光譜偏移式奈米近接裝置
- 技術司專利資料集 @ 經濟部

專利名稱-中文光譜偏移式奈米近接裝置的核准國家是中華民國, 證書號碼是200276, 專利性質是發明, 執行單位是工研院量測中心, 產出年度是93, 計畫名稱是工研院創新前瞻技術研究計畫, 專利發明人是林耀明, 王浩偉.

序號	606
產出年度	93
領域別	(空)
專利名稱-中文	光譜偏移式奈米近接裝置
執行單位	工研院量測中心
產出單位	(空)
計畫名稱	工研院創新前瞻技術研究計畫
專利發明人	林耀明 \| 王浩偉
核准國家	中華民國
獲證日期	(空)
證書號碼	200276
專利期間起	(空)
專利期間訖	(空)
專利性質	發明
技術摘要-中文	本發明係有關於一種光譜偏移式奈米近接定位裝置，其主要包括寬頻光源、導光單元及光接收單元。寬頻光源發射具有第一中心波長之寬頻光至導光單元，導光單元透過一探頭單元將寬頻光照射待測物。待測物產生具有第二中心波長之偏移光，並經原光路返回導光單元而由光接收單元予以接收，繼而光接收單元依據光譜偏移之特性曲線與第一中心波長及第二中心波長之差值，求出探頭單元與待測物之距離。利用此差值來回授控制探頭單元的位移驅動單元，來調整探頭單元與待測物的近場距離。
技術摘要-英文	(空)
聯絡人員	金娟如
電話	03-5743816
傳真	03-5720621
電子信箱	judyking@itri.org.tw
參考網址	http://www.itri.org.tw
備註	原領域別為機械運輸，95年改為機電運輸
特殊情形	(空)

序號

606

產出年度

領域別

(空)

專利名稱-中文

光譜偏移式奈米近接裝置

執行單位

工研院量測中心

產出單位

(空)

計畫名稱

工研院創新前瞻技術研究計畫

專利發明人

林耀明 | 王浩偉

核准國家

中華民國

獲證日期

(空)

證書號碼

200276

專利期間起

(空)

專利期間訖

(空)

專利性質

發明

技術摘要-中文

本發明係有關於一種光譜偏移式奈米近接定位裝置，其主要包括寬頻光源、導光單元及光接收單元。寬頻光源發射具有第一中心波長之寬頻光至導光單元，導光單元透過一探頭單元將寬頻光照射待測物。待測物產生具有第二中心波長之偏移光，並經原光路返回導光單元而由光接收單元予以接收，繼而光接收單元依據光譜偏移之特性曲線與第一中心波長及第二中心波長之差值，求出探頭單元與待測物之距離。利用此差值來回授控制探頭單元的位移驅動單元，來調整探頭單元與待測物的近場距離。

技術摘要-英文

(空)

聯絡人員

金娟如

電話

03-5743816

傳真

03-5720621

電子信箱

judyking@itri.org.tw

參考網址

http://www.itri.org.tw

備註

原領域別為機械運輸，95年改為機電運輸

特殊情形

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新北市永和區永和路二段１６８號十四樓	總價元: 46350000 \| 房地(土地+建物)+車位 \| 建物移轉總面積平方公尺: 251.01 \| 土地移轉總面積平方公尺: 17.77 \| 建築完成年月: 1000422 \| 都市土地使用分區: 商 \| 建物型態: 住宅大樓(11層含以上有電梯) \| 主要用途: 住家用 \| 交易年月日: 1130128 @ 不動產實價登錄資訊-買賣案件
英全化學工業股份有限公司全興廠	所在工業區名稱: 全興工業區 \| (實際廠場)地址: 彰化縣伸港鄉溪底村興工路三三號 \| 營利事業統一編號: 57104700 \| 管制編號: N1602191 @ 環境保護許可管理系統(暨解除列管)對象基本資料
towel stands [furniture]	商品基本碼 Basic No.: 200276 \| 中譯名稱 Chinese Translation: 立式毛巾架（家具） \| 類似組群碼 TIPO's similar group code: 2001 @ 商品與服務國際（尼斯）分類

新北市永和區永和路二段１６８號十四樓

@ 不動產實價登錄資訊-買賣案件

英全化學工業股份有限公司全興廠

所在工業區名稱: 全興工業區 | (實際廠場)地址: 彰化縣伸港鄉溪底村興工路三三號 | 營利事業統一編號: 57104700 | 管制編號: N1602191

@ 環境保護許可管理系統(暨解除列管)對象基本資料

towel stands [furniture]

商品基本碼 Basic No.: 200276 | 中譯名稱 Chinese Translation: 立式毛巾架（家具） | 類似組群碼 TIPO's similar group code: 2001

