技術名稱-中文手指指向偵測系統及方法(國立交通大學電腦視覺研發中心)的執行單位是學界科專辦公室, 產出年度是99, 計畫名稱是學界科專計畫, 技術規格是本發明提出一種手指指向偵測系統及方法，可同時達到穩定及簡便之優點，並可允許使用者之手部於空間中任意移動。本發明之主要目的係在提供一種手指指向偵測系統及方法，可偵測出使用者指向空間中一平面上之任意目標點，並具有高辨析度及高準確率之優點。本發明之另一目的係在提供一種不需使用任何外加手部裝置或標誌之手指指..., 潛力預估是可技術移轉、建教合作.
| 序號 | 4462 |
| 產出年度 | 99 |
| 技術名稱-中文 | 手指指向偵測系統及方法(國立交通大學電腦視覺研發中心) |
| 執行單位 | 學界科專辦公室 |
| 產出單位 | (空) |
| 計畫名稱 | 學界科專計畫 |
| 領域 | (空) |
| 已申請專利之國家 | (空) |
| 已獲得專利之國家 | (空) |
| 技術現況敘述-中文 | 國家：中華民國
專利證書號碼： I289203
專利權終止日：20260511 |
| 技術現況敘述-英文 | (空) |
| 技術規格 | 本發明提出一種手指指向偵測系統及方法，可同時達到穩定及簡便之優點，並可允許使用者之手部於空間中任意移動。本發明之主要目的係在提供一種手指指向偵測系統及方法，可偵測出使用者指向空間中一平面上之任意目標點，並具有高辨析度及高準確率之優點。本發明之另一目的係在提供一種不需使用任何外加手部裝置或標誌之手指指向偵測系統及方法，其係使用數台影像擷取器以及一處理器，擷取使用者之手部影像並進行影像處理步驟，操作簡單且允許使用者之手部於空間中任意移動。本發明係以兩台影像擷取裝置擷取使用者之數張手部影像，並預先求出每一影像擷取裝置之影像平面座標系統與工作平面的座標系統間之座標轉換程式，接著以一處理器對擷取之數張手部影像進行影像處理求出數條手指指向線，利用座標轉換程式轉換出手指指向線於工作平面上的投影線，最後計算數條投影線之交點，即為使用者手指指向之目標點。 |
| 技術成熟度 | 雛形 |
| 可應用範圍 | 電玩遊戲指標工具之人機介面、簡報系統、看護系統或智慧型房間 |
| 潛力預估 | 可技術移轉、建教合作 |
| 聯絡人員 | 張志華 |
| 電話 | 03-5738251 |
| 傳真 | 03-5131441 |
| 電子信箱 | alpha@mail.nctu.edu.tw |
| 參考網址 | http://www.tlo.nctu.edu.tw |
| 所須軟硬體設備 | 攝影機、電腦 |
| 需具備之專業人才 | 影像處理 |
序號4462 |
產出年度99 |
技術名稱-中文手指指向偵測系統及方法(國立交通大學電腦視覺研發中心) |
執行單位學界科專辦公室 |
產出單位(空) |
計畫名稱學界科專計畫 |
領域(空) |
已申請專利之國家(空) |
已獲得專利之國家(空) |
技術現況敘述-中文國家：中華民國
專利證書號碼： I289203
專利權終止日：20260511 |
技術現況敘述-英文(空) |
技術規格本發明提出一種手指指向偵測系統及方法，可同時達到穩定及簡便之優點，並可允許使用者之手部於空間中任意移動。本發明之主要目的係在提供一種手指指向偵測系統及方法，可偵測出使用者指向空間中一平面上之任意目標點，並具有高辨析度及高準確率之優點。本發明之另一目的係在提供一種不需使用任何外加手部裝置或標誌之手指指向偵測系統及方法，其係使用數台影像擷取器以及一處理器，擷取使用者之手部影像並進行影像處理步驟，操作簡單且允許使用者之手部於空間中任意移動。本發明係以兩台影像擷取裝置擷取使用者之數張手部影像，並預先求出每一影像擷取裝置之影像平面座標系統與工作平面的座標系統間之座標轉換程式，接著以一處理器對擷取之數張手部影像進行影像處理求出數條手指指向線，利用座標轉換程式轉換出手指指向線於工作平面上的投影線，最後計算數條投影線之交點，即為使用者手指指向之目標點。 |
技術成熟度雛形 |
可應用範圍電玩遊戲指標工具之人機介面、簡報系統、看護系統或智慧型房間 |
