從滷水生產鋰濃縮液的方法
- 經濟部產業技術司–專利資料集 @ 經濟部

專利名稱-中文從滷水生產鋰濃縮液的方法的核准國家是美國, 執行單位是工研院能資所, 產出年度是93, 專利性質是發明, 計畫名稱是永續資源技術開發三年計畫, 專利發明人是張怡隆, 江玉琳, 許哲源, 林俊仁, 證書號碼是6,764,584.

序號928
產出年度93
領域別(空)
專利名稱-中文從滷水生產鋰濃縮液的方法
執行單位工研院能資所
產出單位(空)
計畫名稱永續資源技術開發三年計畫
專利發明人張怡隆, 江玉琳, 許哲源, 林俊仁
核准國家美國
獲證日期(空)
證書號碼6,764,584
專利期間起(空)
專利期間訖(空)
專利性質發明
技術摘要-中文(空)
技術摘要-英文(空)
聯絡人員杜培欣
電話03-5915448
傳真(空)
電子信箱(空)
參考網址http://www.itri.org.tw
備註原領域別為材料化工，95年改為生醫材化
特殊情形(空)
同步更新日期2023-07-05

序號

928

產出年度

93

領域別

(空)

專利名稱-中文

從滷水生產鋰濃縮液的方法

執行單位

工研院能資所

產出單位

(空)

計畫名稱

永續資源技術開發三年計畫

專利發明人

張怡隆, 江玉琳, 許哲源, 林俊仁

核准國家

美國

獲證日期

(空)

證書號碼

6,764,584

專利期間起

(空)

專利期間訖

(空)

專利性質

發明

技術摘要-中文

(空)

技術摘要-英文

(空)

聯絡人員

杜培欣

電話

03-5915448

傳真

(空)

電子信箱

(空)

參考網址

http://www.itri.org.tw

備註

原領域別為材料化工，95年改為生醫材化

特殊情形

(空)

同步更新日期

2023-07-05

根據識別碼 6 764 584 找到的相關資料

(以下顯示 8 筆) (或要:直接搜尋所有 6 764 584 ...)

# 6 764 584 於 特定用途化粧品許可證資料集 - 1

許可證字號衛部粧輸字第025316號
註銷狀態(空)
註銷日期(空)
註銷理由(空)
有效日期2023/01/31
發證日期2018/01/31
許可證種類特定用途化粧品
舊證字號(空)
通關簽審文件編號DHA05802531607
中文品名1)花瓣肌柔焦氣墊粉餅 SPF25 PA+ 564, 574, 584, 754, 764, 7742)花瓣肌柔焦氣墊粉餅粉蕊 SPF25 PA+ 564, 574, 584, 754, 764, 774
英文品名1)shu uemura petal skin cushion foundation SPF25/PA+ 564, 574, 584, 754, 764, 7742)shu uemura petal skin cushion foundation refill SPF25/PA+ 564, 574, 584, 754, 764, 774
用途防曬、修飾臉部肌膚。
劑型液劑
包裝盒裝;;附外盒
化粧品類別防晒化粧用品
主成分略述PHENYLBENZIMIDAZOLE SULFONIC ACID
限制項目輸　入
申請商名稱台灣萊雅股份有限公司
申請商地址台北市信義區信義路五段7號22樓23樓
申請商統一編號23991432
製造商名稱COSMAX, INC.
製造廠廠址27, Jeyakgongdan 1-gil, 46, Jeyakgongdan 2-gil, Hyangnam-eup, Hwaseong-si, Gyeonggi-do, Korea
製造廠公司地址(空)
製造廠國別KR
製程(空)
異動日期2018/02/23
許可證字號: 衛部粧輸字第025316號
註銷狀態: (空)
註銷日期: (空)
註銷理由: (空)
有效日期: 2023/01/31
發證日期: 2018/01/31
許可證種類: 特定用途化粧品
舊證字號: (空)
通關簽審文件編號: DHA05802531607
中文品名: 1)花瓣肌柔焦氣墊粉餅 SPF25 PA+ 564, 574, 584, 754, 764, 7742)花瓣肌柔焦氣墊粉餅粉蕊 SPF25 PA+ 564, 574, 584, 754, 764, 774
英文品名: 1)shu uemura petal skin cushion foundation SPF25/PA+ 564, 574, 584, 754, 764, 7742)shu uemura petal skin cushion foundation refill SPF25/PA+ 564, 574, 584, 754, 764, 774
用途: 防曬、修飾臉部肌膚。
劑型: 液劑
包裝: 盒裝;;附外盒
化粧品類別: 防晒化粧用品
主成分略述: PHENYLBENZIMIDAZOLE SULFONIC ACID
限制項目: 輸　入
申請商名稱: 台灣萊雅股份有限公司
申請商地址: 台北市信義區信義路五段7號22樓23樓
申請商統一編號: 23991432
製造商名稱: COSMAX, INC.
製造廠廠址: 27, Jeyakgongdan 1-gil, 46, Jeyakgongdan 2-gil, Hyangnam-eup, Hwaseong-si, Gyeonggi-do, Korea
製造廠公司地址: (空)
製造廠國別: KR
製程: (空)
異動日期: 2018/02/23

