靜電吸附盤及其半導體設備
- 經濟部產業技術司可移轉技術資料集 @ 經濟部

技術名稱-中文靜電吸附盤及其半導體設備的執行單位是中科院化學研究所, 產出年度是104, 計畫名稱是高階手持裝置三維整合應用技術計畫, 領域是智慧科技, 技術規格是1. 本發明為藉由在氮化鋁(AlN)或其它陶瓷介電質基板之間夾入電極，進行燒成而製作的陶瓷製的靜電吸盤是將靜電吸附用電力施加於內建的電極，施加電壓為3000V與-3000V之轉換，電極表面設計一氣孔間隙(Air Gap)通道，被吸附晶圓材為之矽晶圓，獲得氮化鋁(AlN)陶瓷介電質基板之淨靜電吸附壓力..., 潛力預估是市場預估30億台幣.

序號	7658
產出年度	104
技術名稱-中文	靜電吸附盤及其半導體設備
執行單位	中科院化學研究所
產出單位	(空)
計畫名稱	高階手持裝置三維整合應用技術計畫
領域	智慧科技
已申請專利之國家	中華民國
已獲得專利之國家	(空)
技術現況敘述-中文	本發明的靜電吸盤，其特徵在於包含具有陶瓷層的材料包括，藉由在氮化鋁(AlN)或氧化鋁(Al2O3)等的陶瓷介電質基板之間夾入電極，進行燒成而製作的陶瓷製的靜電吸盤是將靜電吸附用電力施加於內建的電極，透過靜電力吸附矽晶圓等的基板。本文探討不同情況對被吸附物靜電力的影響情況，如下：（1）被吸附物材料（2）靜電吸盤陶瓷材料（3）矽晶圓厚度（4）陶瓷表面粗糙度，及靜電吸放時間的影響範疇。
技術現況敘述-英文	(空)
技術規格	1. 本發明為藉由在氮化鋁(AlN)或其它陶瓷介電質基板之間夾入電極，進行燒成而製作的陶瓷製的靜電吸盤是將靜電吸附用電力施加於內建的電極，施加電壓為3000V與-3000V之轉換，電極表面設計一氣孔間隙(Air Gap)通道，被吸附晶圓材為之矽晶圓，獲得氮化鋁(AlN)陶瓷介電質基板之淨靜電吸附壓力，用以吸附矽晶圓。
技術成熟度	試量產
可應用範圍	半導體產業
潛力預估	市場預估30億台幣
聯絡人員	郭養國
電話	03-4712201#358172
傳真	03-4116381
電子信箱	ykkuo2002@yahoo.com.tw
參考網址	http://www.csistdup.org.tw/
所須軟硬體設備	半導體相關軟硬體設備
需具備之專業人才	具備半導體設備操作之專業人才
同步更新日期	2024-09-03

序號

7658

產出年度

104

技術名稱-中文

靜電吸附盤及其半導體設備

執行單位

中科院化學研究所

產出單位

(空)

計畫名稱

高階手持裝置三維整合應用技術計畫

領域

智慧科技

已申請專利之國家

中華民國

已獲得專利之國家

(空)

技術現況敘述-中文

本發明的靜電吸盤，其特徵在於包含具有陶瓷層的材料包括，藉由在氮化鋁(AlN)或氧化鋁(Al2O3)等的陶瓷介電質基板之間夾入電極，進行燒成而製作的陶瓷製的靜電吸盤是將靜電吸附用電力施加於內建的電極，透過靜電力吸附矽晶圓等的基板。本文探討不同情況對被吸附物靜電力的影響情況，如下：（1）被吸附物材料（2）靜電吸盤陶瓷材料（3）矽晶圓厚度（4）陶瓷表面粗糙度，及靜電吸放時間的影響範疇。

技術現況敘述-英文

(空)

技術規格

1. 本發明為藉由在氮化鋁(AlN)或其它陶瓷介電質基板之間夾入電極，進行燒成而製作的陶瓷製的靜電吸盤是將靜電吸附用電力施加於內建的電極，施加電壓為3000V與-3000V之轉換，電極表面設計一氣孔間隙(Air Gap)通道，被吸附晶圓材為之矽晶圓，獲得氮化鋁(AlN)陶瓷介電質基板之淨靜電吸附壓力，用以吸附矽晶圓。