潛力預估可技術移轉、建教合作 |
聯絡人員張志華 |
電話03-5738251 |
傳真03-5131441 |
電子信箱alpha@mail.nctu.edu.tw |
參考網址http://www.tlo.nctu.edu.tw |
所須軟硬體設備攝影機、電腦 |
需具備之專業人才影像處理 |
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| 執行單位: 學界科專辦公室 | 產出年度: 99 | 產出單位: | 計畫名稱: 學界科專計畫 | 領域: | 技術規格: 本發明為一種攝影機參數校正方法，主要是基於受到地心引力影響的運動物體對攝影機或相機進行校正。此方法首先使運動物體由於受到的地心引力影響而構成拋物線之運動軌跡、使攝影機以特定的快門速度，對在運動路徑中運... | 潛力預估: 可技術移轉、建教合作 @ 技術司可移轉技術資料集 |
| 執行單位: 學界科專辦公室 | 產出年度: 99 | 產出單位: | 計畫名稱: 學界科專計畫 | 領域: | 技術規格: ?本發明智慧型監控分析系統與方法，主要用來監控場所中是否存在有入侵物件(例如小偷)，並即時地把關於小偷的影像或圖像傳給相關者(例如屋主)，以提供屋主自行判定是否確實有小偷，不至於電腦誤判。在本發明系統... | 潛力預估: 可技術移轉、建教合作 @ 技術司可移轉技術資料集 |
| 執行單位: 學界科專辦公室 | 產出年度: 99 | 產出單位: | 計畫名稱: 學界科專計畫 | 領域: | 技術規格: 本發明提供一種增進連續輸入影像時車牌偵測效能之方法及系統，其係透過時空特性以減少搜尋空間來達成，包括一文字邊緣偵測模組、車牌字元候選區域偵測模組及重複區域偵測模組，首先從輸入系統之影像中偵測可能的文字... | 潛力預估: 可技術移轉、建教合作 @ 技術司可移轉技術資料集 |
| 執行單位: 學界科專辦公室 | 產出年度: 99 | 產出單位: | 計畫名稱: 學界科專計畫 | 領域: | 技術規格: 本發明係一種用於影像擷取裝置的校正方法,乃針對單一影像擷取裝置與多台影像擷取裝置的動態校正方法,對一單一影像擷取裝置主要是利用影像特徵點位移來獲取轉動角度與傾斜角度的變化量,對於多台影像擷取裝置則再加... | 潛力預估: 可技術移轉、建教合作 @ 技術司可移轉技術資料集 |
| 執行單位: 學界科專辦公室 | 產出年度: 99 | 產出單位: | 計畫名稱: 學界科專計畫 | 領域: | 技術規格: 本發明係關於一種整合式影像監視系統，將多個攝影機的視訊整合於一大範圍的影像，並可快速平順地切換監控角度，以用來監控一區域之整合系統及其對應之方法。 | 潛力預估: 可技術移轉、建教合作 @ 技術司可移轉技術資料集 |
| 執行單位: 學界科專辦公室 | 產出年度: 99 | 產出單位: | 計畫名稱: 學界科專計畫 | 領域: | 技術規格: 本發明揭露一種移動物體偵測方法,包含提供一影像集合,影像集合至少包含具有時間序列關係的第一影像與第二影像,且第一影像早於第二影像,在第一影像的適當區域設定一偵測範圍,移動偵測範圍以形成一移動向量。藉由... | 潛力預估: 可技術移轉、建教合作 @ 技術司可移轉技術資料集 |
| 執行單位: 學界科專辦公室 | 產出年度: 99 | 產出單位: | 計畫名稱: 學界科專計畫 | 領域: | 技術規格: 本發明係揭露一種利用超音波與電腦視覺偵測之自動導航裝置及其導航方法,首先讓一使用者帶領一自動導航裝置,使自動導航裝置學習並規劃一航行路徑,接著使自動導航裝置獨立導航,且於此時可利用超音波與電腦視覺偵測... | 潛力預估: 可技術移轉、建教合作 @ 技術司可移轉技術資料集 |
執行單位: 學界科專辦公室 | 產出年度: 99 | 產出單位: | 計畫名稱: 學界科專計畫 | 領域: | 技術規格: 美國，證書號: 7368822B2，有效期限: 2006/03/17~2026/03/16 | 潛力預估: 雛形 @ 技術司可移轉技術資料集 |