# 6 764 584 於 特定用途化粧品許可證資料集 - 2

許可證字號衛部粧輸字第021204號
註銷狀態(空)
註銷日期(空)
註銷理由(空)
有效日期2024/06/30
發證日期2014/01/22
許可證種類特定用途化粧品
舊證字號(空)
通關簽審文件編號DHA05802120402
中文品名lightbulb鑽石光粉餅-364, 375, 554, 564, 574, 754, 764, 774, 784, 974, 354, 365, 584, 744
英文品名hu uemura the lightbulb UV compact foundation/refill glow-coverage-UVprotection SPF30 PA+++ - 364 medium light amber, 375 light amber+, 554 medium sand, 564 medium light sand, 574 light sand, 754 medium beige, 764 medium light beige, 774 light beige, 784 fair beige, 974 light honey, 354 medium amber, 365 medium light amber+, 584 fair sand, 744 moderate beige
用途防曬、修飾臉部肌膚。
劑型粉劑
包裝盒裝;;附外盒
化粧品類別防晒化粧用品
主成分略述ETHYLHEXYL METHOXYCINNAMATE
限制項目輸　入
申請商名稱台灣萊雅股份有限公司
申請商地址台北市信義區信義路五段7號22樓23樓
申請商統一編號23991432
製造商名稱COSMELOR LTD.
製造廠廠址430-8, KAMADO, GOTEMBA-CITY, SHIZUOKA-PREF., 412-0039, JAPAN
製造廠公司地址(空)
製造廠國別JP
製程(空)
異動日期2022/12/02
許可證字號: 衛部粧輸字第021204號
註銷狀態: (空)
註銷日期: (空)
註銷理由: (空)
有效日期: 2024/06/30
發證日期: 2014/01/22
許可證種類: 特定用途化粧品
舊證字號: (空)
通關簽審文件編號: DHA05802120402
中文品名: lightbulb鑽石光粉餅-364, 375, 554, 564, 574, 754, 764, 774, 784, 974, 354, 365, 584, 744
英文品名: hu uemura the lightbulb UV compact foundation/refill glow-coverage-UVprotection SPF30 PA+++ - 364 medium light amber, 375 light amber+, 554 medium sand, 564 medium light sand, 574 light sand, 754 medium beige, 764 medium light beige, 774 light beige, 784 fair beige, 974 light honey, 354 medium amber, 365 medium light amber+, 584 fair sand, 744 moderate beige
用途: 防曬、修飾臉部肌膚。
劑型: 粉劑
包裝: 盒裝;;附外盒
化粧品類別: 防晒化粧用品
主成分略述: ETHYLHEXYL METHOXYCINNAMATE
限制項目: 輸　入
申請商名稱: 台灣萊雅股份有限公司
申請商地址: 台北市信義區信義路五段7號22樓23樓
申請商統一編號: 23991432
製造商名稱: COSMELOR LTD.
製造廠廠址: 430-8, KAMADO, GOTEMBA-CITY, SHIZUOKA-PREF., 412-0039, JAPAN
製造廠公司地址: (空)
製造廠國別: JP
製程: (空)
異動日期: 2022/12/02

# 6 764 584 於 特定用途化粧品許可證資料集 - 3

許可證字號衛部粧輸字第024128號
註銷狀態(空)
註銷日期(空)
註銷理由(空)
有效日期2024/06/30
發證日期2016/12/06
許可證種類特定用途化粧品
舊證字號(空)
通關簽審文件編號DHA05802412801
中文品名花瓣肌粉亮粉底液SPF20/PA++ -375,584,744,564,774,784,574,554,764,354,754,364
英文品名hu uemura petal skin fluid foundation SPF20 PA++ -375,584,744,564,774,784,574, 554, 764,354,754,364
用途防曬、修飾臉部肌膚。
劑型液劑
包裝瓶裝附外盒
化粧品類別防晒面霜
主成分略述ETHYLHEXYL METHOXYCINNAMATE
限制項目輸　入
申請商名稱台灣萊雅股份有限公司
申請商地址台北市信義區信義路五段7號22樓23樓
申請商統一編號23991432
製造商名稱COSMELOR LTD.
製造廠廠址430-8, KAMADO, GOTEMBA-CITY, SHIZUOKA-PREF., 412-0039, JAPAN
製造廠公司地址(空)
製造廠國別JP
製程(空)
異動日期2021/09/17
許可證字號: 衛部粧輸字第024128號
註銷狀態: (空)
註銷日期: (空)
註銷理由: (空)
有效日期: 2024/06/30
發證日期: 2016/12/06
許可證種類: 特定用途化粧品
舊證字號: (空)
通關簽審文件編號: DHA05802412801
中文品名: 花瓣肌粉亮粉底液SPF20/PA++ -375,584,744,564,774,784,574,554,764,354,754,364
英文品名: hu uemura petal skin fluid foundation SPF20 PA++ -375,584,744,564,774,784,574, 554, 764,354,754,364
用途: 防曬、修飾臉部肌膚。
劑型: 液劑
包裝: 瓶裝附外盒
化粧品類別: 防晒面霜
主成分略述: ETHYLHEXYL METHOXYCINNAMATE
限制項目: 輸　入
申請商名稱: 台灣萊雅股份有限公司
申請商地址: 台北市信義區信義路五段7號22樓23樓
申請商統一編號: 23991432
製造商名稱: COSMELOR LTD.
製造廠廠址: 430-8, KAMADO, GOTEMBA-CITY, SHIZUOKA-PREF., 412-0039, JAPAN
製造廠公司地址: (空)
製造廠國別: JP
製程: (空)
異動日期: 2021/09/17

