陶瓷皮奈秒雷射鑽孔技術
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技術名稱-中文陶瓷皮奈秒雷射鑽孔技術的執行單位是工研院南分院, 產出年度是103, 計畫名稱是雷射光谷關鍵技術開發暨整合應用計畫, 領域是製造精進, 技術規格是Al2O3基板厚度<0.68MM,孔徑<0.1MM,鑽孔速度>20孔/秒。, 潛力預估是2014年全球用於micro、macro材料處理雷射源,本技術可用於陶瓷板加工,製程附加價值率達60%。.

序號6749
產出年度103
技術名稱-中文陶瓷皮奈秒雷射鑽孔技術
執行單位工研院南分院
產出單位(空)
計畫名稱雷射光谷關鍵技術開發暨整合應用計畫
領域製造精進
已申請專利之國家TW、US
已獲得專利之國家(空)
技術現況敘述-中文節能減碳需求下,以LED取代傳統燈泡已是未來趨勢,為了延長LED使用壽命,需要在陶瓷板上鑽孔作為散熱用,目前陶瓷板製造商用國外雷射加工,遭遇加工時間過長、容易發生破裂、暗裂(內傷)等品質問題,以皮奈秒雷射可大幅減少不良品,降低廠商生產成本
技術現況敘述-英文(空)
技術規格Al2O3基板厚度<0.68MM,孔徑<0.1MM,鑽孔速度>20孔/秒。
技術成熟度雛型
可應用範圍LED散熱基板鑽孔、劃切。
潛力預估2014年全球用於micro、macro材料處理雷射源,本技術可用於陶瓷板加工,製程附加價值率達60%。
聯絡人員陳智禮
電話06-6939154
傳真06-6939059
電子信箱chilichen@itri.org.tw
參考網址https://www.itri.org.tw/chi/Content/techTransfer/tech_tran_list.aspx?SiteID=1&MmmID=620622510063061207
所須軟硬體設備光譜儀、數位示波器、光功率計、電源供應器
需具備之專業人才物理、光電、電機、電控
同步更新日期2024-09-03

序號

6749

產出年度

103

技術名稱-中文

陶瓷皮奈秒雷射鑽孔技術

執行單位

工研院南分院

產出單位

(空)

計畫名稱

雷射光谷關鍵技術開發暨整合應用計畫

領域

製造精進

已申請專利之國家

TW、US

已獲得專利之國家

(空)

技術現況敘述-中文

節能減碳需求下,以LED取代傳統燈泡已是未來趨勢,為了延長LED使用壽命,需要在陶瓷板上鑽孔作為散熱用,目前陶瓷板製造商用國外雷射加工,遭遇加工時間過長、容易發生破裂、暗裂(內傷)等品質問題,以皮奈秒雷射可大幅減少不良品,降低廠商生產成本

技術現況敘述-英文

(空)

技術規格

Al2O3基板厚度<0.68MM,孔徑<0.1MM,鑽孔速度>20孔/秒。

技術成熟度

雛型

可應用範圍

LED散熱基板鑽孔、劃切。

潛力預估

2014年全球用於micro、macro材料處理雷射源,本技術可用於陶瓷板加工,製程附加價值率達60%。

聯絡人員

陳智禮

電話

06-6939154

傳真

06-6939059

電子信箱

chilichen@itri.org.tw

參考網址

https://www.itri.org.tw/chi/Content/techTransfer/tech_tran_list.aspx?SiteID=1&MmmID=620622510063061207

所須軟硬體設備

光譜儀、數位示波器、光功率計、電源供應器

需具備之專業人才

物理、光電、電機、電控

同步更新日期

2024-09-03

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20ps皮秒光纖雷射源技術

執行單位: 工研院南分院 | 產出年度: 103 | 產出單位: | 計畫名稱: 雷射光谷關鍵技術開發暨整合應用計畫 | 領域: 製造精進 | 技術規格: 平均功率30W,單發脈衝能量30μJ,脈衝寬度20ps | 潛力預估: 皮秒雷射脈衝可對低吸收率之透明材料如藍寶石機板、硬脆材料如氧化鋁陶瓷板做加工,可應用於3C產品、LED、PV及半導體製程,年產值可達10億新台幣