@ 商品與服務國際（尼斯）分類

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紅外光轉換可見光之顯微影像裝置	核准國家: 美國 \| 證書號碼: 6,687,051 \| 專利期間起: \| 專利期間訖: \| 專利性質: 發明 \| 執行單位: 工研院量測中心 \| 產出年度: 93 \| 計畫名稱: 工研院創新前瞻技術研究計畫 \| 專利發明人: 王浩偉 \| 林耀明 \| 葉迎春 @ 技術司專利資料集
可調光徑之光學捕捉裙	核准國家: 美國 \| 證書號碼: 6,667,838 \| 專利期間起: \| 專利期間訖: \| 專利性質: 發明 \| 執行單位: 工研院量測中心 \| 產出年度: 93 \| 計畫名稱: 工研院創新前瞻技術研究計畫 \| 專利發明人: 林耀明 \| 王浩偉 \| 羅偕益 @ 技術司專利資料集
紅外光譜、拉曼光譜及螢光光譜之量測光譜裝置	核准國家: 美國 \| 證書號碼: 6835933 \| 專利期間起: \| 專利期間訖: \| 專利性質: 發明 \| 執行單位: 工研院院本部 \| 產出年度: 94 \| 計畫名稱: 工研院創新前瞻技術研究計畫 \| 專利發明人: 林耀明 \| 王浩偉 \| 葉迎春 @ 技術司專利資料集
紅外光轉換可見光之顯微影像裝置	核准國家: 中國大陸 \| 證書號碼: ZL01140383.7 \| 專利期間起: \| 專利期間訖: \| 專利性質: 發明 \| 執行單位: 工研院院本部 \| 產出年度: 94 \| 計畫名稱: 工研院創新前瞻技術研究計畫 \| 專利發明人: 王浩偉 \| 林耀明 \| 葉迎春 @ 技術司專利資料集
紅外光譜、拉曼光譜及螢光光譜之量測光譜裝置	核准國家: 中國大陸 \| 證書號碼: ZL01140215.6 \| 專利期間起: \| 專利期間訖: \| 專利性質: 發明 \| 執行單位: 工研院院本部 \| 產出年度: 95 \| 計畫名稱: 工研院創新前瞻技術研究計畫 \| 專利發明人: 林耀明 \| 王浩偉 \| 葉迎春 @ 技術司專利資料集
紅外光轉換可見光之顯微影像裝置	核准國家: 美國 \| 證書號碼: 6687051 \| 專利期間起: \| 專利期間訖: \| 專利性質: 發明 \| 執行單位: 工研院量測中心 \| 產出年度: 93 \| 計畫名稱: 工研院創新前瞻技術研究計畫 \| 專利發明人: 王浩偉 \| 林耀明 \| 葉迎春 @ 技術司專利資料集
可調光徑之光學捕捉裙	核准國家: 美國 \| 證書號碼: 6667838 \| 專利期間起: \| 專利期間訖: \| 專利性質: 發明 \| 執行單位: 工研院量測中心 \| 產出年度: 93 \| 計畫名稱: 工研院創新前瞻技術研究計畫 \| 專利發明人: 林耀明 \| 王浩偉 \| 羅偕益 @ 技術司專利資料集

