三氯乙烯基因表現分析系統電子化系統開發
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技術名稱-中文三氯乙烯基因表現分析系統電子化系統開發的執行單位是生技中心, 產出年度是96, 計畫名稱是環保生技產品與技術研發四年計畫, 技術規格是降解污染物的基因表現雛形系統，適用的濃度偵測範圍為：四氯乙烯(250~10μg/L)、三氯乙烯(1000~50μg/L)、二氯乙烯(5000~240μg/L)、酚(2500~100μg/L)、苯(100~5μg/L)、甲苯(500~10μg/L)、乙苯(600~25μg/L)、二甲苯(1000~10..., 潛力預估是此技術平台除針對氯化乙烯和苯環類化合物以外，更可擴展至其他污染物的去除工作上，包括五氯酚、二氯乙烷、油品污染物、甲基第三級丁基醚、臭味性物質去除、有機廢棄物資源化等難分解有機污染物的處理系統中，用以評估污染物的濃度，並建立污染物的去除條件，強化生物處理系統的效能。在水處理的工作上有極佳的應用性，可達....

序號	2250
產出年度	96
技術名稱-中文	三氯乙烯基因表現分析系統電子化系統開發
執行單位	生技中心
產出單位	(空)
計畫名稱	環保生技產品與技術研發四年計畫
領域	(空)
已申請專利之國家	(空)
已獲得專利之國家	(空)
技術現況敘述-中文	以微生物基因表現偵測技術建立有機物降解效能評估技術。結合DNA和RNA表現的分析技術，先應用DNA分析技術測定生物處理的可行性，並找出降解污染物的功能性微生物，再進行基因表現能力的測定，一方面可用來確認現地條件下微生物降解污染物的能力，並可經由測定各不同操作條件下代謝污染物的基因表現量，以建立最適操作條件，另一方面可於污染現地即時監控污染物的濃度變化。本偵測系統可應用於四氯乙烯、三氯乙烯、二氯乙烯、酚、苯、甲苯、乙苯、二甲苯等化合物的污染濃度測定和降解條件調控。能達成建立最適化的操作條件和掌握污染物去除量的雙重目的。
技術現況敘述-英文	(空)
技術規格	降解污染物的基因表現雛形系統，適用的濃度偵測範圍為：四氯乙烯(250~10μg/L)、三氯乙烯(1000~50μg/L)、二氯乙烯(5000~240μg/L)、酚(2500~100μg/L)、苯(100~5μg/L)、甲苯(500~10μg/L)、乙苯(600~25μg/L)、二甲苯(1000~10μg/L)。應用時採用0.3個吸光單位的微生物個體量即可進行基因表現的偵測，偵測時程可於2小時內完成，測定數據數位化，方便測定數據的後續處理。測試系統中可表現冷光的微生物之保存期限達六個月以上。
技術成熟度	實驗室階段
可應用範圍	可應用於石化業和受污染土壤及地下水的整治工作上，未來除可立即應用於此類污染物的生物處理工作外，亦可依據相同模式擴及其他污染物的生物處理系統。
潛力預估	此技術平台除針對氯化乙烯和苯環類化合物以外，更可擴展至其他污染物的去除工作上，包括五氯酚、二氯乙烷、油品污染物、甲基第三級丁基醚、臭味性物質去除、有機廢棄物資源化等難分解有機污染物的處理系統中，用以評估污染物的濃度，並建立污染物的去除條件，強化生物處理系統的效能。在水處理的工作上有極佳的應用性，可達到快速提昇廢水處理效能的目的。
聯絡人員	張靜宜
電話	02-26956933#1502
傳真	02-26958463
電子信箱	cichang@mail.dcb.org.tw
參考網址	http://www.dcb.org.tw/
所須軟硬體設備	冷光分析儀，PCR等DNA操作分析用儀器，-20℃低溫冰箱
需具備之專業人才	環境工程，微生物，分子生物技術