執行單位: 學界科專辦公室 | 產出年度: 99 | 產出單位: | 計畫名稱: 學界科專計畫 | 領域: | 技術規格: 本發明為一種攝影機參數校正方法，主要是基於受到地心引力影響的運動物體對攝影機或相機進行校正。此方法首先使運動物體由於受到的地心引力影響而構成拋物線之運動軌跡、使攝影機以特定的快門速度，對在運動路徑中運... | 潛力預估: 可技術移轉、建教合作 @ 技術司可移轉技術資料集 |
執行單位: 學界科專辦公室 | 產出年度: 99 | 產出單位: | 計畫名稱: 學界科專計畫 | 領域: | 技術規格: ?本發明智慧型監控分析系統與方法，主要用來監控場所中是否存在有入侵物件(例如小偷)，並即時地把關於小偷的影像或圖像傳給相關者(例如屋主)，以提供屋主自行判定是否確實有小偷，不至於電腦誤判。在本發明系統... | 潛力預估: 可技術移轉、建教合作 @ 技術司可移轉技術資料集 |
執行單位: 學界科專辦公室 | 產出年度: 99 | 產出單位: | 計畫名稱: 學界科專計畫 | 領域: | 技術規格: 本發明提供一種增進連續輸入影像時車牌偵測效能之方法及系統，其係透過時空特性以減少搜尋空間來達成，包括一文字邊緣偵測模組、車牌字元候選區域偵測模組及重複區域偵測模組，首先從輸入系統之影像中偵測可能的文字... | 潛力預估: 可技術移轉、建教合作 @ 技術司可移轉技術資料集 |
執行單位: 學界科專辦公室 | 產出年度: 99 | 產出單位: | 計畫名稱: 學界科專計畫 | 領域: | 技術規格: 本發明係一種用於影像擷取裝置的校正方法,乃針對單一影像擷取裝置與多台影像擷取裝置的動態校正方法,對一單一影像擷取裝置主要是利用影像特徵點位移來獲取轉動角度與傾斜角度的變化量,對於多台影像擷取裝置則再加... | 潛力預估: 可技術移轉、建教合作 @ 技術司可移轉技術資料集 |
執行單位: 學界科專辦公室 | 產出年度: 99 | 產出單位: | 計畫名稱: 學界科專計畫 | 領域: | 技術規格: 本發明係關於一種整合式影像監視系統，將多個攝影機的視訊整合於一大範圍的影像，並可快速平順地切換監控角度，以用來監控一區域之整合系統及其對應之方法。 | 潛力預估: 可技術移轉、建教合作 @ 技術司可移轉技術資料集 |
執行單位: 學界科專辦公室 | 產出年度: 99 | 產出單位: | 計畫名稱: 學界科專計畫 | 領域: | 技術規格: 本發明揭露一種移動物體偵測方法,包含提供一影像集合,影像集合至少包含具有時間序列關係的第一影像與第二影像,且第一影像早於第二影像,在第一影像的適當區域設定一偵測範圍,移動偵測範圍以形成一移動向量。藉由... | 潛力預估: 可技術移轉、建教合作 @ 技術司可移轉技術資料集 |
執行單位: 學界科專辦公室 | 產出年度: 99 | 產出單位: | 計畫名稱: 學界科專計畫 | 領域: | 技術規格: 本發明係揭露一種利用超音波與電腦視覺偵測之自動導航裝置及其導航方法,首先讓一使用者帶領一自動導航裝置,使自動導航裝置學習並規劃一航行路徑,接著使自動導航裝置獨立導航,且於此時可利用超音波與電腦視覺偵測... | 潛力預估: 可技術移轉、建教合作 @ 技術司可移轉技術資料集 |
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| 執行單位: 工研院化工所 | 產出年度: 93 | 產出單位: | 計畫名稱: 精密與機能性化學技術開發與應用四年計畫 | 領域: | 技術規格: 1.金觸媒粒徑 | 潛力預估: 1.奈米金觸媒於室溫氧化一氧化碳的去除相關應用
2.室溫高濃度氫氣流中氧化一氧化碳相關應用
3.工業氫化觸媒的保護裝置 |
| 執行單位: 工研院化工所 | 產出年度: 93 | 產出單位: | 計畫名稱: 精密與機能性化學技術開發與應用四年計畫 | 領域: | 技術規格: 實驗室純化技術及微量不純物分析，各別金屬不純物小於10 ppm。 | 潛力預估: 本技術預期將可應用於有機電激發光平面顯示器元件材料、市場產品潛力預估可達2億元。 |
