位移微擾裝置
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專利名稱-中文位移微擾裝置的核准國家是中華民國, 證書號碼是201468, 專利性質是發明, 執行單位是工研院量測中心, 產出年度是93, 計畫名稱是工研院創新前瞻技術研究計畫, 專利發明人是林耀明, 陳志光, 石宇森.

序號	608
產出年度	93
領域別	(空)
專利名稱-中文	位移微擾裝置
執行單位	工研院量測中心
產出單位	(空)
計畫名稱	工研院創新前瞻技術研究計畫
專利發明人	林耀明 \| 陳志光 \| 石宇森
核准國家	中華民國
獲證日期	(空)
證書號碼	201468
專利期間起	(空)
專利期間訖	(空)
專利性質	發明
技術摘要-中文	本發明係有關於一種位移微擾裝置，主要藉由兩同軸組設且可相對旋轉之楔形透鏡以改變影像之光路並藉此產生位移微擾，同時藉由一影像偵測器擷取位移微擾之影像、並配合影像處理演算法則加以運算。由於本發明之楔形透鏡可任意調整影像光路之位移大小與方向並因此產生任意位置之位移微擾，故可有效提高影像偵測器之解析度；又由於楔形透鏡係同軸組設且數量少，因此可減小整體位移微擾裝置之體積、及降低成本。
技術摘要-英文	(空)
聯絡人員	金娟如
電話	03-5743816
傳真	03-5720621
電子信箱	judyking@itri.org.tw
參考網址	http://www.itri.org.tw
備註	原領域別為機械運輸，95年改為機電運輸
特殊情形	(空)

序號

608

產出年度

領域別

(空)

專利名稱-中文

位移微擾裝置

執行單位

工研院量測中心

產出單位

(空)

計畫名稱

工研院創新前瞻技術研究計畫

專利發明人

林耀明 | 陳志光 | 石宇森

核准國家

中華民國

獲證日期

(空)

證書號碼

201468

專利期間起

(空)

專利期間訖

(空)

專利性質

發明

技術摘要-中文

本發明係有關於一種位移微擾裝置，主要藉由兩同軸組設且可相對旋轉之楔形透鏡以改變影像之光路並藉此產生位移微擾，同時藉由一影像偵測器擷取位移微擾之影像、並配合影像處理演算法則加以運算。由於本發明之楔形透鏡可任意調整影像光路之位移大小與方向並因此產生任意位置之位移微擾，故可有效提高影像偵測器之解析度；又由於楔形透鏡係同軸組設且數量少，因此可減小整體位移微擾裝置之體積、及降低成本。

技術摘要-英文

(空)

聯絡人員

金娟如

電話

03-5743816

傳真

03-5720621

電子信箱

judyking@itri.org.tw

參考網址

http://www.itri.org.tw

備註

原領域別為機械運輸，95年改為機電運輸

特殊情形

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大邦交通有限公司	所在工業區名稱: \| (實際廠場)地址: 臺中市梧棲區草湳里臨港路三段九六○號 \| 營利事業統一編號: 12790839 \| 管制編號: B9113439 @ 環境保護許可管理系統(暨解除列管)對象基本資料
新北市三重區文化南路１５巷１９號	總價元: 4940000 \| 房地(土地+建物) \| 建物移轉總面積平方公尺: 24.52 \| 土地移轉總面積平方公尺: 9.94 \| 建築完成年月: 0720504 \| 都市土地使用分區: 住 \| 建物型態: 公寓(5樓含以下無電梯) \| 主要用途: 住家用 \| 交易年月日: 1130426 @ 不動產實價登錄資訊-買賣案件
YouBike2.0_三鹿社區活動中心	場站目前車輛數量: 6 \| 可還車位數: 4 \| 場站總停車格: 10 \| 地址: 自強路/自強路291巷口(西北側) \| 資料更新時間: 20241124012015 @ 臺中市公共自行車(YouBike2.0)租借站&即時車位資料

大邦交通有限公司

所在工業區名稱: | (實際廠場)地址: 臺中市梧棲區草湳里臨港路三段九六○號 | 營利事業統一編號: 12790839 | 管制編號: B9113439

@ 環境保護許可管理系統(暨解除列管)對象基本資料

新北市三重區文化南路１５巷１９號

@ 不動產實價登錄資訊-買賣案件

YouBike2.0_三鹿社區活動中心

場站目前車輛數量: 6 | 可還車位數: 4 | 場站總停車格: 10 | 地址: 自強路/自強路291巷口(西北側) | 資料更新時間: 20241124012015