序號

2250

產出年度

技術名稱-中文

三氯乙烯基因表現分析系統電子化系統開發

執行單位

生技中心

產出單位

(空)

計畫名稱

環保生技產品與技術研發四年計畫

領域

(空)

已申請專利之國家

(空)

已獲得專利之國家

(空)

技術現況敘述-中文

以微生物基因表現偵測技術建立有機物降解效能評估技術。結合DNA和RNA表現的分析技術，先應用DNA分析技術測定生物處理的可行性，並找出降解污染物的功能性微生物，再進行基因表現能力的測定，一方面可用來確認現地條件下微生物降解污染物的能力，並可經由測定各不同操作條件下代謝污染物的基因表現量，以建立最適操作條件，另一方面可於污染現地即時監控污染物的濃度變化。本偵測系統可應用於四氯乙烯、三氯乙烯、二氯乙烯、酚、苯、甲苯、乙苯、二甲苯等化合物的污染濃度測定和降解條件調控。能達成建立最適化的操作條件和掌握污染物去除量的雙重目的。

技術現況敘述-英文

(空)

技術規格

降解污染物的基因表現雛形系統，適用的濃度偵測範圍為：四氯乙烯(250~10μg/L)、三氯乙烯(1000~50μg/L)、二氯乙烯(5000~240μg/L)、酚(2500~100μg/L)、苯(100~5μg/L)、甲苯(500~10μg/L)、乙苯(600~25μg/L)、二甲苯(1000~10μg/L)。應用時採用0.3個吸光單位的微生物個體量即可進行基因表現的偵測，偵測時程可於2小時內完成，測定數據數位化，方便測定數據的後續處理。測試系統中可表現冷光的微生物之保存期限達六個月以上。

技術成熟度

實驗室階段

可應用範圍

可應用於石化業和受污染土壤及地下水的整治工作上，未來除可立即應用於此類污染物的生物處理工作外，亦可依據相同模式擴及其他污染物的生物處理系統。

潛力預估

此技術平台除針對氯化乙烯和苯環類化合物以外，更可擴展至其他污染物的去除工作上，包括五氯酚、二氯乙烷、油品污染物、甲基第三級丁基醚、臭味性物質去除、有機廢棄物資源化等難分解有機污染物的處理系統中，用以評估污染物的濃度，並建立污染物的去除條件，強化生物處理系統的效能。在水處理的工作上有極佳的應用性，可達到快速提昇廢水處理效能的目的。