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高密度通道光譜影像量測技術	執行單位: 工研院量測中心 \| 產出年度: 93 \| 產出單位: \| 計畫名稱: 自動光學顯微檢測設備技術三年計畫 \| 領域: \| 技術規格: (1)物方視野: 線型 > 6 mm(2) 物方空間解析度: < 250 mm (3) 光譜解析度: < 3 nm (4) 單次量測光譜範圍(free spectral range): 400 nm \| 潛力預估: 台灣的LED設備產能相當充足，但製程良率偏低，且檢測速度遠不及產出率，需求快速光譜檢測新一代技術，本技術可直接針對此需求提供服務。 @ 技術司可移轉技術資料集
高密度光譜分析技術	執行單位: 工研院量測中心 \| 產出年度: 93 \| 產出單位: \| 計畫名稱: 自動光學顯微檢測設備技術三年計畫 \| 領域: \| 技術規格: (1)掃描範圍:300nm~900nm/1250nm~1650nm \| 潛力預估: 可取代目前國外高價產品，可創造產值5億 @ 技術司可移轉技術資料集
垂直掃描白光干涉表徵顯微量測技術	執行單位: 工研院量測中心 \| 產出年度: 93 \| 產出單位: \| 計畫名稱: 自動光學顯微檢測設備技術三年計畫 \| 領域: \| 技術規格: 縱向解析度及量程1nm / 100um、橫向解析度及量程 1um / (500um)2 \| 潛力預估: 結合單頻相移暨垂直掃描白光干涉功能的顯微檢測儀器，在亞洲市場的產值每年可達數億元，其產值更將隨影像顯示器產業產值的成長而大幅提昇。 @ 技術司可移轉技術資料集
3 mil 線寬/線距PCB/FPC 銅箔線路斷路及短路之缺陷檢測技術	執行單位: 工研院量測中心 \| 產出年度: 93 \| 產出單位: \| 計畫名稱: 自動光學顯微檢測設備技術三年計畫 \| 領域: \| 技術規格: (1) 3 mil 線寬/線距HDI-PCB銅箔線路缺陷檢測探頭，尺寸/形狀空間解析度：8~15μm。(2)機台y-方向移動速度：40 mm/sec.。(3)缺陷檢測演算法可自動檢測出open/sh... \| 潛力預估: 國內印刷電路板全製程電路板生產廠商有華通、嘉聯益、雅新、景碩等，產業頗具規模，因此，製程品質之檢測儀器之需求大。 @ 技術司可移轉技術資料集
HDI-PCB銅箔線路雷射盲孔缺陷檢測探頭技術	執行單位: 工研院量測中心 \| 產出年度: 93 \| 產出單位: \| 計畫名稱: 自動光學顯微檢測設備技術三年計畫 \| 領域: \| 技術規格: (1)空間解析度：7.7 μm。(2)深度範圍：< 200μm。 \| 潛力預估: 國內印刷電路板全製程電路板生產廠商有華通、嘉聯益、雅新、景碩等，產業頗具規模，因此，製程品質之檢測儀器之需求大。 @ 技術司可移轉技術資料集
三維形貌量測探頭技術	執行單位: 工研院機械所 \| 產出年度: 97 \| 產出單位: \| 計畫名稱: 機械與系統領域環境建構計畫 \| 領域: \| 技術規格: 垂直解析度≦5μm。2. 水平解析度：≦25μm。3.掃描速度: 125mm/sec。 \| 潛力預估: 預計93年台灣儀器廠將陸續推出設備搶攻台灣與大陸市場。 @ 技術司可移轉技術資料集
電力控制電路	核准國家: 中華民國 \| 證書號碼: 214743 \| 專利期間起: \| 專利期間訖: \| 專利性質: 新型 \| 執行單位: 工研院量測中心 \| 產出年度: 93 \| 計畫名稱: 自動光學顯微檢測設備技術三年計畫 \| 專利發明人: 陳盛仁 \| 楊景榮 \| 林俊宏 \| 陳燦林 @ 技術司專利資料集
提高掃頻電路頻率解析與準確度之系統	核准國家: 中華民國 \| 證書號碼: 184318 \| 專利期間起: \| 專利期間訖: \| 專利性質: 發明 \| 執行單位: 工研院量測中心 \| 產出年度: 93 \| 計畫名稱: 自動光學顯微檢測設備技術三年計畫 \| 專利發明人: 郭晉榮 \| 黃俊雄 @ 技術司專利資料集

高密度通道光譜影像量測技術

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高密度光譜分析技術

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垂直掃描白光干涉表徵顯微量測技術

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3 mil 線寬/線距PCB/FPC 銅箔線路斷路及短路之缺陷檢測技術

