凹板轉印導電塗料
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技術名稱-中文凹板轉印導電塗料的執行單位是工研院機械所, 產出年度是102, 計畫名稱是觸控面板綠色製程技術及設備開發計畫, 技術規格是線寬, 潛力預估是低成本之細微導線製造技術,將可提升終端產品之競爭優勢.

序號6409
產出年度102
技術名稱-中文凹板轉印導電塗料
執行單位工研院機械所
產出單位(空)
計畫名稱觸控面板綠色製程技術及設備開發計畫
領域(空)
已申請專利之國家(空)
已獲得專利之國家(空)
技術現況敘述-中文開發轉印型導電塗料,使其可搭配凹板轉印技術直接在基材表面形成線寬
技術現況敘述-英文(空)
技術規格線寬
技術成熟度試量產
可應用範圍觸控、PCB、顯示器等光電
潛力預估低成本之細微導線製造技術,將可提升終端產品之競爭優勢
聯絡人員王裕銘
電話03-5912412
傳真03-5820252
電子信箱ymwang@itri.org.tw
參考網址https://www.itri.org.tw/chi/tech-transfer/01.asp?RootNodeId=040&NodeId=041&NavRootNodeId=040
所須軟硬體設備精密印刷設備
需具備之專業人才化學化工、光電製程
同步更新日期2023-07-22

序號

6409

產出年度

102

技術名稱-中文

凹板轉印導電塗料

執行單位

工研院機械所

產出單位

(空)

計畫名稱

觸控面板綠色製程技術及設備開發計畫

領域

(空)

已申請專利之國家

(空)

已獲得專利之國家

(空)

技術現況敘述-中文

開發轉印型導電塗料,使其可搭配凹板轉印技術直接在基材表面形成線寬

技術現況敘述-英文

(空)

技術規格

線寬

技術成熟度

試量產

可應用範圍

觸控、PCB、顯示器等光電

潛力預估

低成本之細微導線製造技術,將可提升終端產品之競爭優勢

聯絡人員

王裕銘

電話

03-5912412

傳真

03-5820252

電子信箱

ymwang@itri.org.tw

參考網址

https://www.itri.org.tw/chi/tech-transfer/01.asp?RootNodeId=040&NodeId=041&NavRootNodeId=040

所須軟硬體設備

精密印刷設備

需具備之專業人才

化學化工、光電製程

同步更新日期

2023-07-22

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# 凹板轉印導電塗料 於 經濟部產業技術司–可移轉技術資料集

序號6715
產出年度103
技術名稱-中文凹板轉印導電塗料
執行單位工研院機械所
產出單位(空)
計畫名稱觸控面板節能製程技術及設備開發計畫
領域綠能科技
已申請專利之國家台灣、中國
已獲得專利之國家
技術現況敘述-中文開發轉印型導電塗料,使其可搭配凹板轉印技術直接在基材表面形成線寬
技術現況敘述-英文(空)
技術規格線寬
技術成熟度試量產
可應用範圍觸控、PCB、顯示器等光電
潛力預估低成本之細微導線製造技術,將可提升終端產品之競爭優勢
聯絡人員王裕銘
電話03-5912412
傳真03-5820252
電子信箱ymwang@itri.org.tw
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所須軟硬體設備精密印刷設備
需具備之專業人才化學化工、光電製程
序號: 6715
產出年度: 103
技術名稱-中文: 凹板轉印導電塗料
執行單位: 工研院機械所
產出單位: (空)
計畫名稱: 觸控面板節能製程技術及設備開發計畫
領域: 綠能科技
已申請專利之國家: 台灣、中國
已獲得專利之國家:
技術現況敘述-中文: 開發轉印型導電塗料,使其可搭配凹板轉印技術直接在基材表面形成線寬
技術現況敘述-英文: (空)
技術規格: 線寬
技術成熟度: 試量產
可應用範圍: 觸控、PCB、顯示器等光電
潛力預估: 低成本之細微導線製造技術,將可提升終端產品之競爭優勢
聯絡人員: 王裕銘
電話: 03-5912412
傳真: 03-5820252
電子信箱: ymwang@itri.org.tw
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所須軟硬體設備: 精密印刷設備
需具備之專業人才: 化學化工、光電製程
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# 03-5912412 於 經濟部產業技術司–可移轉技術資料集 - 1