# 6 764 584 於 特定用途化粧品許可證資料集 - 4

許可證字號衛署粧輸字第009761號
註銷狀態已註銷
註銷日期2012/12/07
註銷理由許可證已逾有效期
有效日期2008/10/20
發證日期2003/10/20
許可證種類特定用途化粧品
舊證字號(空)
通關簽審文件編號DHA00800976104
中文品名粉乳 N-334,355,375,554,565,574,584,744,754,764,765,775
英文品名SHU UEMURA FOUNDATION FLUID N-334,355,375,554,565,574,584,744,754,764,765,775
用途(空)
劑型乳劑
包裝瓶裝;;紙盒裝
化粧品類別防晒化粧用品
主成分略述TITANIUM DIOXIDE (EQ TO TITANIUM OXIDE);;TITANIUM DIOXIDE (EQ TO TITANIUM OXIDE);;TITANIUM DIOXIDE (EQ TO TITANIUM OXIDE);;TITANIUM DIOXIDE (EQ TO TITANIUM OXIDE);;TITANIUM DIOXIDE (EQ TO TITANIUM OXIDE);;TITANIUM DIOXIDE (EQ TO TITANIUM OXIDE);;TITANIUM DIOXIDE (EQ TO TITANIUM OXIDE);;TITANIUM DIOXIDE (EQ TO TITANIUM OXIDE);;TITANIUM DIOXIDE (EQ TO TITANIUM OXIDE);;TITANIUM DIOXIDE (EQ TO TITANIUM OXIDE);;TITANIUM DIOXIDE (EQ TO TITANIUM OXIDE);;TITANIUM DIOXIDE (EQ TO TITANIUM OXIDE);;TITANIUM DIOXIDE (EQ TO TITANIUM OXIDE);;TITANIUM DIOXIDE (EQ TO TITANIUM OXIDE)
限制項目輸　入
申請商名稱台灣萊雅股份有限公司
申請商地址台北市信義區信義路五段7號22樓23樓
申請商統一編號23991432
製造商名稱SHU UEMURA COSMETICS INC.
製造廠廠址5-7 MINAMI AOYAMA, MINATO-KU TOKYO 107 JAPAN
製造廠公司地址(空)
製造廠國別JP
製程(空)
異動日期2012/12/12
許可證字號: 衛署粧輸字第009761號
註銷狀態: 已註銷
註銷日期: 2012/12/07
註銷理由: 許可證已逾有效期
有效日期: 2008/10/20
發證日期: 2003/10/20
許可證種類: 特定用途化粧品
舊證字號: (空)
通關簽審文件編號: DHA00800976104
中文品名: 粉乳 N-334,355,375,554,565,574,584,744,754,764,765,775
英文品名: SHU UEMURA FOUNDATION FLUID N-334,355,375,554,565,574,584,744,754,764,765,775
用途: (空)
劑型: 乳劑
包裝: 瓶裝;;紙盒裝
化粧品類別: 防晒化粧用品
主成分略述: TITANIUM DIOXIDE (EQ TO TITANIUM OXIDE);;TITANIUM DIOXIDE (EQ TO TITANIUM OXIDE);;TITANIUM DIOXIDE (EQ TO TITANIUM OXIDE);;TITANIUM DIOXIDE (EQ TO TITANIUM OXIDE);;TITANIUM DIOXIDE (EQ TO TITANIUM OXIDE);;TITANIUM DIOXIDE (EQ TO TITANIUM OXIDE);;TITANIUM DIOXIDE (EQ TO TITANIUM OXIDE);;TITANIUM DIOXIDE (EQ TO TITANIUM OXIDE);;TITANIUM DIOXIDE (EQ TO TITANIUM OXIDE);;TITANIUM DIOXIDE (EQ TO TITANIUM OXIDE);;TITANIUM DIOXIDE (EQ TO TITANIUM OXIDE);;TITANIUM DIOXIDE (EQ TO TITANIUM OXIDE);;TITANIUM DIOXIDE (EQ TO TITANIUM OXIDE);;TITANIUM DIOXIDE (EQ TO TITANIUM OXIDE)
限制項目: 輸　入
申請商名稱: 台灣萊雅股份有限公司
申請商地址: 台北市信義區信義路五段7號22樓23樓
申請商統一編號: 23991432
製造商名稱: SHU UEMURA COSMETICS INC.
製造廠廠址: 5-7 MINAMI AOYAMA, MINATO-KU TOKYO 107 JAPAN
製造廠公司地址: (空)
製造廠國別: JP
製程: (空)
異動日期: 2012/12/12

# 6 764 584 於 特定用途化粧品許可證資料集 - 5

許可證字號衛部粧輸字第026914號
註銷狀態(空)
註銷日期(空)
註銷理由(空)
有效日期2024/06/30
發證日期2019/12/25
許可證種類特定用途化粧品
舊證字號(空)
通關簽審文件編號DHA05802691406
中文品名無極限持久粉底棒 SPF 21 PA++ 534, 544, 554, 564, 574, 584, 594, 664, 674, 764, 774, 724
英文品名hu uemura unlimited shaping foundation stick SPF21 PA++ 534, 544, 554, 564, 574, 584, 594, 664, 674, 764, 774, 724
用途防曬、修飾臉部肌膚。
劑型固狀劑
包裝管裝附外盒
化粧品類別其他粉底
主成分略述ETHYLHEXYL METHOXYCINNAMATE
限制項目輸　入
申請商名稱台灣萊雅股份有限公司
申請商地址台北市信義區信義路五段7號22樓23樓
申請商統一編號23991432
製造商名稱COSMELOR Ltd.
製造廠廠址430-8, OAZA KAMADO AZA YOKOTSUKA, GOTEMBA-CITY, SHIZUOKA-PREF, JAPAN 412-0039
製造廠公司地址(空)
製造廠國別JP
製程(空)
異動日期2020/01/13
許可證字號: 衛部粧輸字第026914號
註銷狀態: (空)
註銷日期: (空)
註銷理由: (空)
有效日期: 2024/06/30
發證日期: 2019/12/25
許可證種類: 特定用途化粧品
舊證字號: (空)
通關簽審文件編號: DHA05802691406
中文品名: 無極限持久粉底棒 SPF 21 PA++ 534, 544, 554, 564, 574, 584, 594, 664, 674, 764, 774, 724
英文品名: hu uemura unlimited shaping foundation stick SPF21 PA++ 534, 544, 554, 564, 574, 584, 594, 664, 674, 764, 774, 724
用途: 防曬、修飾臉部肌膚。
劑型: 固狀劑
包裝: 管裝附外盒
化粧品類別: 其他粉底
主成分略述: ETHYLHEXYL METHOXYCINNAMATE
限制項目: 輸　入
申請商名稱: 台灣萊雅股份有限公司
申請商地址: 台北市信義區信義路五段7號22樓23樓
申請商統一編號: 23991432
製造商名稱: COSMELOR Ltd.
製造廠廠址: 430-8, OAZA KAMADO AZA YOKOTSUKA, GOTEMBA-CITY, SHIZUOKA-PREF, JAPAN 412-0039
製造廠公司地址: (空)
製造廠國別: JP
製程: (空)
異動日期: 2020/01/13