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高密度通道光譜影像量測技術	執行單位: 工研院量測中心 \| 產出年度: 93 \| 產出單位: \| 計畫名稱: 自動光學顯微檢測設備技術三年計畫 \| 領域: \| 技術規格: (1)物方視野: 線型 > 6 mm(2) 物方空間解析度: < 250 mm (3) 光譜解析度: < 3 nm (4) 單次量測光譜範圍(free spectral range): 400 nm \| 潛力預估: 台灣的LED設備產能相當充足，但製程良率偏低，且檢測速度遠不及產出率，需求快速光譜檢測新一代技術，本技術可直接針對此需求提供服務。 @ 技術司可移轉技術資料集
高密度光譜分析技術	執行單位: 工研院量測中心 \| 產出年度: 93 \| 產出單位: \| 計畫名稱: 自動光學顯微檢測設備技術三年計畫 \| 領域: \| 技術規格: (1)掃描範圍:300nm~900nm/1250nm~1650nm \| 潛力預估: 可取代目前國外高價產品，可創造產值5億 @ 技術司可移轉技術資料集
垂直掃描白光干涉表徵顯微量測技術	執行單位: 工研院量測中心 \| 產出年度: 93 \| 產出單位: \| 計畫名稱: 自動光學顯微檢測設備技術三年計畫 \| 領域: \| 技術規格: 縱向解析度及量程1nm / 100um、橫向解析度及量程 1um / (500um)2 \| 潛力預估: 結合單頻相移暨垂直掃描白光干涉功能的顯微檢測儀器，在亞洲市場的產值每年可達數億元，其產值更將隨影像顯示器產業產值的成長而大幅提昇。 @ 技術司可移轉技術資料集
3 mil 線寬/線距PCB/FPC 銅箔線路斷路及短路之缺陷檢測技術	執行單位: 工研院量測中心 \| 產出年度: 93 \| 產出單位: \| 計畫名稱: 自動光學顯微檢測設備技術三年計畫 \| 領域: \| 技術規格: (1) 3 mil 線寬/線距HDI-PCB銅箔線路缺陷檢測探頭，尺寸/形狀空間解析度：8~15μm。(2)機台y-方向移動速度：40 mm/sec.。(3)缺陷檢測演算法可自動檢測出open/sh... \| 潛力預估: 國內印刷電路板全製程電路板生產廠商有華通、嘉聯益、雅新、景碩等，產業頗具規模，因此，製程品質之檢測儀器之需求大。 @ 技術司可移轉技術資料集
HDI-PCB銅箔線路雷射盲孔缺陷檢測探頭技術	執行單位: 工研院量測中心 \| 產出年度: 93 \| 產出單位: \| 計畫名稱: 自動光學顯微檢測設備技術三年計畫 \| 領域: \| 技術規格: (1)空間解析度：7.7 μm。(2)深度範圍：< 200μm。 \| 潛力預估: 國內印刷電路板全製程電路板生產廠商有華通、嘉聯益、雅新、景碩等，產業頗具規模，因此，製程品質之檢測儀器之需求大。 @ 技術司可移轉技術資料集
三維形貌量測探頭技術	執行單位: 工研院機械所 \| 產出年度: 97 \| 產出單位: \| 計畫名稱: 機械與系統領域環境建構計畫 \| 領域: \| 技術規格: 垂直解析度≦5μm。2. 水平解析度：≦25μm。3.掃描速度: 125mm/sec。 \| 潛力預估: 預計93年台灣儀器廠將陸續推出設備搶攻台灣與大陸市場。 @ 技術司可移轉技術資料集
電力控制電路	核准國家: 中華民國 \| 證書號碼: 214743 \| 專利期間起: \| 專利期間訖: \| 專利性質: 新型 \| 執行單位: 工研院量測中心 \| 產出年度: 93 \| 計畫名稱: 自動光學顯微檢測設備技術三年計畫 \| 專利發明人: 陳盛仁, 楊景榮, 林俊宏, 陳燦林 @ 技術司專利資料集
提高掃頻電路頻率解析與準確度之系統	核准國家: 中華民國 \| 證書號碼: 184318 \| 專利期間起: \| 專利期間訖: \| 專利性質: 發明 \| 執行單位: 工研院量測中心 \| 產出年度: 93 \| 計畫名稱: 自動光學顯微檢測設備技術三年計畫 \| 專利發明人: 郭晉榮,黃俊雄 @ 技術司專利資料集