序號6410
產出年度102
技術名稱-中文凹板轉印ITO蝕刻塗料
執行單位工研院機械所
產出單位(空)
計畫名稱觸控面板綠色製程技術及設備開發計畫
領域(空)
已申請專利之國家(空)
已獲得專利之國家(空)
技術現況敘述-中文開發轉印型ITO蝕刻膏體,使其可搭配凹板轉印技術直接在ITO基材表面形成線寬
技術現況敘述-英文(空)
技術規格蝕刻線寬
技術成熟度試量產
可應用範圍觸控、LED、顯示器等產業
潛力預估低成本之ITO蝕刻製程技術製作細小蝕刻線路,將可提升產品之成本競爭優勢
聯絡人員王裕銘
電話03-5912412
傳真03-5820252
電子信箱ymwang@itri.org.tw
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所須軟硬體設備精密印刷設備
需具備之專業人才化學化工、光電製程
序號: 6410
產出年度: 102
技術名稱-中文: 凹板轉印ITO蝕刻塗料
執行單位: 工研院機械所
產出單位: (空)
計畫名稱: 觸控面板綠色製程技術及設備開發計畫
領域: (空)
已申請專利之國家: (空)
已獲得專利之國家: (空)
技術現況敘述-中文: 開發轉印型ITO蝕刻膏體,使其可搭配凹板轉印技術直接在ITO基材表面形成線寬
技術現況敘述-英文: (空)
技術規格: 蝕刻線寬
技術成熟度: 試量產
可應用範圍: 觸控、LED、顯示器等產業
潛力預估: 低成本之ITO蝕刻製程技術製作細小蝕刻線路,將可提升產品之成本競爭優勢
聯絡人員: 王裕銘
電話: 03-5912412
傳真: 03-5820252
電子信箱: ymwang@itri.org.tw
參考網址: https://www.itri.org.tw/chi/tech-transfer/01.asp?RootNodeId=040&NodeId=041&NavRootNodeId=040
所須軟硬體設備: 精密印刷設備
需具備之專業人才: 化學化工、光電製程

# 03-5912412 於 經濟部產業技術司–可移轉技術資料集 - 2

序號6716
產出年度103
技術名稱-中文凹板轉印ITO蝕刻塗料
執行單位工研院機械所
產出單位(空)
計畫名稱觸控面板節能製程技術及設備開發計畫
領域綠能科技
已申請專利之國家台灣、中國
已獲得專利之國家
技術現況敘述-中文開發轉印型ITO蝕刻膏體,使其可搭配凹板轉印技術直接在ITO基材表面形成線寬
技術現況敘述-英文(空)
技術規格蝕刻線寬
技術成熟度試量產
可應用範圍觸控、LED、顯示器等產業
潛力預估低成本之ITO蝕刻製程技術製作細小蝕刻線路,將可提升產品之成本競爭優勢
聯絡人員王裕銘
電話03-5912412
傳真03-5820252
電子信箱ymwang@itri.org.tw
參考網址https://www.itri.org.tw/chi/tech-transfer/01.asp?RootNodeId=040&NodeId=041&NavRootNodeId=040
所須軟硬體設備精密印刷設備
需具備之專業人才化學化工、光電製程
序號: 6716
產出年度: 103
技術名稱-中文: 凹板轉印ITO蝕刻塗料
執行單位: 工研院機械所
產出單位: (空)
計畫名稱: 觸控面板節能製程技術及設備開發計畫
領域: 綠能科技
已申請專利之國家: 台灣、中國
已獲得專利之國家:
技術現況敘述-中文: 開發轉印型ITO蝕刻膏體,使其可搭配凹板轉印技術直接在ITO基材表面形成線寬
技術現況敘述-英文: (空)
技術規格: 蝕刻線寬
技術成熟度: 試量產
可應用範圍: 觸控、LED、顯示器等產業
潛力預估: 低成本之ITO蝕刻製程技術製作細小蝕刻線路,將可提升產品之成本競爭優勢
聯絡人員: 王裕銘
電話: 03-5912412
傳真: 03-5820252
電子信箱: ymwang@itri.org.tw
參考網址: https://www.itri.org.tw/chi/tech-transfer/01.asp?RootNodeId=040&NodeId=041&NavRootNodeId=040
所須軟硬體設備: 精密印刷設備
需具備之專業人才: 化學化工、光電製程

