構計畫 \| 領域: \| 技術規格: \| 潛力預估: 提供穩定控制超純水產水水質與提升製程良率之重要關鍵。 @ 技術司可移轉技術資料集
固相吸附材質特性分析評估	執行單位: 工研院能資所 \| 產出年度: 94 \| 產出單位: \| 計畫名稱: 工研院環安與資源領域環境建構計畫 \| 領域: \| 技術規格: 吸附材料具備疏水性，耐高溫(> 300℃) \| 潛力預估: 提升微污染有機物之吸附效能、提高分析檢測靈敏度 @ 技術司可移轉技術資料集
水中塑化劑固相濃縮檢測技術	執行單位: 工研院能環所 \| 產出年度: 95 \| 產出單位: \| 計畫名稱: 能源與環境領域環境建構計畫 \| 領域: \| 技術規格: 水中微量有機物偵測範圍ppt~ppb level。 \| 潛力預估: 可線上處理並檢測水中或液態樣品中微量有機物 @ 技術司可移轉技術資料集
奈米碳管作為吸附材料製備固相萃取柱介質之方法	執行單位: 工研院能環所 \| 產出年度: 95 \| 產出單位: \| 計畫名稱: 能源與環境領域環境建構計畫 \| 領域: \| 技術規格: 奈米碳管/玻璃載體之複合固相萃取柱介質尺寸為100~1000 μm，且耐受溫度大於300℃。 \| 潛力預估: 將奈米碳管與其它材料以一定的比例複合而製備，進而形成一種具有奈米碳管之複合吸附材料所組成之固相萃取柱介質，將其應用於分析及其他具有水處理單元，使用吸附劑之相關產業。 @ 技術司可移轉技術資料集

[ 搜尋所有 03-5913782 ... ]

在『技術司可移轉技術資料集』資料集內搜尋:

與由具有二氧化鈰殼層之有機奈米研磨顆粒所組成之化學機械研磨漿料同分類的技術司可移轉技術資料集

奈米導電粉體製造技術先期技術授權	執行單位: 工研院材料所 \| 產出年度: 93 \| 產出單位: \| 計畫名稱: 工研院材料與化工領域環境建構計畫 \| 領域: \| 技術規格: 奈米導電/磁性粉體粒徑小於30奈米，其外披覆有機殼層而呈核殼結構 \| 潛力預估: 電磁波遮蔽與高頻磁性應用之奈米粉體材料國內市場潛力約在新台幣24億元規模
軟凝態奈米混成材料分散及流變技術先期技術授權	執行單位: 工研院材料所 \| 產出年度: 93 \| 產出單位: \| 計畫名稱: 工研院材料與化工領域環境建構計畫 \| 領域: \| 技術規格: 塗膜厚度均勻性>90%，邊際效益< 2mm；3C放電容量維持率達94% \| 潛力預估: 自2005年起鋰電池電極板需求量激增，保守估計國內每月需求量9萬米平方產值約1.3億NT$
材料高頻電磁特性量測技術開發先期技術授權	執行單位: 工研院材料所 \| 產出年度: 93 \| 產出單位: \| 計畫名稱: 工研院材料與化工領域環境建構計畫 \| 領域: \| 技術規格: 高頻測試治具與測試標準評估與開發，其電氣特性符合:測試頻率：< 65 GHz, K Value：1 \| 潛力預估: 可提升廠商之高頻量測技術能力，強化對產品設計及特性之掌握度，加速產品進入市場的速度，提高競爭力
多元合金細晶及成形技術先期技術授權	執行單位: 工研院材料所 \| 產出年度: 93 \| 產出單位: \| 計畫名稱: 工研院材料與化工領域環境建構計畫 \| 領域: \| 技術規格: 鎂鋁合金材料晶粒尺寸﹤1mm、鎂鋁合金材料伸長率> 300%、多元合金塗層具有﹤5w /m. k之熱傳導率及Hv500以上之硬度 \| 潛力預估: 3C產品鎂鋁合金外殼產值目前有80億, 預估每年有20-30%之成長率
奈米一維材料製造技術-垂直氧化鋅奈米線技術先期技術授權	執行單位: 工研院材料所 \| 產出年度: 93 \| 產出單位: \| 計畫名稱: 工研院材料與化工領域環境建構計畫 \| 領域: \| 技術規格: 一維氧化鋅奈米線材料之垂直有序排列的技術：氧化鋅奈米線/纖維材料之成長於Si基板角度為70o~90o；氧化鋅奈米線/纖維材料之寬徑30~300nm；氧化鋅奈米線/纖維材料長度≧2.5μm \| 潛力預估: 本研究初期成果已克服了垂直氧化鋅奈米線在矽基板成長之障礙，並且成功驗證垂直氧化鋅奈米線在場發射功能，在此有利之基礎上,提高控制性與大面積之成長技術建立強化,並對於多種性質之其它光電元件用基板材之實施,...