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奈秒彩色打印技術

執行單位: 工研院南分院 | 產出年度: 103 | 產出單位: | 計畫名稱: 雷射光谷關鍵技術開發暨整合應用計畫 | 領域: 製造精進 | 技術規格: 20W 光纖雷射及彩色雷射製程(不鏽鋼、高速鋼、鋁合金)。 | 潛力預估: 奈秒彩色打印技術,可用於不鏽鋼及鉻釩鋼等金屬材質,對黑色電木材料也有彩雕效果。應用於文創及手工具產品加值,年產值可達一億元新台幣以上

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20ps皮秒光纖雷射源技術

執行單位: 工研院南分院 | 產出年度: 103 | 產出單位: | 計畫名稱: 雷射光谷關鍵技術開發暨整合應用計畫 | 領域: 製造精進 | 技術規格: 平均功率30W,單發脈衝能量30μJ,脈衝寬度20ps | 潛力預估: 皮秒雷射脈衝可對低吸收率之透明材料如藍寶石機板、硬脆材料如氧化鋁陶瓷板做加工,可應用於3C產品、LED、PV及半導體製程,年產值可達10億新台幣

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奈秒彩色打印技術

執行單位: 工研院南分院 | 產出年度: 103 | 產出單位: | 計畫名稱: 雷射光谷關鍵技術開發暨整合應用計畫 | 領域: 製造精進 | 技術規格: 20W 光纖雷射及彩色雷射製程(不鏽鋼、高速鋼、鋁合金)。 | 潛力預估: 奈秒彩色打印技術,可用於不鏽鋼及鉻釩鋼等金屬材質,對黑色電木材料也有彩雕效果。應用於文創及手工具產品加值,年產值可達一億元新台幣以上

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模組化高剛性平台

執行單位: 工研院機械所 | 產出年度: 93 | 產出單位: | 計畫名稱: 工研院精密機械與微機電領域環境建構計畫 | 領域: | 技術規格: 不放大振動之頻寬為0-200Hz,剛性大於8×108 N/m(地板為完全剛性之狀況) | 潛力預估: 模組化精密高剛性平台技術之開發及應用,可以取代目前重量較重之花崗岩平台或鋼筋混凝土平台,經由平台之減重並維持更高之剛性,可以減輕廠房結構之負擔,增加廠房之使用率。適用於12吋半導體製程及平面顯示器產業...

奈米機械隔振模組技術

執行單位: 工研院機械所 | 產出年度: 93 | 產出單位: | 計畫名稱: 工研院精密機械與微機電領域環境建構計畫 | 領域: | 技術規格: 1-400Hz以內均有減振之效果,其中垂直方向在6Hz以上之減振能力為-14dB(80%),水平方向在6Hz以上之減振能力為-12dB(75%) | 潛力預估: 隨著奈米科技及相關技術之不斷提昇,使得相關之奈米級檢測設備之應用更為普及。對於小型之奈米檢測設備如SPM及AFM,本模組可有效地與檢測設備結合,以取代大型之光學桌及氣墊隔振系統,並且能在低頻提供更好的...

線型馬達高速切削加工機技術

執行單位: 工研院機械所 | 產出年度: 93 | 產出單位: | 計畫名稱: 工研院精密機械與微機電領域環境建構計畫 | 領域: | 技術規格: X/Y/Z行程:800×600×500mm X/Y/Z‧??? 最大進給速度:120m/min X/Y/Z‧??? 最大進給加速度:2G‧???主軸最高轉速:24,000rpm | 潛力預估: 近年來高速切削之相關技術蓬勃發展,其應用範圍已從早期侷限於航太業鋁合金切削擴充至汽車業、模具業、電子業,切削材料除傳統的鋁合金切削外,亦包括鑄鐵、合金鋼、複合材料與高硬度材料。高速切削具有高切削量、低...