# 03-5912412 於 經濟部產業技術司–可移轉技術資料集 - 3

序號7626
產出年度104
技術名稱-中文直接圖案化超細導線生產整合技術
執行單位工研院機械所
產出單位(空)
計畫名稱超細線寬轉印綠色製程與設備技術開發計畫
領域綠能科技
已申請專利之國家台灣、美國、中國、日本
已獲得專利之國家
技術現況敘述-中文本技術整合凹版轉印技術及可細線化轉印觸發膠體,可在基板上印製超細導線,其電性相進於純金屬
技術現況敘述-英文(空)
技術規格可在基板上印製3um之圖案化線路,並具有高導電特性
技術成熟度試量產
可應用範圍觸控元件、軟性印刷電路板及光電元件線路等細微線路製作
潛力預估可取代傳統黃光製程製作細微線路,達到製成綠色化
聯絡人員王裕銘
電話03-5912412
傳真03-5820043
電子信箱ymwang@itri.org.tw
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所須軟硬體設備凹版轉印設備、轉印塗料及模具
需具備之專業人才印刷技術、轉印塗料特性
序號: 7626
產出年度: 104
技術名稱-中文: 直接圖案化超細導線生產整合技術
執行單位: 工研院機械所
產出單位: (空)
計畫名稱: 超細線寬轉印綠色製程與設備技術開發計畫
領域: 綠能科技
已申請專利之國家: 台灣、美國、中國、日本
已獲得專利之國家:
技術現況敘述-中文: 本技術整合凹版轉印技術及可細線化轉印觸發膠體,可在基板上印製超細導線,其電性相進於純金屬
技術現況敘述-英文: (空)
技術規格: 可在基板上印製3um之圖案化線路,並具有高導電特性
技術成熟度: 試量產
可應用範圍: 觸控元件、軟性印刷電路板及光電元件線路等細微線路製作
潛力預估: 可取代傳統黃光製程製作細微線路,達到製成綠色化
聯絡人員: 王裕銘
電話: 03-5912412
傳真: 03-5820043
電子信箱: ymwang@itri.org.tw
參考網址: http://www.itri.org.tw
所須軟硬體設備: 凹版轉印設備、轉印塗料及模具
需具備之專業人才: 印刷技術、轉印塗料特性