聯絡人員

張靜宜

電話

02-26956933#1502

傳真

02-26958463

電子信箱

cichang@mail.dcb.org.tw

參考網址

http://www.dcb.org.tw/

所須軟硬體設備

冷光分析儀，PCR等DNA操作分析用儀器，-20℃低溫冰箱

需具備之專業人才

環境工程，微生物，分子生物技術

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甲醇/甲醛偵測用生物感測器開發	執行單位: 生技中心 \| 產出年度: 96 \| 產出單位: \| 計畫名稱: 環保生技產品與技術研發四年計畫 \| 領域: \| 技術規格: 偵測時間 \| 潛力預估: 假酒事件頻仍、新建築蓬勃，加上室內空氣品質相關法規陸續公佈，可預見未來現地即時偵測之需求將日益提高，攜帶式快速檢測儀器將具有極大的利基與市場潛力。 @ 技術司可移轉技術資料集
乙醇偵測用生物感測器開發	執行單位: 生技中心 \| 產出年度: 96 \| 產出單位: \| 計畫名稱: 環保生技產品與技術研發四年計畫 \| 領域: \| 技術規格: 偵測時間 \| 潛力預估: 驂水偽酒充斥導致消費者上當受騙；酒後駕車易導致己身與公共危險，利用唾液偵測具備快速簡易非侵入性之特質，可有效避免交通事故發生。 @ 技術司可移轉技術資料集
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微波吸收材應用開發	執行單位: 中科院軍民通用中心 \| 產出年度: 93 \| 產出單位: \| 計畫名稱: 材料與化工領域資源釋商科專計畫 \| 領域: \| 技術規格: 可量產製作，長寬可依合作廠商工廠機具現況設計彈性開發應用。 \| 潛力預估: 生產所需機具成本較高。
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集束型製程設備真空輸送平台系統技術	執行單位: 中科院飛彈所 \| 產出年度: 93 \| 產出單位: \| 計畫名稱: 新興產業精密機械系統關鍵技術研究發展三年計畫 \| 領域: \| 技術規格: ．主腔型態:六面腔或八面腔，真空度: 1×10-7Torr，控制介面: RS232，硬體介面:符合SEMI標準規範，晶圓尺寸：200mm/300mm \| 潛力預估: 集束型設備，具有節省空間及時間等效益，為現階段半導體廠常見之設備組態方式，而集束型真空輸送平台系統為集束型設備不可或缺之設備之一，目前此類設備均為外購，深具市場潛力。
半導體基材輸送設備控制器開發技術	執行單位: 中科院飛彈所 \| 產出年度: 93 \| 產出單位: \| 計畫名稱: 新興產業精密機械系統關鍵技術研究發展三年計畫 \| 領域: \| 技術規格: 符合SEMI SECS標準、元件化組裝方便 \| 潛力預估: 目前國內所使用半導體設備控制器多為國外產品或由國內廠商針對單一機台所開發控制器，其架構多為封閉式架構，不易修改或維護，本產品採開放式多層架構，元件化設計，組裝方便，可依不同機台快速組裝與抽換
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磁性聯軸器設計開發技術	執行單位: 中科院飛彈所 \| 產出年度: 93 \| 產出單位: \| 計畫名稱: 新興產業精密機械系統關鍵技術研究發展三年計畫 \| 領域: \| 技術規格: 真空度: 10-9Torr、傳輸扭矩: 50N-m \| 潛力預估: 磁性聯軸器為用於半導體設備中作為高真空隔離之運動件介面，由於目前半導體與平面額示器等製程設備之真空度要求日益增加，則本產品之市場潛力亦日益提升。
半導體前段設備標準通標模組	執行單位: 中科院飛彈所 \| 產出年度: 93 \| 產出單位: \| 計畫名稱: 新興產業精密機械系統關鍵技術研究發展三年計畫 \| 領域: \| 技術規格: 符合SEMI SECSI, SECSII, HSMS標準、符合微軟公司COM元件標準 \| 潛力預估: SECSI, SECSII, HSMS為半導體前段製程設備機台必需遵循之標準，本產品為標準通訊模組，目前此類標準通訊模組多使用國外產品，國內市場廣大，可配合未來國內自製機台使用，潛力無窮。
300mm電子迴旋共振高密度電漿化學氣相沉積機台	執行單位: 中科院飛彈所 \| 產出年度: 93 \| 產出單位: \| 計畫名稱: 新興產業精密機械系統關鍵技術研究發展三年計畫 \| 領域: \| 技術規格: 沉積率:2,500A/min，沉積溫度低於350℃，沉積均勻度為3% \| 潛力預估: 為我國從民國87年起，投資LCD相關產業約新台幣 2,000億元，LCD全球市場在民國94年將達390億美元，而全球設備產業將達61億美元，其中LCD前段製程設備則佔33億美元。本機台可應用在半導體...
300mm電子迴旋共振高密度電漿蝕刻機台	執行單位: 中科院飛彈所 \| 產出年度: 93 \| 產出單位: \| 計畫名稱: 新興產業精密機械系統關鍵技術研究發展三年計畫 \| 領域: \| 技術規格: ．蝕刻300mm 晶圓之0.25μ細線．蝕刻速率為2,500 A /min ．蝕刻均勻度小於3 % \| 潛力預估: TFT-LCD之蝕刻、清洗