串列網路伺服運動控制應用技術

執行單位: 工研院機械所 | 產出年度: 93 | 產出單位: | 計畫名稱: 工研院精密機械與微機電領域環境建構計畫 | 領域: | 技術規格: ??? 串列網路伺服軸:8軸(Mitsubishi SSCNET),可擴充至16軸/泛用開迴路:4軸/泛用閉迴路:1軸,可擴充至5軸/數位轉類比:2組(16 bits),可擴充至6組/類比轉數位:2組... | 潛力預估: 可實現高速、高精度的定位控制,及多軸即時同步運動控制,在不用增加控制母板下,硬體軸數與IO點數擴充彈性大,為國內光電半導體設備與CNC工具機業,提供了一個降低系統配線複雜度與維護簡單化的有效解決方案。

光通訊TO-Can雷射銲接機

執行單位: 工研院機械所 | 產出年度: 93 | 產出單位: | 計畫名稱: 工研院精密機械與微機電領域環境建構計畫 | 領域: | 技術規格: 雷射束數目:3/雷射型式:Nd:YAG/功率:20 W/視覺與雷射頭分離/X1 軸行程: 50mm, 定位精度: 5μm, 解析度: 0.2μm/Y1軸 (手動) | 潛力預估:

光隔絕器自動對光與自動錫銲固著技術

執行單位: 工研院機械所 | 產出年度: 93 | 產出單位: | 計畫名稱: 工研院精密機械與微機電領域環境建構計畫 | 領域: | 技術規格: ‧??? 自動對光技術:單光束自動對光 < 3 分鐘/自動錫銲技術:錫銲固著後,插入損失小於0.2dB | 潛力預估: 自動對光技術為光電元件構裝相關產業之關鍵技術,未來具有廣大的市場發展潛力。自動錫銲技術可以較高的品質及穩定性來取代人工,除已被廣為使用的電子產業外,於新興的光電產業亦具有高度發產空間

平面光波導自動構裝系統

執行單位: 工研院機械所 | 產出年度: 93 | 產出單位: | 計畫名稱: 工研院精密機械與微機電領域環境建構計畫 | 領域: | 技術規格: 光通訊多通道元件對光技術對光型式:Fiber Array to Fiber Array/‧ 通道數:8 | 潛力預估: 以光通訊元件的發展趨勢來看,均朝向模組化、高頻寬、多通道數、低成本、小體積發展,所以平面光波導將會是未來光通訊網路中相當重要的元件。目前日本及歐美等國正極力促成光通訊網路的建立,因此未來平面光波導元件...

晶片/晶圓鍵合技術

執行單位: 工研院機械所 | 產出年度: 93 | 產出單位: | 計畫名稱: 工研院精密機械與微機電領域環境建構計畫 | 領域: | 技術規格: 晶片/晶圓鍵合精度:±10μm ( XY placement ) , ±0.1°(θ rotation )/大面積加熱板溫度控制技術:250± 1℃/瞬間加熱板溫度控制技術:500± 5℃/視覺對位技... | 潛力預估: 熱超音波覆晶技術具高效率及綠色製程特性,將成為覆晶技術主流製程之一/高速取放技術有效提昇設備競爭力/精密定位系統大幅提昇設備製程良率/製程設備整合開發,提供使用者統和解決方案/掌握關鍵模組開發能力,縮...

晶圓液相沉積金屬薄膜技術

執行單位: 工研院機械所 | 產出年度: 93 | 產出單位: | 計畫名稱: 工研院精密機械與微機電領域環境建構計畫 | 領域: | 技術規格: 6吋晶圓,凸塊厚度18μm,電鍍均勻性< 4%,TIR平均值< 1μm/8吋晶圓,凸塊厚度18μm,電鍍均勻性< 5%,TIR平均值< 1μm | 潛力預估: Multi-cup電鍍模組可整合成不同型式量產機台,並具備即時電壓/電流監測功能,確保晶圓電鍍之品質

高速大面積電漿光阻剝離技術

執行單位: 工研院機械所 | 產出年度: 93 | 產出單位: | 計畫名稱: 工研院精密機械與微機電領域環境建構計畫 | 領域: | 技術規格: 基板尺寸:620×750 mm,第3.5代LCD面板尺寸/製程溫度:≦250℃/‧ 去光阻速度:2μm/min | 潛力預估: 基板尺寸放大至1100×1250mm (第5代LCD面板尺寸)/高速大面積電漿蝕刻、灰化等相關技術應用