# 03-5912412 於 經濟部產業技術司–可移轉技術資料集 - 4

序號8334
產出年度105
技術名稱-中文加成式細微導線製造技術
執行單位工研院機械所
產出單位(空)
計畫名稱超細線寬轉印綠色製程與設備技術開發計畫
領域綠能科技
已申請專利之國家台灣、美國、中國、日本
已獲得專利之國家
技術現況敘述-中文本技術整合開發凹版轉印技術及其關鍵組件(塗料、模具等),使可經由印刷、活化及金屬化等3道製程技術即可在基板上印製超細導線,其電性相近於純金屬。
技術現況敘述-英文(空)
技術規格可在基板上印製5um之圖案化線路,並具有高導電特性
技術成熟度試量產
可應用範圍觸控元件、軟性印刷電路板及光電元件線路等細微線路製作
潛力預估可取代傳統黃光製程製作細微線路,達到製程綠色化
聯絡人員王裕銘
電話03-5912412
傳真03-5820043
電子信箱ymwang@itri.org.tw
參考網址http://www.itri.org.tw
所須軟硬體設備凹版轉印設備、轉印塗料及模具
需具備之專業人才印刷技術、轉印塗料特性
序號: 8334
產出年度: 105
技術名稱-中文: 加成式細微導線製造技術
執行單位: 工研院機械所
產出單位: (空)
計畫名稱: 超細線寬轉印綠色製程與設備技術開發計畫
領域: 綠能科技
已申請專利之國家: 台灣、美國、中國、日本
已獲得專利之國家:
技術現況敘述-中文: 本技術整合開發凹版轉印技術及其關鍵組件(塗料、模具等),使可經由印刷、活化及金屬化等3道製程技術即可在基板上印製超細導線,其電性相近於純金屬。
技術現況敘述-英文: (空)
技術規格: 可在基板上印製5um之圖案化線路,並具有高導電特性
技術成熟度: 試量產
可應用範圍: 觸控元件、軟性印刷電路板及光電元件線路等細微線路製作
潛力預估: 可取代傳統黃光製程製作細微線路,達到製程綠色化
聯絡人員: 王裕銘
電話: 03-5912412
傳真: 03-5820043
電子信箱: ymwang@itri.org.tw
參考網址: http://www.itri.org.tw
所須軟硬體設備: 凹版轉印設備、轉印塗料及模具
需具備之專業人才: 印刷技術、轉印塗料特性
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與凹板轉印導電塗料同分類的經濟部產業技術司–可移轉技術資料集

玻璃融封零組件應用開發

執行單位: 中科院軍民通用中心 | 產出年度: 93 | 產出單位: | 計畫名稱: 材料與化工領域資源釋商科專計畫 | 領域: | 技術規格: 可量產製作,規格可依使用用途及設計不同彈性開發應用。 | 潛力預估: 可搶攻3C電子產業市場,極具市場潛力。

微波吸收材應用開發

執行單位: 中科院軍民通用中心 | 產出年度: 93 | 產出單位: | 計畫名稱: 材料與化工領域資源釋商科專計畫 | 領域: | 技術規格: 可量產製作,長寬可依合作廠商工廠機具現況設計彈性開發應用。 | 潛力預估: 生產所需機具成本較高。

真空機械手臂開發技術

執行單位: 中科院飛彈所 | 產出年度: 93 | 產出單位: | 計畫名稱: 新興產業精密機械系統關鍵技術研究發展三年計畫 | 領域: | 技術規格: .晶圓大小:300mm;真空度: 1×10-7Torr;運動範圍: R軸930 mm、θ軸355度、Z軸30mm;PC Based架構控制器,具離線校準教導控制器及RS232通訊介面 | 潛力預估: 機械手臂為半導體設備中不可缺少的關鍵組件,國內皆仰賴進口一座投資十億美元之半導體廠,其製程設備晶圓輸送設備約占6.7%,計有6,700萬美元,其中真空機械手臂188套,估計約760萬美元。

集束型製程設備真空輸送平台系統技術

執行單位: 中科院飛彈所 | 產出年度: 93 | 產出單位: | 計畫名稱: 新興產業精密機械系統關鍵技術研究發展三年計畫 | 領域: | 技術規格: .主腔型態:六面腔或八面腔,真空度: 1×10-7Torr,控制介面: RS232,硬體介面:符合SEMI標準規範,晶圓尺寸:200mm/300mm | 潛力預估: 集束型設備,具有節省空間及時間等效益,為現階段半導體廠常見之設備組態方式,而集束型真空輸送平台系統為集束型設備不可或缺之設備之一,目前此類設備均為外購,深具市場潛力。

半導體基材輸送設備控制器開發技術

執行單位: 中科院飛彈所 | 產出年度: 93 | 產出單位: | 計畫名稱: 新興產業精密機械系統關鍵技術研究發展三年計畫 | 領域: | 技術規格: 符合SEMI SECS標準、元件化組裝方便 | 潛力預估: 目前國內所使用半導體設備控制器多為國外產品或由國內廠商針對單一機台所開發控制器,其架構多為封閉式架構,不易修改或維護,本產品採開放式多層架構,元件化設計,組裝方便,可依不同機台快速組裝與抽換;由於半導...