# 6 764 584 於 特定用途化粧品許可證資料集 - 6

許可證字號衛部粧輸字第023376號
註銷狀態已註銷
註銷日期2023/08/21
註銷理由許可證已逾有效期
有效日期2021/01/22
發證日期2016/01/22
許可證種類特定用途化粧品
舊證字號(空)
通關簽審文件編號DHA05802337602
中文品名亮白無瑕氣墊粉餅SPF50+ PA+++ #564, #574, #584, #754, #764, #774
英文品名hu uemura blanc:chroma brightening UV cushion foundation/refill SPF50+ PA+++ 564, 574, 584, 754, 764, 774
用途防曬、修飾臉部肌膚。
劑型液劑
包裝盒裝;;附外盒
化粧品類別防晒乳液
主成分略述ETHYLHEXYL METHOXYCINNAMATE
限制項目輸　入
申請商名稱台灣萊雅股份有限公司
申請商地址台北市信義區信義路五段7號22樓23樓
申請商統一編號23991432
製造商名稱COSMAX, INC.
製造廠廠址46, Jeyakgongdan 2-gil, 27, Jeyakgongdan 1-gil, Hyangnam-eup,Hwaseong-si, Gyeonggi-do, Korea
製造廠公司地址(空)
製造廠國別KR
製程(空)
異動日期2023/08/23
許可證字號: 衛部粧輸字第023376號
註銷狀態: 已註銷
註銷日期: 2023/08/21
註銷理由: 許可證已逾有效期
有效日期: 2021/01/22
發證日期: 2016/01/22
許可證種類: 特定用途化粧品
舊證字號: (空)
通關簽審文件編號: DHA05802337602
中文品名: 亮白無瑕氣墊粉餅SPF50+ PA+++ #564, #574, #584, #754, #764, #774
英文品名: hu uemura blanc:chroma brightening UV cushion foundation/refill SPF50+ PA+++ 564, 574, 584, 754, 764, 774
用途: 防曬、修飾臉部肌膚。
劑型: 液劑
包裝: 盒裝;;附外盒
化粧品類別: 防晒乳液
主成分略述: ETHYLHEXYL METHOXYCINNAMATE
限制項目: 輸　入
申請商名稱: 台灣萊雅股份有限公司
申請商地址: 台北市信義區信義路五段7號22樓23樓
申請商統一編號: 23991432
製造商名稱: COSMAX, INC.
製造廠廠址: 46, Jeyakgongdan 2-gil, 27, Jeyakgongdan 1-gil, Hyangnam-eup,Hwaseong-si, Gyeonggi-do, Korea
製造廠公司地址: (空)
製造廠國別: KR
製程: (空)
異動日期: 2023/08/23

# 6 764 584 於 特定用途化粧品許可證資料集 - 7

許可證字號衛部粧輸字第026281號
註銷狀態(空)
註銷日期(空)
註銷理由(空)
有效日期2024/05/14
發證日期2019/05/14
許可證種類特定用途化粧品
舊證字號(空)
通關簽審文件編號DHA05802628106
中文品名無極限超時氣墊粉餅 SPF36 PA+++ #774、#764、#754、#674、#664、#584、#574、#564、#463
英文品名hu uemura unlimited breathable lasting cushion foundation SPF36 PA+++ #774, #764, #754, #674, #664, #584, #574, #564, #463
用途防曬、修飾臉部肌膚。
劑型液劑
包裝盒裝;;附外盒
化粧品類別防晒化粧用品
主成分略述ETHYLHEXYL METHOXYCINNAMATE
限制項目輸　入
申請商名稱台灣萊雅股份有限公司
申請商地址台北市信義區信義路五段7號22樓23樓
申請商統一編號23991432
製造商名稱COSMELOR LTD.
製造廠廠址430-8, KAMADO, GOTEMBA-CITY, SHIZUOKA-PREF., 412-0039, JAPAN
製造廠公司地址(空)
製造廠國別JP
製程(空)
異動日期2019/05/28
許可證字號: 衛部粧輸字第026281號
註銷狀態: (空)
註銷日期: (空)
註銷理由: (空)
有效日期: 2024/05/14
發證日期: 2019/05/14
許可證種類: 特定用途化粧品
舊證字號: (空)
通關簽審文件編號: DHA05802628106
中文品名: 無極限超時氣墊粉餅 SPF36 PA+++ #774、#764、#754、#674、#664、#584、#574、#564、#463
英文品名: hu uemura unlimited breathable lasting cushion foundation SPF36 PA+++ #774, #764, #754, #674, #664, #584, #574, #564, #463
用途: 防曬、修飾臉部肌膚。
劑型: 液劑
包裝: 盒裝;;附外盒
化粧品類別: 防晒化粧用品
主成分略述: ETHYLHEXYL METHOXYCINNAMATE
限制項目: 輸　入
申請商名稱: 台灣萊雅股份有限公司
申請商地址: 台北市信義區信義路五段7號22樓23樓
申請商統一編號: 23991432
製造商名稱: COSMELOR LTD.
製造廠廠址: 430-8, KAMADO, GOTEMBA-CITY, SHIZUOKA-PREF., 412-0039, JAPAN
製造廠公司地址: (空)
製造廠國別: JP
製程: (空)
異動日期: 2019/05/28