切割模組

執行單位: 工研院機械所 | 產出年度: 93 | 產出單位: | 計畫名稱: 工研院精密機械與微機電領域環境建構計畫 | 領域: | 技術規格: 劃線寬度:3~5 μm/劃線深度:3~5 μm/晶圓厚度量測精度:± 1 μm/劃線力量:5~100g,解析度0.3g | 潛力預估: 可因應未來生醫晶片、微機電晶片及覆晶片等薄型晶片,在切割預留寬度(street)由50μm期望下降到20μm的產品需求及無碎屑切割裂片技術

脆硬材料裂片裝置

執行單位: 工研院機械所 | 產出年度: 93 | 產出單位: | 計畫名稱: 工研院精密機械與微機電領域環境建構計畫 | 領域: | 技術規格: 適用晶圓尺寸:6吋/Z軸行程:3mm (可程式控制)/Z軸速度:0.2sec (最快)/Z1軸行程:0.8mm (可程式控制)/Z1軸速度速度:0.3sec (最快)/裂片氣壓缸速度:0.15sec ... | 潛力預估: 本裝置可整合於鐳射劃線機或鑽石尖點劃線機進行精密的自動劃線裂片製程而廣泛運用於光電與半導體產業

晶圓背磨設備

執行單位: 工研院機械所 | 產出年度: 93 | 產出單位: | 計畫名稱: 工研院精密機械與微機電領域環境建構計畫 | 領域: | 技術規格: 主軸最高轉速:4000 rpm/主軸功率:5.5/7.5 kW/主軸迴轉精度:0.1/1000 rpm/最大工件尺寸:ψ300mm/工作台最高轉速:500rpm/垂直軸行程: 120 mm/垂直軸進給... | 潛力預估: 針對國內蓬勃發展之半導體產業,光電及其週邊產業,提供合適的加工機具,高精度的設計,適合微米級的加工,尤其是硬脆材料

永磁電機應用技術

執行單位: 工研院機械所 | 產出年度: 93 | 產出單位: | 計畫名稱: 工研院精密機械與微機電領域環境建構計畫 | 領域: | 技術規格: 最大轉矩:800Nm @ 150rpm,220V or 380V | 潛力預估: 整合國內傳統電機既有能力,可完整提供新型應用之永磁電機之設計、製作。

次微米平台控制器應用技術

執行單位: 工研院機械所 | 產出年度: 93 | 產出單位: | 計畫名稱: 工研院精密機械與微機電領域環境建構計畫 | 領域: | 技術規格: 二軸次微米運動控制系統: ‧ 二軸行程均≧100mm ‧ 載重≧15公斤 ‧ 最小可驅動單位≦0.05μm ‧ 重覆精度≦0.5μm | 潛力預估: 具備長行程與次微米精度等特性,可應用於微放電加工機、微銑床、微車床、超精密磨床等高精密的CNC加工機上。引領國內業者進入光電、通訊、3C產品與生醫領域等高附加價值的微細加工設備市場。

模組化高剛性平台

執行單位: 工研院機械所 | 產出年度: 93 | 產出單位: | 計畫名稱: 工研院精密機械與微機電領域環境建構計畫 | 領域: | 技術規格: 不放大振動之頻寬為0-200Hz,剛性大於8×108 N/m(地板為完全剛性之狀況) | 潛力預估: 模組化精密高剛性平台技術之開發及應用,可以取代目前重量較重之花崗岩平台或鋼筋混凝土平台,經由平台之減重並維持更高之剛性,可以減輕廠房結構之負擔,增加廠房之使用率。適用於12吋半導體製程及平面顯示器產業...

奈米機械隔振模組技術

執行單位: 工研院機械所 | 產出年度: 93 | 產出單位: | 計畫名稱: 工研院精密機械與微機電領域環境建構計畫 | 領域: | 技術規格: 1-400Hz以內均有減振之效果,其中垂直方向在6Hz以上之減振能力為-14dB(80%),水平方向在6Hz以上之減振能力為-12dB(75%) | 潛力預估: 隨著奈米科技及相關技術之不斷提昇,使得相關之奈米級檢測設備之應用更為普及。對於小型之奈米檢測設備如SPM及AFM,本模組可有效地與檢測設備結合,以取代大型之光學桌及氣墊隔振系統,並且能在低頻提供更好的...