| 執行單位: 工研院化工所 | 產出年度: 93 | 產出單位: | 計畫名稱: 高分子奈米材料與光電應用四年計畫 | 領域: | 技術規格: 反射率≦1.5%、穿透度≧93%、表面硬度≧2H | 潛力預估: 平面顯示器用抗反射光學薄膜為平面顯示器之重要關鍵零組件，且相關需求急遽增加，其產業關連性大，市場潛力大，附加價值高，然國內廠商仍無生產能力需仰賴國外進口，該產品2003年全球市場達新台幣95億元，平均... |
| 執行單位: 工研院化工所 | 產出年度: 93 | 產出單位: | 計畫名稱: 高分子奈米材料與光電應用四年計畫 | 領域: | 技術規格: feature size between 200-300nm,deviation | 潛力預估: 在高容量光儲存媒體上到2008年具有十億美金的市場，微光學元件與平面顯示器光學模組 |
| 執行單位: 工研院化工所 | 產出年度: 93 | 產出單位: | 計畫名稱: 高分子奈米材料與光電應用四年計畫 | 領域: | 技術規格: 1.合成HDPE材料10Kg或同等級商品規格（混練後Delta H需達165 J/g）
2.押出平板（12*12 cm）* 5 m與金屬片貼合技術之建立，所試作之元件其PTC值大於3.5 | 潛力預估: 美金五億產值 |
| 執行單位: 工研院化工所 | 產出年度: 93 | 產出單位: | 計畫名稱: 高分子奈米材料與光電應用四年計畫 | 領域: | 技術規格: 比表面積：151~661m2/g，孔徑：4.6~8.2nm | 潛力預估: 本計畫將改質的介孔二氧化矽作為軟板（Polyimides）的填充材料，使得高頻通訊用軟板的介電常數值小於2.8（測試頻率為1MHz），且其介電常數值可藉由低介電填充材料的添加量加以控制，此結果優於美國... |
| 執行單位: 工研院化工所 | 產出年度: 93 | 產出單位: | 計畫名稱: 纖維研製及應用技術發展四年計畫 | 領域: | 技術規格: 樹脂之延伸率：500%、耐水壓：8000 mmH2O、透濕度：6000 g/m2/D。 | 潛力預估: 本技術所開發的透濕防水TPU材料，兼具環保、技術升級與自主性之特色，連結上(樹脂廠)/中(薄膜加工廠)/下游(織物處理廠)應用可提升國家產業競爭力，加速傳統產業拓展機能性織物及薄膜之應用，預估可促進投... |
| 執行單位: 工研院化工所 | 產出年度: 93 | 產出單位: | 計畫名稱: 纖維研製及應用技術發展四年計畫 | 領域: | 技術規格: 織物之表面電阻可達到2.0x108W/cm2，。水洗染色堅牢度可達4至5級。 | 潛力預估: 本技術所開發的新型抗靜電效果之織物，兼具環保、技術升級與自主性之特色，連結上(樹脂廠)/下游(織物處理廠)應用可提升國家產業競爭力，加速傳統產業拓展機能性織物及薄膜之應用開發，預估可具有7億元以上之市... |
| 執行單位: 工研院化工所 | 產出年度: 93 | 產出單位: | 計畫名稱: 工研院材料與化工領域環境建構計畫 | 領域: | 技術規格: HTP=30.44mm-1之旋光性液晶單體，純度>98% | 潛力預估: 聚合型高螺旋扭轉力液晶單體全球市場4億日元，市場佔有率若以5%計算約為新台幣500萬元/年，增亮膜市場約新台幣3000萬/年 |
| 執行單位: 工研院能資所 | 產出年度: 93 | 產出單位: | 計畫名稱: 永續資源技術開發三年計畫 | 領域: | 技術規格: 協助廠商提升水回收率10~15% | 潛力預估: 根據力晶12吋廠實際推動的經驗，不僅可提升回收水質與水回率，且因機台排管分流資料庫的建立，大幅提升污染事故的處置效率與經濟效益。 |
| 執行單位: 工研院能資所 | 產出年度: 93 | 產出單位: | 計畫名稱: 永續資源技術開發三年計畫 | 領域: | 技術規格: 玻璃基板經 UV 光照射清洗後，基板上五點接觸角平均 < 10度 | 潛力預估: 應映2008年LCD設備國產化需達50％之目標，故國內廠商需積極佈局易跨入之前段製程設備，此製程技術與設備皆為前段清洗設備必須。 |