# 6 764 584 於 特定用途化粧品許可證資料集 - 8

許可證字號衛部粧輸字第025955號
註銷狀態(空)
註銷日期(空)
註銷理由(空)
有效日期2024/06/30
發證日期2018/11/29
許可證種類特定用途化粧品
舊證字號(空)
通關簽審文件編號DHA05802595502
中文品名中文品名：無極限超時輕粉底 SPF 25 PA+++ 375, 453, 463, 474, 484, 534, 544, 554, 564, 574, 584, 594, 644, 654, 664, 674, 754, 764, 774, 784。
英文品名hu uemura unlimited breathable lasting foundation SPF 25 PA+++ 375, 453, 463, 474,484, 534, 544, 554, 564, 574, 584, 594, 644, 654, 664, 674, 754, 764, 774, 784。
用途防曬、修飾臉部肌膚。
劑型液劑
包裝瓶裝附外盒
化粧品類別粉底液
主成分略述ETHYLHEXYL METHOXYCINNAMATE
限制項目輸　入
申請商名稱台灣萊雅股份有限公司
申請商地址台北市信義區信義路五段7號22樓23樓
申請商統一編號23991432
製造商名稱COSMELOR LTD.
製造廠廠址430-8, KAMADO, GOTEMBA-CITY, SHIZUOKA-PREF., 412-0039, JAPAN
製造廠公司地址(空)
製造廠國別JP
製程(空)
異動日期2023/09/07
許可證字號: 衛部粧輸字第025955號
註銷狀態: (空)
註銷日期: (空)
註銷理由: (空)
有效日期: 2024/06/30
發證日期: 2018/11/29
許可證種類: 特定用途化粧品
舊證字號: (空)
通關簽審文件編號: DHA05802595502
中文品名: 中文品名：無極限超時輕粉底 SPF 25 PA+++ 375, 453, 463, 474, 484, 534, 544, 554, 564, 574, 584, 594, 644, 654, 664, 674, 754, 764, 774, 784。
英文品名: hu uemura unlimited breathable lasting foundation SPF 25 PA+++ 375, 453, 463, 474,484, 534, 544, 554, 564, 574, 584, 594, 644, 654, 664, 674, 754, 764, 774, 784。
用途: 防曬、修飾臉部肌膚。
劑型: 液劑
包裝: 瓶裝附外盒
化粧品類別: 粉底液
主成分略述: ETHYLHEXYL METHOXYCINNAMATE
限制項目: 輸　入
申請商名稱: 台灣萊雅股份有限公司
申請商地址: 台北市信義區信義路五段7號22樓23樓
申請商統一編號: 23991432
製造商名稱: COSMELOR LTD.
製造廠廠址: 430-8, KAMADO, GOTEMBA-CITY, SHIZUOKA-PREF., 412-0039, JAPAN
製造廠公司地址: (空)
製造廠國別: JP
製程: (空)
異動日期: 2023/09/07
[ 搜尋所有 6 764 584 ... ]

根據名稱 從滷水生產鋰濃縮液的方法 找到的相關資料

(以下顯示 2 筆) (或要:直接搜尋所有 從滷水生產鋰濃縮液的方法 ...)

# 從滷水生產鋰濃縮液的方法 於 經濟部產業技術司–專利資料集 - 1

序號3209
產出年度96
領域別(空)
專利名稱-中文從滷水生產鋰濃縮液的方法
執行單位工研院能環所
產出單位(空)
計畫名稱產業永續發展環安技術研發四年計畫
專利發明人江玉琳 張怡隆 林俊仁 許哲源
核准國家日本
獲證日期(空)
證書號碼(空)
專利期間起(空)
專利期間訖(空)
專利性質發明
技術摘要-中文本發明結合使用吸附法及電透析法兩種提濃技術，將製鹽滷水中之鋰濃度由數ppm提升至製造碳酸鋰所需之1.5%左右。首先以吸附法將數ppm的鋰水溶液提升至1200-_x000D_1500ppm；再以二階段接續進行的電透析處理，將鋰濃度增濃至1.5%左右。第二階段的電透析處理所產生的鋰脫除水溶液具有1200-1500ppm的鋰濃度，其被再循環至第一階段的電透析處理作為進料。第一階段的電透析處理所產生的鋰脫除水溶液被施以殘液回收電透析處理，而產生一鋰濃度為1200-1500ppm的鋰增濃水溶液，其同樣被再循環至第一階段的電透析處理作為進料。該殘液回收電透析處理所產生的鋰脫除水溶液則作為該吸附法的進料，於是充分的擷取了滷水中之鋰離子。_x000D_
技術摘要-英文(空)
聯絡人員劉展洋
電話03-5916037
傳真03-5917431
電子信箱JamesLiu@Itri.org.tw
參考網址http://www.patentportfolio.itri.org.tw
備註原領域別為機械運輸，95年改為機電運輸
特殊情形(空)
序號: 3209
產出年度: 96
領域別: (空)
專利名稱-中文: 從滷水生產鋰濃縮液的方法
執行單位: 工研院能環所
產出單位: (空)
計畫名稱: 產業永續發展環安技術研發四年計畫
專利發明人: 江玉琳 張怡隆 林俊仁 許哲源
核准國家: 日本
獲證日期: (空)
證書號碼: (空)
專利期間起: (空)
專利期間訖: (空)
專利性質: 發明
技術摘要-中文: 本發明結合使用吸附法及電透析法兩種提濃技術，將製鹽滷水中之鋰濃度由數ppm提升至製造碳酸鋰所需之1.5%左右。首先以吸附法將數ppm的鋰水溶液提升至1200-_x000D_1500ppm；再以二階段接續進行的電透析處理，將鋰濃度增濃至1.5%左右。第二階段的電透析處理所產生的鋰脫除水溶液具有1200-1500ppm的鋰濃度，其被再循環至第一階段的電透析處理作為進料。第一階段的電透析處理所產生的鋰脫除水溶液被施以殘液回收電透析處理，而產生一鋰濃度為1200-1500ppm的鋰增濃水溶液，其同樣被再循環至第一階段的電透析處理作為進料。該殘液回收電透析處理所產生的鋰脫除水溶液則作為該吸附法的進料，於是充分的擷取了滷水中之鋰離子。_x000D_
技術摘要-英文: (空)
聯絡人員: 劉展洋
電話: 03-5916037
傳真: 03-5917431
電子信箱: JamesLiu@Itri.org.tw
參考網址: http://www.patentportfolio.itri.org.tw
備註: 原領域別為機械運輸，95年改為機電運輸
特殊情形: (空)