線型馬達高速切削加工機技術

執行單位: 工研院機械所 | 產出年度: 93 | 產出單位: | 計畫名稱: 工研院精密機械與微機電領域環境建構計畫 | 領域: | 技術規格: X/Y/Z行程:800×600×500mm X/Y/Z‧??? 最大進給速度:120m/min X/Y/Z‧??? 最大進給加速度:2G‧???主軸最高轉速:24,000rpm | 潛力預估: 近年來高速切削之相關技術蓬勃發展,其應用範圍已從早期侷限於航太業鋁合金切削擴充至汽車業、模具業、電子業,切削材料除傳統的鋁合金切削外,亦包括鑄鐵、合金鋼、複合材料與高硬度材料。高速切削具有高切削量、低...

串列網路伺服運動控制應用技術

執行單位: 工研院機械所 | 產出年度: 93 | 產出單位: | 計畫名稱: 工研院精密機械與微機電領域環境建構計畫 | 領域: | 技術規格: ??? 串列網路伺服軸:8軸(Mitsubishi SSCNET),可擴充至16軸/泛用開迴路:4軸/泛用閉迴路:1軸,可擴充至5軸/數位轉類比:2組(16 bits),可擴充至6組/類比轉數位:2組... | 潛力預估: 可實現高速、高精度的定位控制,及多軸即時同步運動控制,在不用增加控制母板下,硬體軸數與IO點數擴充彈性大,為國內光電半導體設備與CNC工具機業,提供了一個降低系統配線複雜度與維護簡單化的有效解決方案。

光通訊TO-Can雷射銲接機

執行單位: 工研院機械所 | 產出年度: 93 | 產出單位: | 計畫名稱: 工研院精密機械與微機電領域環境建構計畫 | 領域: | 技術規格: 雷射束數目:3/雷射型式:Nd:YAG/功率:20 W/視覺與雷射頭分離/X1 軸行程: 50mm, 定位精度: 5μm, 解析度: 0.2μm/Y1軸 (手動) | 潛力預估:

光隔絕器自動對光與自動錫銲固著技術

執行單位: 工研院機械所 | 產出年度: 93 | 產出單位: | 計畫名稱: 工研院精密機械與微機電領域環境建構計畫 | 領域: | 技術規格: ‧??? 自動對光技術:單光束自動對光 < 3 分鐘/自動錫銲技術:錫銲固著後,插入損失小於0.2dB | 潛力預估: 自動對光技術為光電元件構裝相關產業之關鍵技術,未來具有廣大的市場發展潛力。自動錫銲技術可以較高的品質及穩定性來取代人工,除已被廣為使用的電子產業外,於新興的光電產業亦具有高度發產空間

平面光波導自動構裝系統

執行單位: 工研院機械所 | 產出年度: 93 | 產出單位: | 計畫名稱: 工研院精密機械與微機電領域環境建構計畫 | 領域: | 技術規格: 光通訊多通道元件對光技術對光型式:Fiber Array to Fiber Array/‧ 通道數:8 | 潛力預估: 以光通訊元件的發展趨勢來看,均朝向模組化、高頻寬、多通道數、低成本、小體積發展,所以平面光波導將會是未來光通訊網路中相當重要的元件。目前日本及歐美等國正極力促成光通訊網路的建立,因此未來平面光波導元件...

晶片/晶圓鍵合技術

執行單位: 工研院機械所 | 產出年度: 93 | 產出單位: | 計畫名稱: 工研院精密機械與微機電領域環境建構計畫 | 領域: | 技術規格: 晶片/晶圓鍵合精度:±10μm ( XY placement ) , ±0.1°(θ rotation )/大面積加熱板溫度控制技術:250± 1℃/瞬間加熱板溫度控制技術:500± 5℃/視覺對位技... | 潛力預估: 熱超音波覆晶技術具高效率及綠色製程特性,將成為覆晶技術主流製程之一/高速取放技術有效提昇設備競爭力/精密定位系統大幅提昇設備製程良率/製程設備整合開發,提供使用者統和解決方案/掌握關鍵模組開發能力,縮...