技術成熟度

試量產

可應用範圍

半導體產業

潛力預估

市場預估30億台幣

聯絡人員

郭養國

電話

03-4712201#358172

傳真

03-4116381

電子信箱

ykkuo2002@yahoo.com.tw

參考網址

http://www.csistdup.org.tw/

所須軟硬體設備

半導體相關軟硬體設備

需具備之專業人才

具備半導體設備操作之專業人才

同步更新日期

2024-09-03

根據名稱靜電吸附盤及其半導體設備找到的相關資料

靜電吸附盤及其半導體設備

@ 經濟部產業技術司可移轉技術資料集

靜電吸附盤及其半導體設備

@ 經濟部產業技術司可移轉技術資料集

[ 搜尋所有 靜電吸附盤及其半導體設備 ... ]

根據電話 03-4712201 358172 找到的相關資料

(以下顯示 8 筆) (或要:直接搜尋所有 03-4712201 358172 ...)

基板之熱均壓成型法	核准國家: 中華民國 \| 執行單位: 中科院化學研究所 \| 產出年度: 103 \| 專利性質: 發明 \| 計畫名稱: 高階手持裝置三維整合應用技術計畫 \| 專利發明人: 郭養國、向嘉頤、姜林靜惠、黃福興 \| 證書號碼: I 432274 @ 經濟部產業技術司–專利資料集
LED驅動晶片之整合裝置	核准國家: 中華民國 \| 執行單位: 中科院材料暨光電研究所 \| 產出年度: 103 \| 專利性質: 發明 \| 計畫名稱: 智慧綠能電子/車電關鍵技術計畫 \| 專利發明人: 郭養國、王金鵬、呂理煌 \| 證書號碼: 發明第I 432673號 @ 經濟部產業技術司–專利資料集
氮化鋁碳素除氧法	核准國家: 中華民國 \| 執行單位: 中科院化學研究所 \| 產出年度: 105 \| 專利性質: 發明 \| 計畫名稱: ICT應用關鍵材料及元件技術開發計畫 \| 專利發明人: 郭養國、向嘉頤、劉得鉢、姜林靜惠 \| 證書號碼: I531528 @ 經濟部產業技術司–專利資料集
一種氣氛控制碳熱還原製備氮化鋁粉末的方法	核准國家: 中華民國 \| 執行單位: 中科院化學研究所 \| 產出年度: 105 \| 專利性質: 發明 \| 計畫名稱: ICT應用關鍵材料及元件技術開發計畫 \| 專利發明人: 賴冠廷、許志雄、楊旻諭 \| 證書號碼: I548591 @ 經濟部產業技術司–專利資料集
溶膠-凝膠法植碳技術	執行單位: 中科院化學所 \| 產出年度: 102 \| 產出單位: \| 計畫名稱: 民生福祉領域工業基礎技術研究計畫 \| 領域: \| 技術規格: 碳熱還原法球磨混合技術、碳熱還原法溶膠-凝膠植碳技術 \| 潛力預估: 高導熱氮化鋁基板、高導熱氮化鋁陶瓷元件 @ 經濟部產業技術司可移轉技術資料集
氮化鋁e-chuck共燒成品可靠度驗證技術	執行單位: 中科院材料所 \| 產出年度: 102 \| 產出單位: \| 計畫名稱: 智慧綠能電子/車電關鍵技術計畫 \| 領域: \| 技術規格: 氮化鋁e-chuck共燒成品的四點抗彎強度及維式硬度測試驗證技術、氮化鋁e-chuck共燒成品的電絕緣性與漏電流測試驗證技術、氮化鋁e-chuck共燒成品的散熱性能驗證技術、氮化鋁e-chuck共燒成... \| 潛力預估: 半導體製程的鍍膜、離子植入、黃光與蝕刻等製程設備 @ 經濟部產業技術司可移轉技術資料集
天線成形之製作方法	執行單位: 中科院化學研究所 \| 產出年度: 103 \| 產出單位: \| 計畫名稱: 高階手持裝置三維整合應用技術計畫 \| 領域: 智慧科技 \| 技術規格: 一種利用多軸機械加工之立體天線線路成型技術。 \| 潛力預估: 加工過程不需使用任何光罩，並以控制基板表面粗糙度等方式提升銅線覆蓋品質，是一種低成本與快速的加工方法。 @ 經濟部產業技術司可移轉技術資料集
非平面立體天線成型之製作方法	執行單位: 中科院化學研究所 \| 產出年度: 103 \| 產出單位: \| 計畫名稱: 高階手持裝置三維整合應用技術計畫 \| 領域: 智慧科技 \| 技術規格: 非平面絕緣基板製作技術、立體微影技術技術等。 \| 潛力預估: 提高天線低頻的性能，同時對於天線的微小化亦有相當程度的幫助，有助於搭載之天線載具降低重量與能源的使用。 @ 經濟部產業技術司可移轉技術資料集