# 從滷水生產鋰濃縮液的方法 於 經濟部產業技術司–專利資料集 - 2

序號927
產出年度93
領域別(空)
專利名稱-中文從滷水生產鋰濃縮液的方法
執行單位工研院能資所
產出單位(空)
計畫名稱永續資源技術開發三年計畫
專利發明人張怡隆, 江玉琳, 許哲源, 林俊仁
核准國家中華民國
獲證日期(空)
證書號碼203406
專利期間起(空)
專利期間訖(空)
專利性質發明
技術摘要-中文(空)
技術摘要-英文(空)
聯絡人員杜培欣
電話03-5915448
傳真(空)
電子信箱(空)
參考網址http://www.itri.org.tw
備註原領域別為材料化工，95年改為生醫材化
特殊情形(空)
序號: 927
產出年度: 93
領域別: (空)
專利名稱-中文: 從滷水生產鋰濃縮液的方法
執行單位: 工研院能資所
產出單位: (空)
計畫名稱: 永續資源技術開發三年計畫
專利發明人: 張怡隆, 江玉琳, 許哲源, 林俊仁
核准國家: 中華民國
獲證日期: (空)
證書號碼: 203406
專利期間起: (空)
專利期間訖: (空)
專利性質: 發明
技術摘要-中文: (空)
技術摘要-英文: (空)
聯絡人員: 杜培欣
電話: 03-5915448
傳真: (空)
電子信箱: (空)
參考網址: http://www.itri.org.tw
備註: 原領域別為材料化工，95年改為生醫材化
特殊情形: (空)
[ 搜尋所有 從滷水生產鋰濃縮液的方法 ... ]

根據姓名 張怡隆 江玉琳 許哲源 林俊仁 找到的相關資料

(以下顯示 3 筆) (或要:直接搜尋所有 張怡隆 江玉琳 許哲源 林俊仁 ...)

混合廢二次電池中回收有價金屬之方法

核准國家: 美國 | 執行單位: 工研院能資所 | 產出年度: 94 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 高科技產業用水技術開發計畫 | 專利發明人: 林俊仁、張怡隆、江玉琳、許哲源 | 證書號碼: 6835228

@ 經濟部產業技術司–專利資料集

從廢二次電池中回收有價金屬之方法

核准國家: 中華民國 | 執行單位: 工研院能資所 | 產出年度: 94 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 高科技產業用水技術開發計畫 | 專利發明人: 林俊仁、張怡隆、江玉琳、許哲源 | 證書號碼: I231063

@ 經濟部產業技術司–專利資料集

從廢二次電池中回收有價金屬之方法

核准國家: 中國大陸 | 執行單位: 工研院能環所 | 產出年度: 95 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 高科技產業用水技術開發三年計畫 | 專利發明人: 林俊仁、張怡隆、江玉琳、許哲源 | 證書號碼: ZL200310103584.7

@ 經濟部產業技術司–專利資料集

混合廢二次電池中回收有價金屬之方法

核准國家: 美國 | 執行單位: 工研院能資所 | 產出年度: 94 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 高科技產業用水技術開發計畫 | 專利發明人: 林俊仁、張怡隆、江玉琳、許哲源 | 證書號碼: 6835228

@ 經濟部產業技術司–專利資料集

從廢二次電池中回收有價金屬之方法

核准國家: 中華民國 | 執行單位: 工研院能資所 | 產出年度: 94 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 高科技產業用水技術開發計畫 | 專利發明人: 林俊仁、張怡隆、江玉琳、許哲源 | 證書號碼: I231063

@ 經濟部產業技術司–專利資料集

從廢二次電池中回收有價金屬之方法

核准國家: 中國大陸 | 執行單位: 工研院能環所 | 產出年度: 95 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 高科技產業用水技術開發三年計畫 | 專利發明人: 林俊仁、張怡隆、江玉琳、許哲源 | 證書號碼: ZL200310103584.7

@ 經濟部產業技術司–專利資料集
[ 搜尋所有 張怡隆 江玉琳 許哲源 林俊仁 ... ]

根據電話 03-5915448 找到的相關資料

(以下顯示 3 筆) (或要:直接搜尋所有 03-5915448 ...)