微波材料測試治具開發技術授權	執行單位: 工研院材料所 \| 產出年度: 93 \| 產出單位: \| 計畫名稱: 工研院材料與化工領域環境建構計畫 \| 領域: \| 技術規格: 材料K,Q量測, 測試頻率＜65GHz, 1＜K＜100,10＜Q＜1’10000,誤差￡±0.5% \| 潛力預估: 建立壓電膜材之壓電參數量測技術，支援相關應用產品開發。提供確認壓電膜材製作技術與產品設計開發可行性評估。可以利用已有的技術開發國內還沒有的量測系統，提供壓電薄膜在wafer level階段時的定量量...
高離子導電性質子傳導膜應用評估技術	執行單位: 工研院材料所 \| 產出年度: 93 \| 產出單位: \| 計畫名稱: 工研院創新前瞻技術研究計畫 \| 領域: \| 技術規格: *‧半氟系磺酸化離子高分子材料 ‧質子導電度：810-2 S/cm ‧甲醇穿透度：810-7 cm2/sec ‧膨潤性：40-60wt% ‧耐熱性：>250℃* \| 潛力預估: 攜帶型產品電力消耗與日遽增，在今日電子產品小型化、多功能化的趨勢下，對電池的要求也日漸升高。目前鋰電池的能量密度已接近發展的極限(500～600Whr/l)，未來高能量密度電池之開發為目前各消費電子大...
化學鍍活化液與其化學鍍技術	執行單位: 工研院材料所 \| 產出年度: 93 \| 產出單位: \| 計畫名稱: 工研院創新前瞻技術研究計畫 \| 領域: \| 技術規格: ‧化學鍍速率>0.25 ug/cm2.S ‧粒子平均粒徑12個月 \| 潛力預估: 化學鍍活化液及其化學鍍技術，為一針對未來實行化學鍍進行超薄薄膜製程與習用化學鍍活化液缺點所設計，是以金屬奈米粒子觀念為出發點，當隨粒子粒徑越小時，比表面積越高，催化活性也越強，再加上粒子表面有有機穩定...
MB-OFDM UWB Matlab Baseband Simulation Platform	執行單位: 中科院電子所 \| 產出年度: 93 \| 產出單位: \| 計畫名稱: 超寬頻系統平台與IP發展四年計畫 \| 領域: \| 技術規格: - 符合MB-OFDM UWB PHY v1.0規範之Matlab floating-point與fixed-point simulation platform。 - Group A，B，C，D，E ... \| 潛力預估: 可搶攻UWB、Wireless USB等市場，極具市場潛力
O-PET光學膜配方及研製技術	執行單位: 工研院化工所 \| 產出年度: 93 \| 產出單位: \| 計畫名稱: 精密與機能性化學技術開發與應用四年計畫 \| 領域: \| 技術規格: 薄膜透光率≧85﹪、吸水率0.4、耐熱溫度≧150℃，且延伸倍率可達3倍以上。 \| 潛力預估: 目前既有產品多為國外日本進口，價格昂貴，且都已鍍好ITO膜，售價達2500元 NT/m2。本技術為自行開發O-PET光學級酯粒材料及其雙軸製膜技術，自製膜材料＜100元 NT/m2，而二次加工處理導電...