[ 搜尋所有 03-4712201 358172 ... ]

在『經濟部產業技術司可移轉技術資料集』資料集內搜尋:

與靜電吸附盤及其半導體設備同分類的經濟部產業技術司可移轉技術資料集

藥材化學品管技術開發	執行單位: 藥技中心 \| 產出年度: 94 \| 產出單位: \| 計畫名稱: 呼吸道及抗關節炎植物藥與科學技術開發四年計畫 \| 領域: \| 技術規格: \| 潛力預估: 可協助業者建立符合國際級之品管規格，以利日國產品之外銷。
中草藥國際形象網	執行單位: 藥技中心 \| 產出年度: 94 \| 產出單位: \| 計畫名稱: 呼吸道及抗關節炎植物藥與科學技術開發四年計畫 \| 領域: \| 技術規格: \| 潛力預估: 可協助業者建立符合國際級之品管規格，以利日國產品之外銷。
顯示器塑膠基材高硬度薄膜處理技術	執行單位: 工研院化工所 \| 產出年度: 94 \| 產出單位: \| 計畫名稱: 高分子奈米材料與光電應用四年計畫 \| 領域: \| 技術規格: 光學薄膜其表面硬度≧3H‧ 穿透度≧90%。接著強度符合JIS K5400 \| 潛力預估: 顯示器用塑膠基材所需之光學塗裝其相關研究成果與專利於1980陸續被提出，且其全球市場產值預估於2005達到36億元新台幣，且預計至2008年市場產值將達到100億元新台幣。
高分子奈微米結構光學膜板加工應用技術	執行單位: 工研院化工所 \| 產出年度: 94 \| 產出單位: \| 計畫名稱: 高分子奈米材料與光電應用四年計畫 \| 領域: \| 技術規格: ‧ feature size between 100-300nm,‧ deviation<±5%‧ patterning size about 4-5’’ (full size) \| 潛力預估: 高分子微光學膜片佔顯示器成本10-15%，隨著平面顯示器的需求，其產值不斷攀升，每年有數百億的市場規模
顯示器用封裝材料技術	執行單位: 工研院化工所 \| 產出年度: 94 \| 產出單位: \| 計畫名稱: 高分子奈米材料與光電應用四年計畫 \| 領域: \| 技術規格: ‧ 硬度(shore D) ≧50‧ 接著強度(Lap-Shear) ≧40kgf/cm2‧ 透光率 (製樣厚度1mm) ≧90% \| 潛力預估: 10億新台幣
軟板用高性能接著劑技術	執行單位: 工研院化工所 \| 產出年度: 94 \| 產出單位: \| 計畫名稱: 高分子奈米材料與光電應用四年計畫 \| 領域: \| 技術規格: 可進行大面積Roll to Roll塗佈 \| 潛力預估:
紅外線遮蔽奈米粉體與膠體製程技術	執行單位: 工研院化工所 \| 產出年度: 94 \| 產出單位: \| 計畫名稱: 特化與奈米化工技術開發四年計畫 \| 領域: \| 技術規格: ‧ Sb/Sn = 5～15%‧ 晶粒大小 < 10nm‧ 膠體固含量: 30%‧ 粒徑大小D50<100nm \| 潛力預估: 在亞熱帶地區越來越多大樓的玻璃窗與汽車玻璃都會加裝一層具有阻絕紫外線與紅外線射進室內的透明薄層濾光物質，以便達到抗UV與隔熱效果。台灣地區的汽車數量已超過2千萬五千輛，而其中會在車窗玻璃加裝隔熱紙的車...
液晶純化回收技術	執行單位: 工研院化工所 \| 產出年度: 94 \| 產出單位: \| 計畫名稱: 特化與奈米化工技術開發四年計畫 \| 領域: \| 技術規格: ‧ 比阻值:>1013 W Cm‧ 水份:<100ppm‧ 回收率:>95% \| 潛力預估: 本技術用於TFT-LCD液晶回收純化之產值預估可達新台幣5~10億元。