磁性流體軸封開發技術

執行單位: 中科院飛彈所 | 產出年度: 93 | 產出單位: | 計畫名稱: 新興產業精密機械系統關鍵技術研究發展三年計畫 | 領域: | 技術規格: 操作溫度0 ~ 80℃,耐真空度10-8Torr,洩漏速度10-10 mbar/sec,單/雙軸式磁性軸封 | 潛力預估: 磁性流體軸封為半導體設備中用以隔離運動件之真空與大氣介面不可或缺重要組件,常用於真空機械手臂之真空隔離介面,由於磁性流體具有使用期限,為定期更換件,每年約有1,000顆以上之需求量。

磁性聯軸器設計開發技術

執行單位: 中科院飛彈所 | 產出年度: 93 | 產出單位: | 計畫名稱: 新興產業精密機械系統關鍵技術研究發展三年計畫 | 領域: | 技術規格: 真空度: 10-9Torr、傳輸扭矩: 50N-m | 潛力預估: 磁性聯軸器為用於半導體設備中作為高真空隔離之運動件介面,由於目前半導體與平面額示器等製程設備之真空度要求日益增加,則本產品之市場潛力亦日益提升。

半導體前段設備標準通標模組

執行單位: 中科院飛彈所 | 產出年度: 93 | 產出單位: | 計畫名稱: 新興產業精密機械系統關鍵技術研究發展三年計畫 | 領域: | 技術規格: 符合SEMI SECSI, SECSII, HSMS標準、符合微軟公司COM元件標準 | 潛力預估: SECSI, SECSII, HSMS為半導體前段製程設備機台必需遵循之標準,本產品為標準通訊模組,目前此類標準通訊模組多使用國外產品,國內市場廣大,可配合未來國內自製機台使用,潛力無窮。

300mm電子迴旋共振高密度電漿化學氣相沉積機台

執行單位: 中科院飛彈所 | 產出年度: 93 | 產出單位: | 計畫名稱: 新興產業精密機械系統關鍵技術研究發展三年計畫 | 領域: | 技術規格: 沉積率:2,500A/min,沉積溫度低於350℃,沉積均勻度為3% | 潛力預估: 為我國從民國87年起,投資LCD相關產業約新台幣 2,000億元,LCD全球市場在民國94年將達390億美元,而全球設備產業將達61億美元,其中LCD前段製程設備則佔33億美元。本機台可應用在半導體...

300mm電子迴旋共振高密度電漿蝕刻機台

執行單位: 中科院飛彈所 | 產出年度: 93 | 產出單位: | 計畫名稱: 新興產業精密機械系統關鍵技術研究發展三年計畫 | 領域: | 技術規格: .蝕刻300mm 晶圓之0.25μ細線.蝕刻速率為2,500 A /min .蝕刻均勻度小於3 % | 潛力預估: 我國半導體製造已耀居全球第四位,所需求之半導體前段設備投資規格已居全球第三,於民國91年市場達34.6億美元,預計至95年我國半導體製程達56.2億美元。本機台可應用在半導體前段製程及LCD製程,預估...