| 執行單位: 工研院能資所 | 產出年度: 93 | 產出單位: | 計畫名稱: 永續資源技術開發三年計畫 | 領域: | 技術規格: 完成Trinton-X-100 1 ppm及50 ppm的檢量線 | 潛力預估: 高科技業中微污染控制是很重要的議題，任何的微量有機殘留都會影響製程與良率，因此有機物殘留檢測技術的建立，除了可以驗證清洗效率外，並能確保substrate表面之潔淨度。 |
| 執行單位: 工研院能資所 | 產出年度: 93 | 產出單位: | 計畫名稱: 工研院永續發展領域環境建構計畫 | 領域: | 技術規格: 0.13 mm 製程水質規格：TOC ≦ 0.8 ppb、Bacteria < 1 cfu/ml、total SiO2 ≦ 1 ppb、ion < 20 ppt、Particle ≦ 2 count... | 潛力預估: 應映奈米及高科技製程所需用水規格，科針對國內12吋晶圓及下世代大尺寸的用水系統進行設計。 |
| 執行單位: 工研院能資所 | 產出年度: 93 | 產出單位: | 計畫名稱: 工研院精密機械與微機電領域環境建構計畫 | 領域: | 技術規格: | 潛力預估: 有機會應用於風扇負載，或直流變頻壓縮機，展現節能效益，或更進一步的控制。此為其商業淺力。 |
| 執行單位: 工研院能資所 | 產出年度: 93 | 產出單位: | 計畫名稱: 永續資源技術開發三年計畫 | 領域: | 技術規格: | 潛力預估: 科學園區管理局之污水納管管制條例，以及製程用水回收率需達85%之規定皆促使廠商進行有機廢水之處理 |
執行單位: 工研院化工所 | 產出年度: 93 | 產出單位: | 計畫名稱: 精密與機能性化學技術開發與應用四年計畫 | 領域: | 技術規格: 1.金觸媒粒徑 | 潛力預估: 1.奈米金觸媒於室溫氧化一氧化碳的去除相關應用
2.室溫高濃度氫氣流中氧化一氧化碳相關應用
3.工業氫化觸媒的保護裝置 |
執行單位: 工研院化工所 | 產出年度: 93 | 產出單位: | 計畫名稱: 精密與機能性化學技術開發與應用四年計畫 | 領域: | 技術規格: 實驗室純化技術及微量不純物分析，各別金屬不純物小於10 ppm。 | 潛力預估: 本技術預期將可應用於有機電激發光平面顯示器元件材料、市場產品潛力預估可達2億元。 |
執行單位: 工研院化工所 | 產出年度: 93 | 產出單位: | 計畫名稱: 高分子奈米材料與光電應用四年計畫 | 領域: | 技術規格: 反射率≦1.5%、穿透度≧93%、表面硬度≧2H | 潛力預估: 平面顯示器用抗反射光學薄膜為平面顯示器之重要關鍵零組件，且相關需求急遽增加，其產業關連性大，市場潛力大，附加價值高，然國內廠商仍無生產能力需仰賴國外進口，該產品2003年全球市場達新台幣95億元，平均... |
執行單位: 工研院化工所 | 產出年度: 93 | 產出單位: | 計畫名稱: 高分子奈米材料與光電應用四年計畫 | 領域: | 技術規格: feature size between 200-300nm,deviation | 潛力預估: 在高容量光儲存媒體上到2008年具有十億美金的市場，微光學元件與平面顯示器光學模組 |
執行單位: 工研院化工所 | 產出年度: 93 | 產出單位: | 計畫名稱: 高分子奈米材料與光電應用四年計畫 | 領域: | 技術規格: 1.合成HDPE材料10Kg或同等級商品規格（混練後Delta H需達165 J/g）
2.押出平板（12*12 cm）* 5 m與金屬片貼合技術之建立，所試作之元件其PTC值大於3.5 | 潛力預估: 美金五億產值 |
執行單位: 工研院化工所 | 產出年度: 93 | 產出單位: | 計畫名稱: 高分子奈米材料與光電應用四年計畫 | 領域: | 技術規格: 比表面積：151~661m2/g，孔徑：4.6~8.2nm | 潛力預估: 本計畫將改質的介孔二氧化矽作為軟板（Polyimides）的填充材料，使得高頻通訊用軟板的介電常數值小於2.8（測試頻率為1MHz），且其介電常數值可藉由低介電填充材料的添加量加以控制，此結果優於美國... |