# 03-5915448 於 經濟部產業技術司–專利資料集 - 1

序號925
產出年度93
領域別(空)
專利名稱-中文二氧化碳超臨界流萃取天然氨基酸之製造法
執行單位工研院能資所
產出單位(空)
計畫名稱永續資源技術開發三年計畫
專利發明人劉致中, 林俊仁, 許哲源
核准國家中華民國
獲證日期(空)
證書號碼195746
專利期間起(空)
專利期間訖(空)
專利性質發明
技術摘要-中文本專利分成A、B兩式。A式利用二氧化碳（混與氨氣或笑氣）與共溶劑混合之超臨 优y體或近臨界流體（supercritical or pseudo-supercritical fluid；以下簡稱 為二氧化碳超臨界流）萃取禽畜類毛髮或羽毛水解後的氨基酸水解液，再結合噴霧 乾燥的方法進行減壓，用以回收二氧化碳與共溶劑，並同時分離氨基酸。B式則將 g水解、中和後的高鹽分氨基酸水溶液與胱胺酸結晶，分別以二氧化碳與共溶劑之 W臨界流體萃取其中的胱胺酸與剩餘氨基酸，最後同A式利用噴霧乾燥分離二氧化碳 與共溶劑和氨基酸結晶。兩式所得出的氨基酸粉末產品具有高純度、低鹽分、水分 少、結晶顆粒細及利於儲存等優點，可利用於化妝品的添加劑、製藥業的原料生產 與肥料中的營養添加物。
技術摘要-英文(空)
聯絡人員杜培欣
電話03-5915448
傳真(空)
電子信箱(空)
參考網址http://www.itri.org.tw
備註原領域別為材料化工，95年改為生醫材化
特殊情形(空)
序號: 925
產出年度: 93
領域別: (空)
專利名稱-中文: 二氧化碳超臨界流萃取天然氨基酸之製造法
執行單位: 工研院能資所
產出單位: (空)
計畫名稱: 永續資源技術開發三年計畫
專利發明人: 劉致中, 林俊仁, 許哲源
核准國家: 中華民國
獲證日期: (空)
證書號碼: 195746
專利期間起: (空)
專利期間訖: (空)
專利性質: 發明
技術摘要-中文: 本專利分成A、B兩式。A式利用二氧化碳（混與氨氣或笑氣）與共溶劑混合之超臨 优y體或近臨界流體（supercritical or pseudo-supercritical fluid；以下簡稱 為二氧化碳超臨界流）萃取禽畜類毛髮或羽毛水解後的氨基酸水解液，再結合噴霧 乾燥的方法進行減壓，用以回收二氧化碳與共溶劑，並同時分離氨基酸。B式則將 g水解、中和後的高鹽分氨基酸水溶液與胱胺酸結晶，分別以二氧化碳與共溶劑之 W臨界流體萃取其中的胱胺酸與剩餘氨基酸，最後同A式利用噴霧乾燥分離二氧化碳 與共溶劑和氨基酸結晶。兩式所得出的氨基酸粉末產品具有高純度、低鹽分、水分 少、結晶顆粒細及利於儲存等優點，可利用於化妝品的添加劑、製藥業的原料生產 與肥料中的營養添加物。
技術摘要-英文: (空)
聯絡人員: 杜培欣
電話: 03-5915448
傳真: (空)
電子信箱: (空)
參考網址: http://www.itri.org.tw
備註: 原領域別為材料化工，95年改為生醫材化
特殊情形: (空)

# 03-5915448 於 經濟部產業技術司–專利資料集 - 2

序號929
產出年度93
領域別(空)
專利名稱-中文用於鋰離子電池之正極的改質鋰鈷氧化物，其製備方法及鋰離子電池
執行單位工研院能資所
產出單位(空)
計畫名稱永續資源技術開發三年計畫
專利發明人李日琪, 林俊仁, 許哲源
核准國家中華民國
獲證日期(空)
證書號碼192322
專利期間起(空)
專利期間訖(空)
專利性質發明
技術摘要-中文(空)
技術摘要-英文(空)
聯絡人員杜培欣
電話03-5915448
傳真(空)
電子信箱(空)
參考網址http://www.itri.org.tw
備註原領域別為材料化工，95年改為生醫材化
特殊情形(空)
序號: 929
產出年度: 93
領域別: (空)
專利名稱-中文: 用於鋰離子電池之正極的改質鋰鈷氧化物，其製備方法及鋰離子電池
執行單位: 工研院能資所
產出單位: (空)
計畫名稱: 永續資源技術開發三年計畫
專利發明人: 李日琪, 林俊仁, 許哲源
核准國家: 中華民國
獲證日期: (空)
證書號碼: 192322
專利期間起: (空)
專利期間訖: (空)
專利性質: 發明
技術摘要-中文: (空)
技術摘要-英文: (空)
聯絡人員: 杜培欣
電話: 03-5915448
傳真: (空)
電子信箱: (空)
參考網址: http://www.itri.org.tw
備註: 原領域別為材料化工，95年改為生醫材化
特殊情形: (空)

# 03-5915448 於 經濟部產業技術司–專利資料集 - 3

序號930
產出年度93
領域別(空)
專利名稱-中文四氧化三鈷之低溫合成方法
執行單位工研院能資所
產出單位(空)
計畫名稱永續資源技術開發三年計畫
專利發明人李日琪, 許哲源, 林俊仁
核准國家中華民國
獲證日期(空)
證書號碼206821
專利期間起(空)
專利期間訖(空)
專利性質發明
技術摘要-中文本發明方法係在將沉澱劑加入硫酸鈷、氯化鈷或硝酸鈷的水溶液形成沉澱物後，不加予過濾即送入一高壓釜或具迴流裝置之反應器於50-100℃之溫度及一氧化劑存在下進行氧化反應，即可氧化合成四氧化三鈷。
技術摘要-英文(空)
聯絡人員杜培欣
電話03-5915448
傳真(空)
電子信箱(空)
參考網址http://www.itri.org.tw
備註原領域別為材料化工，95年改為生醫材化
特殊情形(空)
序號: 930
產出年度: 93
領域別: (空)
專利名稱-中文: 四氧化三鈷之低溫合成方法
執行單位: 工研院能資所
產出單位: (空)
計畫名稱: 永續資源技術開發三年計畫
專利發明人: 李日琪, 許哲源, 林俊仁
核准國家: 中華民國
獲證日期: (空)
證書號碼: 206821
專利期間起: (空)
專利期間訖: (空)
專利性質: 發明
技術摘要-中文: 本發明方法係在將沉澱劑加入硫酸鈷、氯化鈷或硝酸鈷的水溶液形成沉澱物後，不加予過濾即送入一高壓釜或具迴流裝置之反應器於50-100℃之溫度及一氧化劑存在下進行氧化反應，即可氧化合成四氧化三鈷。
技術摘要-英文: (空)
聯絡人員: 杜培欣
電話: 03-5915448
傳真: (空)
電子信箱: (空)
參考網址: http://www.itri.org.tw
備註: 原領域別為材料化工，95年改為生醫材化
特殊情形: (空)
[ 搜尋所有 03-5915448 ... ]

與從滷水生產鋰濃縮液的方法同分類的經濟部產業技術司–專利資料集

光波導製程之階梯覆蓋率的測試結構及方法

核准國家: 中華民國 | 執行單位: 工研院電子所 | 產出年度: 93 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 工研院精密機械與微機電領域環境建構計畫 | 專利發明人: 蔡柏豪, 邱景宏, 顏凱翔, 劉文俊, 李裕文 | 證書號碼: 191701