UV交聯型顏料微粒化分散技術	執行單位: 工研院化工所 \| 產出年度: 94 \| 產出單位: \| 計畫名稱: 特化與奈米化工技術開發四年計畫 \| 領域: \| 技術規格: ‧ 顏料分散液顏料平均粒徑(D50)：洋紅、黃色、藍色≦100 nm，黑色≦120 nm‧ 顏料分散液顏料含量≧15 wt%‧ 顏料分散液黏度≦70 cps‧ 經40℃、30天後，顏料粒徑變化小於30... \| 潛力預估: Non-Volatile UV curable 顏料分散沒含溶劑，黏度低、高安定分散，微粒化分散粒徑<100nm
奈米混成高硬度塗料	執行單位: 工研院化工所 \| 產出年度: 94 \| 產出單位: \| 計畫名稱: 特化與奈米化工技術開發四年計畫 \| 領域: \| 技術規格: *‧ 通過百格試驗、‧ 耐酒精擦拭、‧ 鉛筆硬度達3H、‧ 透光度>90%、Haze<0.5%、‧ 耐150℃30min， \| 潛力預估: 應用在光電薄膜、塑膠地磚、地板、木器、金屬及3C產業的耐磨高硬度塗料市場，估計超過50億元。**
R.G.B. 菲系電激發光高分子聚合與純化技術	執行單位: 工研院化工所 \| 產出年度: 94 \| 產出單位: \| 計畫名稱: 特化與奈米化工技術開發四年計畫 \| 領域: \| 技術規格: 紅藍綠三色菲系電激發光高分子：‧ 分子量 > 100 K‧ 溶解度 > 1 wt.%/ml ﹙甲苯溶劑﹚‧ 藍光 EL & PL :420 ~ 450 nm‧ 綠光 EL & PL : 520 ~ 5... \| 潛力預估: 本產品可應用於低成本FPD與平面光源，相關材料技術亦可應用於一般有機光電元件，如：太陽能電池、塑膠IC、感測元件…等。預估技術衍生之相關應用產品產值可達新台幣 50 億以上。
膠囊化液晶技術	執行單位: 工研院化工所 \| 產出年度: 94 \| 產出單位: \| 計畫名稱: 特化與奈米化工技術開發四年計畫 \| 領域: \| 技術規格: ‧ 粒徑2-10 um ± 2um‧ 阻值≧ 1013‧ 膜厚15um,‧ 對比＞6‧ 驅動電壓:≦25 V‧ 反射率>35％ \| 潛力預估: 本計劃建立光調控分子結構設計與應用之技術基礎開發，此項技術可用於顯示器產業。預估技術衍生之應用產品，未來3年可增加新台幣20億以上之產值。
高倍數DVDR染料	執行單位: 工研院化工所 \| 產出年度: 94 \| 產出單位: \| 計畫名稱: 特化與奈米化工技術開發四年計畫 \| 領域: \| 技術規格: ‧ λmax = 570-580nm‧ 染料純度 >99 %‧ ε> 1x105‧ 溶解度≧2%‧ Td (TGA) > 150℃‧ mp >150℃ \| 潛力預估: 台灣光碟廠延續CD-R光碟片之製造，DVDR光碟總產能之市佔率可望佔全球7成以上。日本Fujiwara預估2005年DVDR碟片市場需求較2004年成長近一倍，由2004年約20-22億片向上突破至逾...
顯示器用奈米級機能性光學薄膜－低抗反射膜	執行單位: 工研院化工所 \| 產出年度: 94 \| 產出單位: \| 計畫名稱: 特化與奈米化工技術開發四年計畫 \| 領域: \| 技術規格: ‧ 基材： 188μm. PET Film‧ 鉛筆硬度：2H‧ 穿透率>93﹪‧ 反射率<2%‧ 霧度<0.5% \| 潛力預估: 可藉由塗料配方調整，可增加眩光、抗靜電、防污等功能，提高產品之附加價值。
O-PET光學膜研製技術	執行單位: 工研院化工所 \| 產出年度: 94 \| 產出單位: \| 計畫名稱: 特化與奈米化工技術開發四年計畫 \| 領域: \| 技術規格: ‧ 透光率>85%‧ 吸水率<0.4wt%‧ IV>0.4‧ CTE>90℃‧ 雙軸延伸倍率至少3倍 \| 潛力預估: 全球觸控面板2005年可望達到123.2 億元新台幣，年複合成長率高達14 ％。而台灣觸控面板2005年市場規模可望達到25.7 億新台幣，年複合成長率高達56.9 ％。