精密雷射切割機

執行單位: 中科院飛彈所 | 產出年度: 93 | 產出單位: | 計畫名稱: 新興產業精密機械系統關鍵技術研究發展三年計畫 | 領域: | 技術規格: .定位精度:0.5μm .馬達最快速度: 120m/min .馬達最快加速度: 1.5g .切割速度:~4000 Aperture/Hour .具雷射刀徑補正及聚焦控制功能 | 潛力預估: 我國半導體依產業調查僅就92年全球半導體雷射切割市場約為650萬美元,94年全球市場規模預測約可達3,400萬美元

線性馬達驅動四軸臥式高速加工技術開發

執行單位: 中科院飛彈所 | 產出年度: 93 | 產出單位: | 計畫名稱: 新興產業精密機械系統關鍵技術研究發展三年計畫 | 領域: | 技術規格: 機器重量70Hz、靜剛性>1μm /kg、最大工件尺寸760mm x ψ530mm | 潛力預估: 相關文獻顯示,預估至民國94年高速切削加工機將占有50%的工具機市場;到99年時,以線性馬達驅動之工具機將占10 ~ 20%。將線性馬達驅動高速機構應用推廣至業界新產品開發,預計可建立業界高速工具機...

油靜座滑軌

執行單位: 中科院飛彈所 | 產出年度: 93 | 產出單位: | 計畫名稱: 新興產業精密機械系統關鍵技術研究發展三年計畫 | 領域: | 技術規格: .供油壓力:20 bar .潤滑油形式:VG32(溫度20~40℃) .切削力:Fa:1,000N,Ft:300N .滑軌長度:1,500mm .工作行程:750mm .工作台上最大荷重:750kg... | 潛力預估: 更精密、更快速、更經濟是工業界持續追求之目標,本技術在前兩項目標之達成無庸置疑,對於經濟性,就機器製造成本而言,雖然需要較高之成本,但將無磨耗、壽命長納入考量後,將極具競爭力。目前國產工具機與各型機具...

極低應力超精密拋光及晶圓平坦化技術

執行單位: 中科院飛彈所 | 產出年度: 93 | 產出單位: | 計畫名稱: 新興產業精密機械系統關鍵技術研究發展三年計畫 | 領域: | 技術規格: 極低之下壓力( Extremely Low Down Force ) 低於0.5Psi壓力達到傳統拋光之研磨率及均勻度 | 潛力預估: 超精密拋光技術之市場極為龐大,如單以IC晶圓之平坦化設備市場而言,民國92年全世界製程設備市場預估為l3億美元,預估93年達到19億美元,至99年時可達65億美元

晶圓均溫加熱調整技術

執行單位: 中科院飛彈所 | 產出年度: 93 | 產出單位: | 計畫名稱: 新興產業精密機械系統關鍵技術研究發展三年計畫 | 領域: | 技術規格: 晶圓加熱均勻度: 0.5% ( 3σ ) | 潛力預估: 本項技術可就晶圓製程需求,以市場上現有零組件組裝快速熱處理機台,大幅降低成本。民國90年Applied Materials Inc推出的Radiance Centura 300,價格約為200 ~ 3...

玻璃融封零組件應用開發

執行單位: 中科院軍民通用中心 | 產出年度: 93 | 產出單位: | 計畫名稱: 材料與化工領域資源釋商科專計畫 | 領域: | 技術規格: 可量產製作,規格可依使用用途及設計不同彈性開發應用。 | 潛力預估: 可搶攻3C電子產業市場,極具市場潛力。

微波吸收材應用開發

執行單位: 中科院軍民通用中心 | 產出年度: 93 | 產出單位: | 計畫名稱: 材料與化工領域資源釋商科專計畫 | 領域: | 技術規格: 可量產製作,長寬可依合作廠商工廠機具現況設計彈性開發應用。 | 潛力預估: 生產所需機具成本較高。

真空機械手臂開發技術

執行單位: 中科院飛彈所 | 產出年度: 93 | 產出單位: | 計畫名稱: 新興產業精密機械系統關鍵技術研究發展三年計畫 | 領域: | 技術規格: .晶圓大小:300mm;真空度: 1×10-7Torr;運動範圍: R軸930 mm、θ軸355度、Z軸30mm;PC Based架構控制器,具離線校準教導控制器及RS232通訊介面 | 潛力預估: 機械手臂為半導體設備中不可缺少的關鍵組件,國內皆仰賴進口一座投資十億美元之半導體廠,其製程設備晶圓輸送設備約占6.7%,計有6,700萬美元,其中真空機械手臂188套,估計約760萬美元。