有機無機混成耐磨耗材料與製程技術	執行單位: 工研院化工所 \| 產出年度: 93 \| 產出單位: \| 計畫名稱: 精密與機能性化學技術開發與應用四年計畫 \| 領域: \| 技術規格: 水性系統材料硬度可達: H 溶劑系統材料硬度可達: 塑膠基材可達2~3 H，玻璃基材可達5~7 H \| 潛力預估: 有機無機混成材料相關技術之建立可開發具有尺寸安定、低膨脹係數、高阻水氣及氧氣、高接著性、高耐熱、高透明性及可變折射率之特性，此材料相關產品可衍生應用於於耐磨耗、抗反射之薄膜塗層開發，以及高經濟價值之多...
平面光波導製程技術	執行單位: 工研院化工所 \| 產出年度: 93 \| 產出單位: \| 計畫名稱: 精密與機能性化學技術開發與應用四年計畫 \| 領域: \| 技術規格: 傳遞損失TE (TransverseElectric)：0.47dB TM (Transverse Magnetic) ： 0.51 dB/cm 極化損失(PDL): 0.03 dB(1.31) ... \| 潛力預估: 此技術成果的最大效益在於發展低成本、高品質且易於大量生產製造的光通訊被動元件。有別於以往成本較高、製作過程繁瑣的傳統光通訊元件，如能以旋轉塗佈與黃光製程的製造方式取代以往的FHD+RIE製程，不僅可大...
無鹵無磷難燃複合材料技術	執行單位: 工研院化工所 \| 產出年度: 93 \| 產出單位: \| 計畫名稱: 精密與機能性化學技術開發與應用四年計畫 \| 領域: \| 技術規格: 燃劑開發奈米混成複材基板，達到所需規格，Tg 3 150℃，Z軸膨脹率α1 ￡ 70 ppm/ oC, α2￡ 300ppm/ oC, UL94V-0以及copper peel strength≧8 ... \| 潛力預估: ‧難燃機電應用：如絕緣礙子、筆記型電腦外殼、印刷電路板，OA產品外殼等等 ‧高級建材產品：如捷運第三軌，機電工程等等
無鹵無磷高尺寸安定性奈米基板材料開發	執行單位: 工研院化工所 \| 產出年度: 93 \| 產出單位: \| 計畫名稱: 精密與機能性化學技術開發與應用四年計畫 \| 領域: \| 技術規格: - 難燃性UL94-V0 - Tg 3 G6 - Z軸膨脹率( 50→260℃) ￡ 3.5 % - Solderability( 288℃) > 5min - peel strength : 8~1... \| 潛力預估: 高尺寸安定性奈米FR-4：高尺寸安定奈米FR-4之市場切入點在於取代目前high Tg基板（目前約佔FR-4之5~10%，大中華地區約30~50億NT，未來可能成長至20%，超過100億NT）。無...
新型OLED藍色發光材料及其合成技術	執行單位: 工研院化工所 \| 產出年度: 93 \| 產出單位: \| 計畫名稱: 精密與機能性化學技術開發與應用四年計畫 \| 領域: \| 技術規格: 最終材料產品，產率 > 45 %。光激發與電激發光譜範圍：380 ~ 470nm。玻璃轉移溫度 > 120 ℃。裂解溫度 > 430 ℃。 \| 潛力預估: 本產品可應用於低成本FPD與平面光源，相關材料技術亦可應用於一般有機光電元件，如：太陽能電池、塑膠IC、感測元件…等。預估技術衍生之相關應用產品產值可達新台幣 50 億以上。