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改善週期性電極排列引發光繞射效應之結構及液晶顯示裝置	核准國家: 中華民國 \| 證書號碼: 189045 \| 專利期間起: \| 專利期間訖: \| 專利性質: 發明 \| 執行單位: 工研院電子所 \| 產出年度: 93 \| 計畫名稱: 下世代平面顯示關鍵技術發展四年計畫 \| 專利發明人: 江欣峻, 何璨佑, 許家榮
多方向邏輯式微流體驅動控制系統及其方法	核准國家: 中華民國 \| 證書號碼: 189620 \| 專利期間起: \| 專利期間訖: \| 專利性質: 發明 \| 執行單位: 工研院電子所 \| 產出年度: 93 \| 計畫名稱: 微奈米系統應用技術四年計畫 \| 專利發明人: 莊世瑋, 鍾震桂, 陳仲竹
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具有不同夾厚的半穿透式液晶顯示器裝置及其製造方法	核准國家: 中華民國 \| 證書號碼: 206597 \| 專利期間起: \| 專利期間訖: \| 專利性質: 發明 \| 執行單位: 工研院電子所 \| 產出年度: 93 \| 計畫名稱: 下世代平面顯示關鍵技術發展四年計畫 \| 專利發明人: 張鈞傑, 莊景桑, 陳志強
靜電式驅動之微繼電器及其製造方法	核准國家: 中華民國 \| 證書號碼: 198718 \| 專利期間起: \| 專利期間訖: \| 專利性質: 發明 \| 執行單位: 工研院電子所 \| 產出年度: 93 \| 計畫名稱: 工研院精密機械與微機電領域環境建構計畫 \| 專利發明人: 邱景宏, 顏凱翔, 王欽宏, 陳振頤, 房佩怡
形成頂閘極型薄膜電晶體元件的方法	核准國家: 中華民國 \| 證書號碼: 198717 \| 專利期間起: \| 專利期間訖: \| 專利性質: 發明 \| 執行單位: 工研院電子所 \| 產出年度: 93 \| 計畫名稱: 下世代平面顯示關鍵技術發展四年計畫 \| 專利發明人: 陳志強, 莊景桑, 張鈞傑
自組裝奈米導電凸塊及其製造方法	核准國家: 中華民國 \| 證書號碼: 200159 \| 專利期間起: \| 專利期間訖: \| 專利性質: 發明 \| 執行單位: 工研院電子所 \| 產出年度: 93 \| 計畫名稱: 工研院創新前瞻技術研究計畫 \| 專利發明人: 汪若蕙, 陳裕華
貼合材料層於透明基板上的方法以及形成單晶矽層於透明基板的方法	核准國家: 中華民國 \| 證書號碼: 200277 \| 專利期間起: \| 專利期間訖: \| 專利性質: 發明 \| 執行單位: 工研院電子所 \| 產出年度: 93 \| 計畫名稱: 下世代平面顯示關鍵技術發展四年計畫 \| 專利發明人: 張志祥, 李啟聖, 黃順發, 張榮芳, 許財源, 胡文智, 王亮棠
動態影像灰階檢測方法與裝置	核准國家: 中華民國 \| 證書號碼: 200272 \| 專利期間起: \| 專利期間訖: \| 專利性質: 發明 \| 執行單位: 工研院電子所 \| 產出年度: 93 \| 計畫名稱: 下世代平面顯示關鍵技術發展四年計畫 \| 專利發明人: 廖明俊
微針頭陣列製造方法	核准國家: 中華民國 \| 證書號碼: 206641 \| 專利期間起: \| 專利期間訖: \| 專利性質: 發明 \| 執行單位: 工研院電子所 \| 產出年度: 93 \| 計畫名稱: 微奈米系統應用技術四年計畫 \| 專利發明人: 郭仕奇, 陳相甫
液晶顯示器畫素電路	核准國家: 中華民國 \| 證書號碼: 197257 \| 專利期間起: \| 專利期間訖: \| 專利性質: 發明 \| 執行單位: 工研院電子所 \| 產出年度: 93 \| 計畫名稱: 工研院創新前瞻技術研究計畫 \| 專利發明人: 林展瑞, 王博文, 陳尚立
移動式微流體切換裝置	核准國家: 中華民國 \| 證書號碼: 195345 \| 專利期間起: \| 專利期間訖: \| 專利性質: 發明 \| 執行單位: 工研院電子所 \| 產出年度: 93 \| 計畫名稱: 微小化生醫診療工程技術四年計畫 \| 專利發明人: 龐紹華, 王美雅, 楊宏仁
奈米碳管電子源場發射電流增益製程	核准國家: 中華民國 \| 證書號碼: 223308 \| 專利期間起: \| 專利期間訖: \| 專利性質: 發明 \| 執行單位: 工研院電子所 \| 產出年度: 93 \| 計畫名稱: 下世代平面顯示關鍵技術發展四年計畫 \| 專利發明人: 許志榮, 李鈞道, 李正中, 何家充, 張悠揚
液晶顯示器製造方法	核准國家: 中華民國 \| 證書號碼: 206664 \| 專利期間起: \| 專利期間訖: \| 專利性質: 發明 \| 執行單位: 工研院電子所 \| 產出年度: 93 \| 計畫名稱: 下世代平面顯示關鍵技術發展四年計畫 \| 專利發明人: 廖奇璋, 賴志明, 林英哲, 翁逸君, 李正中, 辛隆賓, 黃良瑩, 詹景翔, 鄭功龍, 劉仕賢
電泳顯示器之製造方法	核准國家: 中華民國 \| 證書號碼: 206722 \| 專利期間起: \| 專利期間訖: \| 專利性質: 發明 \| 執行單位: 工研院電子所 \| 產出年度: 93 \| 計畫名稱: 下世代平面顯示關鍵技術發展四年計畫 \| 專利發明人: 廖奇璋, 陳明道, 劉康弘, 林英哲, 翁逸君, 李正中, 賴志明, 許家榮, 范揚宜

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執行單位

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