集束型製程設備真空輸送平台系統技術

執行單位: 中科院飛彈所 | 產出年度: 93 | 產出單位: | 計畫名稱: 新興產業精密機械系統關鍵技術研究發展三年計畫 | 領域: | 技術規格: .主腔型態:六面腔或八面腔,真空度: 1×10-7Torr,控制介面: RS232,硬體介面:符合SEMI標準規範,晶圓尺寸:200mm/300mm | 潛力預估: 集束型設備,具有節省空間及時間等效益,為現階段半導體廠常見之設備組態方式,而集束型真空輸送平台系統為集束型設備不可或缺之設備之一,目前此類設備均為外購,深具市場潛力。

半導體基材輸送設備控制器開發技術

執行單位: 中科院飛彈所 | 產出年度: 93 | 產出單位: | 計畫名稱: 新興產業精密機械系統關鍵技術研究發展三年計畫 | 領域: | 技術規格: 符合SEMI SECS標準、元件化組裝方便 | 潛力預估: 目前國內所使用半導體設備控制器多為國外產品或由國內廠商針對單一機台所開發控制器,其架構多為封閉式架構,不易修改或維護,本產品採開放式多層架構,元件化設計,組裝方便,可依不同機台快速組裝與抽換;由於半導...

磁性流體軸封開發技術

執行單位: 中科院飛彈所 | 產出年度: 93 | 產出單位: | 計畫名稱: 新興產業精密機械系統關鍵技術研究發展三年計畫 | 領域: | 技術規格: 操作溫度0 ~ 80℃,耐真空度10-8Torr,洩漏速度10-10 mbar/sec,單/雙軸式磁性軸封 | 潛力預估: 磁性流體軸封為半導體設備中用以隔離運動件之真空與大氣介面不可或缺重要組件,常用於真空機械手臂之真空隔離介面,由於磁性流體具有使用期限,為定期更換件,每年約有1,000顆以上之需求量。

磁性聯軸器設計開發技術

執行單位: 中科院飛彈所 | 產出年度: 93 | 產出單位: | 計畫名稱: 新興產業精密機械系統關鍵技術研究發展三年計畫 | 領域: | 技術規格: 真空度: 10-9Torr、傳輸扭矩: 50N-m | 潛力預估: 磁性聯軸器為用於半導體設備中作為高真空隔離之運動件介面,由於目前半導體與平面額示器等製程設備之真空度要求日益增加,則本產品之市場潛力亦日益提升。

半導體前段設備標準通標模組

執行單位: 中科院飛彈所 | 產出年度: 93 | 產出單位: | 計畫名稱: 新興產業精密機械系統關鍵技術研究發展三年計畫 | 領域: | 技術規格: 符合SEMI SECSI, SECSII, HSMS標準、符合微軟公司COM元件標準 | 潛力預估: SECSI, SECSII, HSMS為半導體前段製程設備機台必需遵循之標準,本產品為標準通訊模組,目前此類標準通訊模組多使用國外產品,國內市場廣大,可配合未來國內自製機台使用,潛力無窮。

300mm電子迴旋共振高密度電漿化學氣相沉積機台

執行單位: 中科院飛彈所 | 產出年度: 93 | 產出單位: | 計畫名稱: 新興產業精密機械系統關鍵技術研究發展三年計畫 | 領域: | 技術規格: 沉積率:2,500A/min,沉積溫度低於350℃,沉積均勻度為3% | 潛力預估: 為我國從民國87年起,投資LCD相關產業約新台幣 2,000億元,LCD全球市場在民國94年將達390億美元,而全球設備產業將達61億美元,其中LCD前段製程設備則佔33億美元。本機台可應用在半導體...