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HDI-PCB銅箔線路雷射盲孔缺陷檢測探頭技術

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自動服務組合的方法及系統	核准國家: 中華民國 \| 證書號碼: 206819 \| 專利期間起: \| 專利期間訖: \| 專利性質: 發明 \| 執行單位: 工研院電通所 \| 產出年度: 93 \| 計畫名稱: 工研院創新前瞻技術研究計畫 \| 專利發明人: 陳逸嘉 \| 許維德 \| 洪鵬翔
可呈現筆劃粗細變化之字型描述法	核准國家: 中華民國 \| 證書號碼: 197230 \| 專利期間起: \| 專利期間訖: \| 專利性質: 發明 \| 執行單位: 工研院電通所 \| 產出年度: 93 \| 計畫名稱: 工研院通訊與光電領域環境建構計畫 \| 專利發明人: 林育仁 \| 官振鵬 \| 簡志佳 \| 吳韻宜
資料擾碼架構及其方法	核准國家: 中華民國 \| 證書號碼: I221721 \| 專利期間起: \| 專利期間訖: \| 專利性質: 發明 \| 執行單位: 工研院電通所 \| 產出年度: 93 \| 計畫名稱: 工研院通訊與光電領域環境建構計畫 \| 專利發明人: 繆紹綱 \| 顏恆麟 \| 李宗憲 \| 林志龍 \| 官振鵬
堆疊快取函式框之系統及其方法	核准國家: 中華民國 \| 證書號碼: I220733 \| 專利期間起: \| 專利期間訖: \| 專利性質: 發明 \| 執行單位: 工研院電通所 \| 產出年度: 93 \| 計畫名稱: 工研院通訊與光電領域環境建構計畫 \| 專利發明人: 陳正哲
一種知識分持之金鑰信託系統	核准國家: 中華民國 \| 證書號碼: 131670 \| 專利期間起: \| 專利期間訖: \| 專利性質: 發明 \| 執行單位: 工研院電通所 \| 產出年度: 93 \| 計畫名稱: 網際網路應用技術營運計畫 \| 專利發明人: 樊國楨 \| 宋振華 \| 薛紀建 \| 張耿豪 \| 張明信 \| 謝東明
廢日光燈管之拆解方法及其裝置	核准國家: 美國 \| 證書號碼: 6637098 \| 專利期間起: \| 專利期間訖: \| 專利性質: 發明 \| 執行單位: 工研院環安中心 \| 產出年度: 93 \| 計畫名稱: 工研院永續發展領域環境建構計畫 \| 專利發明人: 楊奉儒 \| 蔡憲坤
雜質振盪分離送料器結構之改良	核准國家: 中華民國 \| 證書號碼: 210230 \| 專利期間起: \| 專利期間訖: \| 專利性質: 新型 \| 執行單位: 工研院環安中心 \| 產出年度: 93 \| 計畫名稱: 工研院永續發展領域環境建構計畫 \| 專利發明人: 李明晃 \| 陳珠修 \| 楊奉儒
以工業廢棄物作為原料的樹脂混凝土	核准國家: 中華民國 \| 證書號碼: 207309 \| 專利期間起: \| 專利期間訖: \| 專利性質: 發明 \| 執行單位: 工研院環安中心 \| 產出年度: 93 \| 計畫名稱: 工研院永續發展領域環境建構計畫 \| 專利發明人: 陳清齊 \| 賴明柱 \| 楊奉儒 \| 陳志恒
研磨機進料結構	核准國家: 中華民國 \| 證書號碼: 211613 \| 專利期間起: \| 專利期間訖: \| 專利性質: 新型 \| 執行單位: 工研院環安中心 \| 產出年度: 93 \| 計畫名稱: 工研院永續發展領域環境建構計畫 \| 專利發明人: 陳珠修 \| 楊奉儒 \| 李明晃
液晶顯示器反射表面的製造方法	核准國家: 中華民國 \| 證書號碼: 195728 \| 專利期間起: \| 專利期間訖: \| 專利性質: 發明 \| 執行單位: 工研院電子所 \| 產出年度: 93 \| 計畫名稱: 下世代平面顯示關鍵技術發展四年計畫 \| 專利發明人: 韋忠光
以無電鍍法於氮化物障礙層上沉積金屬導線的方法	核准國家: 美國 \| 證書號碼: 6713377 \| 專利期間起: \| 專利期間訖: \| 專利性質: 發明 \| 執行單位: 工研院電子所 \| 產出年度: 93 \| 計畫名稱: 奈米電子關鍵技術四年計畫 \| 專利發明人: 李傳英 \| 黃尊禧
以無電鍍法於氮化物障礙層上沉積金屬導線的方法	核准國家: 美國 \| 證書號碼: 6660625 \| 專利期間起: \| 專利期間訖: \| 專利性質: 發明 \| 執行單位: 工研院電子所 \| 產出年度: 93 \| 計畫名稱: 奈米電子關鍵技術四年計畫 \| 專利發明人: 李傳英 \| 黃尊禧
消除光阻中近接效應之方法	核准國家: 中華民國 \| 證書號碼: 183704 \| 專利期間起: \| 專利期間訖: \| 專利性質: 發明 \| 執行單位: 工研院電子所 \| 產出年度: 93 \| 計畫名稱: 工研院通訊與光電領域環境建構計畫 \| 專利發明人: 高蔡勝 \| 戴昌銘
製造反射型液晶顯示面板之方法及所製之裝置	核准國家: 中華民國 \| 證書號碼: 185243 \| 專利期間起: \| 專利期間訖: \| 專利性質: 發明 \| 執行單位: 工研院電子所 \| 產出年度: 93 \| 計畫名稱: 下世代平面顯示關鍵技術發展四年計畫 \| 專利發明人: 丁岱良
具凸起結構之多域配向液晶顯示器	核准國家: 中華民國 \| 證書號碼: 188081 \| 專利期間起: \| 專利期間訖: \| 專利性質: 發明 \| 執行單位: 工研院電子所 \| 產出年度: 93 \| 計畫名稱: 下世代平面顯示關鍵技術發展四年計畫 \| 專利發明人: 劉鴻達

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