執行單位: 工研院化工所 | 產出年度: 93 | 產出單位: | 計畫名稱: 纖維研製及應用技術發展四年計畫 | 領域: | 技術規格: 樹脂之延伸率：500%、耐水壓：8000 mmH2O、透濕度：6000 g/m2/D。 | 潛力預估: 本技術所開發的透濕防水TPU材料，兼具環保、技術升級與自主性之特色，連結上(樹脂廠)/中(薄膜加工廠)/下游(織物處理廠)應用可提升國家產業競爭力，加速傳統產業拓展機能性織物及薄膜之應用，預估可促進投... |
執行單位: 工研院化工所 | 產出年度: 93 | 產出單位: | 計畫名稱: 纖維研製及應用技術發展四年計畫 | 領域: | 技術規格: 織物之表面電阻可達到2.0x108W/cm2，。水洗染色堅牢度可達4至5級。 | 潛力預估: 本技術所開發的新型抗靜電效果之織物，兼具環保、技術升級與自主性之特色，連結上(樹脂廠)/下游(織物處理廠)應用可提升國家產業競爭力，加速傳統產業拓展機能性織物及薄膜之應用開發，預估可具有7億元以上之市... |
執行單位: 工研院化工所 | 產出年度: 93 | 產出單位: | 計畫名稱: 工研院材料與化工領域環境建構計畫 | 領域: | 技術規格: HTP=30.44mm-1之旋光性液晶單體，純度>98% | 潛力預估: 聚合型高螺旋扭轉力液晶單體全球市場4億日元，市場佔有率若以5%計算約為新台幣500萬元/年，增亮膜市場約新台幣3000萬/年 |
執行單位: 工研院能資所 | 產出年度: 93 | 產出單位: | 計畫名稱: 永續資源技術開發三年計畫 | 領域: | 技術規格: 協助廠商提升水回收率10~15% | 潛力預估: 根據力晶12吋廠實際推動的經驗，不僅可提升回收水質與水回率，且因機台排管分流資料庫的建立，大幅提升污染事故的處置效率與經濟效益。 |
執行單位: 工研院能資所 | 產出年度: 93 | 產出單位: | 計畫名稱: 永續資源技術開發三年計畫 | 領域: | 技術規格: 玻璃基板經 UV 光照射清洗後，基板上五點接觸角平均 < 10度 | 潛力預估: 應映2008年LCD設備國產化需達50％之目標，故國內廠商需積極佈局易跨入之前段製程設備，此製程技術與設備皆為前段清洗設備必須。 |
執行單位: 工研院能資所 | 產出年度: 93 | 產出單位: | 計畫名稱: 永續資源技術開發三年計畫 | 領域: | 技術規格: 完成Trinton-X-100 1 ppm及50 ppm的檢量線 | 潛力預估: 高科技業中微污染控制是很重要的議題，任何的微量有機殘留都會影響製程與良率，因此有機物殘留檢測技術的建立，除了可以驗證清洗效率外，並能確保substrate表面之潔淨度。 |
執行單位: 工研院能資所 | 產出年度: 93 | 產出單位: | 計畫名稱: 工研院永續發展領域環境建構計畫 | 領域: | 技術規格: 0.13 mm 製程水質規格：TOC ≦ 0.8 ppb、Bacteria < 1 cfu/ml、total SiO2 ≦ 1 ppb、ion < 20 ppt、Particle ≦ 2 count... | 潛力預估: 應映奈米及高科技製程所需用水規格，科針對國內12吋晶圓及下世代大尺寸的用水系統進行設計。 |
執行單位: 工研院能資所 | 產出年度: 93 | 產出單位: | 計畫名稱: 工研院精密機械與微機電領域環境建構計畫 | 領域: | 技術規格: | 潛力預估: 有機會應用於風扇負載，或直流變頻壓縮機，展現節能效益，或更進一步的控制。此為其商業淺力。 |
執行單位: 工研院能資所 | 產出年度: 93 | 產出單位: | 計畫名稱: 永續資源技術開發三年計畫 | 領域: | 技術規格: | 潛力預估: 科學園區管理局之污水納管管制條例，以及製程用水回收率需達85%之規定皆促使廠商進行有機廢水之處理 |
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