300mm電子迴旋共振高密度電漿蝕刻機台

執行單位: 中科院飛彈所 | 產出年度: 93 | 產出單位: | 計畫名稱: 新興產業精密機械系統關鍵技術研究發展三年計畫 | 領域: | 技術規格: .蝕刻300mm 晶圓之0.25μ細線.蝕刻速率為2,500 A /min .蝕刻均勻度小於3 % | 潛力預估: 我國半導體製造已耀居全球第四位,所需求之半導體前段設備投資規格已居全球第三,於民國91年市場達34.6億美元,預計至95年我國半導體製程達56.2億美元。本機台可應用在半導體前段製程及LCD製程,預估...

精密雷射切割機

執行單位: 中科院飛彈所 | 產出年度: 93 | 產出單位: | 計畫名稱: 新興產業精密機械系統關鍵技術研究發展三年計畫 | 領域: | 技術規格: .定位精度:0.5μm .馬達最快速度: 120m/min .馬達最快加速度: 1.5g .切割速度:~4000 Aperture/Hour .具雷射刀徑補正及聚焦控制功能 | 潛力預估: 我國半導體依產業調查僅就92年全球半導體雷射切割市場約為650萬美元,94年全球市場規模預測約可達3,400萬美元

線性馬達驅動四軸臥式高速加工技術開發

執行單位: 中科院飛彈所 | 產出年度: 93 | 產出單位: | 計畫名稱: 新興產業精密機械系統關鍵技術研究發展三年計畫 | 領域: | 技術規格: 機器重量70Hz、靜剛性>1μm /kg、最大工件尺寸760mm x ψ530mm | 潛力預估: 相關文獻顯示,預估至民國94年高速切削加工機將占有50%的工具機市場;到99年時,以線性馬達驅動之工具機將占10 ~ 20%。將線性馬達驅動高速機構應用推廣至業界新產品開發,預計可建立業界高速工具機...

油靜座滑軌

執行單位: 中科院飛彈所 | 產出年度: 93 | 產出單位: | 計畫名稱: 新興產業精密機械系統關鍵技術研究發展三年計畫 | 領域: | 技術規格: .供油壓力:20 bar .潤滑油形式:VG32(溫度20~40℃) .切削力:Fa:1,000N,Ft:300N .滑軌長度:1,500mm .工作行程:750mm .工作台上最大荷重:750kg... | 潛力預估: 更精密、更快速、更經濟是工業界持續追求之目標,本技術在前兩項目標之達成無庸置疑,對於經濟性,就機器製造成本而言,雖然需要較高之成本,但將無磨耗、壽命長納入考量後,將極具競爭力。目前國產工具機與各型機具...

極低應力超精密拋光及晶圓平坦化技術

執行單位: 中科院飛彈所 | 產出年度: 93 | 產出單位: | 計畫名稱: 新興產業精密機械系統關鍵技術研究發展三年計畫 | 領域: | 技術規格: 極低之下壓力( Extremely Low Down Force ) 低於0.5Psi壓力達到傳統拋光之研磨率及均勻度 | 潛力預估: 超精密拋光技術之市場極為龐大,如單以IC晶圓之平坦化設備市場而言,民國92年全世界製程設備市場預估為l3億美元,預估93年達到19億美元,至99年時可達65億美元

晶圓均溫加熱調整技術

執行單位: 中科院飛彈所 | 產出年度: 93 | 產出單位: | 計畫名稱: 新興產業精密機械系統關鍵技術研究發展三年計畫 | 領域: | 技術規格: 晶圓加熱均勻度: 0.5% ( 3σ ) | 潛力預估: 本項技術可就晶圓製程需求,以市場上現有零組件組裝快速熱處理機台,大幅降低成本。民國90年Applied Materials Inc推出的Radiance Centura 300,價格約為200 ~ 3...

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