晶圓液相沉積金屬薄膜技術

執行單位: 工研院機械所 | 產出年度: 93 | 產出單位: | 計畫名稱: 工研院精密機械與微機電領域環境建構計畫 | 領域: | 技術規格: 6吋晶圓,凸塊厚度18μm,電鍍均勻性< 4%,TIR平均值< 1μm/8吋晶圓,凸塊厚度18μm,電鍍均勻性< 5%,TIR平均值< 1μm | 潛力預估: Multi-cup電鍍模組可整合成不同型式量產機台,並具備即時電壓/電流監測功能,確保晶圓電鍍之品質

高速大面積電漿光阻剝離技術

執行單位: 工研院機械所 | 產出年度: 93 | 產出單位: | 計畫名稱: 工研院精密機械與微機電領域環境建構計畫 | 領域: | 技術規格: 基板尺寸:620×750 mm,第3.5代LCD面板尺寸/製程溫度:≦250℃/‧ 去光阻速度:2μm/min | 潛力預估: 基板尺寸放大至1100×1250mm (第5代LCD面板尺寸)/高速大面積電漿蝕刻、灰化等相關技術應用

切割模組

執行單位: 工研院機械所 | 產出年度: 93 | 產出單位: | 計畫名稱: 工研院精密機械與微機電領域環境建構計畫 | 領域: | 技術規格: 劃線寬度:3~5 μm/劃線深度:3~5 μm/晶圓厚度量測精度:± 1 μm/劃線力量:5~100g,解析度0.3g | 潛力預估: 可因應未來生醫晶片、微機電晶片及覆晶片等薄型晶片,在切割預留寬度(street)由50μm期望下降到20μm的產品需求及無碎屑切割裂片技術

脆硬材料裂片裝置

執行單位: 工研院機械所 | 產出年度: 93 | 產出單位: | 計畫名稱: 工研院精密機械與微機電領域環境建構計畫 | 領域: | 技術規格: 適用晶圓尺寸:6吋/Z軸行程:3mm (可程式控制)/Z軸速度:0.2sec (最快)/Z1軸行程:0.8mm (可程式控制)/Z1軸速度速度:0.3sec (最快)/裂片氣壓缸速度:0.15sec ... | 潛力預估: 本裝置可整合於鐳射劃線機或鑽石尖點劃線機進行精密的自動劃線裂片製程而廣泛運用於光電與半導體產業

晶圓背磨設備

執行單位: 工研院機械所 | 產出年度: 93 | 產出單位: | 計畫名稱: 工研院精密機械與微機電領域環境建構計畫 | 領域: | 技術規格: 主軸最高轉速:4000 rpm/主軸功率:5.5/7.5 kW/主軸迴轉精度:0.1/1000 rpm/最大工件尺寸:ψ300mm/工作台最高轉速:500rpm/垂直軸行程: 120 mm/垂直軸進給... | 潛力預估: 針對國內蓬勃發展之半導體產業,光電及其週邊產業,提供合適的加工機具,高精度的設計,適合微米級的加工,尤其是硬脆材料

永磁電機應用技術

執行單位: 工研院機械所 | 產出年度: 93 | 產出單位: | 計畫名稱: 工研院精密機械與微機電領域環境建構計畫 | 領域: | 技術規格: 最大轉矩:800Nm @ 150rpm,220V or 380V | 潛力預估: 整合國內傳統電機既有能力,可完整提供新型應用之永磁電機之設計、製作。

次微米平台控制器應用技術

執行單位: 工研院機械所 | 產出年度: 93 | 產出單位: | 計畫名稱: 工研院精密機械與微機電領域環境建構計畫 | 領域: | 技術規格: 二軸次微米運動控制系統: ‧ 二軸行程均≧100mm ‧ 載重≧15公斤 ‧ 最小可驅動單位≦0.05μm ‧ 重覆精度≦0.5μm | 潛力預估: 具備長行程與次微米精度等特性,可應用於微放電加工機、微銑床、微車床、超精密磨床等高精密的CNC加工機上。引領國內業者進入光電、通訊、3C產品與生醫領域等高附加價值的微細加工設備市場。

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