埋藏式電容結構

核准國家: 中華民國 | 執行單位: 工研院電子所 | 產出年度: 93 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 電子關鍵性材料與整合模組發展四年計畫 | 專利發明人: 卓威明, 魏培森, 翁卿亮, 吳俊昆, 陳昌昇 | 證書號碼: 192752

埋藏式電容結構

核准國家: 美國 | 執行單位: 工研院電子所 | 產出年度: 93 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 電子關鍵性材料與整合模組發展四年計畫 | 專利發明人: 卓威明, 魏培森, 翁卿亮, 吳俊昆, 陳昌昇 | 證書號碼: 6813138

超薄基極矽/矽鍺異質結構雙載子電晶體的製作方法

核准國家: 中華民國 | 執行單位: 工研院電子所 | 產出年度: 93 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 工研院通訊與光電領域環境建構計畫 | 專利發明人: 賴理學, 陳邦旭, 陸新起, 劉致為 | 證書號碼: 223446

具有不同預傾角架構之半反射半穿透顯示器及其製作方法

核准國家: 中華民國 | 執行單位: 工研院電子所 | 產出年度: 93 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 下世代平面顯示關鍵技術發展四年計畫 | 專利發明人: 廖奇璋, 翁逸君, 劉康弘, 范揚宜 | 證書號碼: 206598

橫向驅動電場之廣視角液晶顯示器及其製作方法

核准國家: 中華民國 | 執行單位: 工研院電子所 | 產出年度: 93 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 下世代平面顯示關鍵技術發展四年計畫 | 專利發明人: 賴志明, 范揚宜, 許家榮, 陳慶逸 | 證書號碼: 206589

測試蝕刻速率的結構及方法

核准國家: 中華民國 | 執行單位: 工研院電子所 | 產出年度: 93 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 工研院精密機械與微機電領域環境建構計畫 | 專利發明人: 邱景宏, 顏凱翔, 王欽宏, 梁兆鈞, 陳玉華 | 證書號碼: 197248

微通道流體導引元件

核准國家: 中華民國 | 執行單位: 工研院電子所 | 產出年度: 93 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 工研院創新前瞻技術研究計畫 | 專利發明人: 夏廷魁, 吳志文, 姚南光, 龐紹華, 郭遠峰 | 證書號碼: 188284

微通道流體導引元件

核准國家: 美國 | 執行單位: 工研院電子所 | 產出年度: 93 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 工研院創新前瞻技術研究計畫 | 專利發明人: 夏廷魁, 吳志文, 姚南光, 龐紹華, 郭遠峰 | 證書號碼: 6725882

薄膜電晶體的結構、其製造方法

核准國家: 中華民國 | 執行單位: 工研院電子所 | 產出年度: 93 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 下世代平面顯示關鍵技術發展四年計畫 | 專利發明人: 林炯暐, 葉永輝 | 證書號碼: 198288

移位暫存器單元及其所組成之移位暫存器電路

核准國家: 中華民國 | 執行單位: 工研院電子所 | 產出年度: 93 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 下世代平面顯示關鍵技術發展四年計畫 | 專利發明人: 施俊任, 陳尚立, 王博文, 林展瑞 | 證書號碼: 220255

電容屏蔽結構

核准國家: 中華民國 | 執行單位: 工研院電子所 | 產出年度: 93 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 電子關鍵性材料與整合模組發展四年計畫 | 專利發明人: 卓威明, 陳昌昇, 吳俊昆, 魏培森, 翁卿亮, 賴穎俊 | 證書號碼: 192543

溝槽式金氧半電晶體

核准國家: 中華民國 | 執行單位: 工研院電子所 | 產出年度: 93 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 工研院通訊與光電領域環境建構計畫 | 專利發明人: 許志維, 李永忠, 潘宗銘, 卓言 | 證書號碼: 202861

有機元件、形成具有分子排列之有機半導體層的方法、以及形成有機元件的方法

核准國家: 中華民國 | 執行單位: 工研院電子所 | 產出年度: 93 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 工研院創新前瞻技術研究計畫 | 專利發明人: 周維揚, 鄭弘隆, 賴志明, 廖奇璋 | 證書號碼: 200178

直下式背光模組

核准國家: 中華民國 | 執行單位: 工研院電子所 | 產出年度: 93 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 下世代平面顯示關鍵技術發展四年計畫 | 專利發明人: 詹景翔, 蕭名君, 劉康弘, 林偉義 | 證書號碼: 200905

光波導製程之階梯覆蓋率的測試結構及方法

核准國家: 中華民國 | 執行單位: 工研院電子所 | 產出年度: 93 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 工研院精密機械與微機電領域環境建構計畫 | 專利發明人: 蔡柏豪, 邱景宏, 顏凱翔, 劉文俊, 李裕文 | 證書號碼: 191701

埋藏式電容結構

核准國家: 中華民國 | 執行單位: 工研院電子所 | 產出年度: 93 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 電子關鍵性材料與整合模組發展四年計畫 | 專利發明人: 卓威明, 魏培森, 翁卿亮, 吳俊昆, 陳昌昇 | 證書號碼: 192752

埋藏式電容結構

核准國家: 美國 | 執行單位: 工研院電子所 | 產出年度: 93 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 電子關鍵性材料與整合模組發展四年計畫 | 專利發明人: 卓威明, 魏培森, 翁卿亮, 吳俊昆, 陳昌昇 | 證書號碼: 6813138

超薄基極矽/矽鍺異質結構雙載子電晶體的製作方法

核准國家: 中華民國 | 執行單位: 工研院電子所 | 產出年度: 93 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 工研院通訊與光電領域環境建構計畫 | 專利發明人: 賴理學, 陳邦旭, 陸新起, 劉致為 | 證書號碼: 223446

具有不同預傾角架構之半反射半穿透顯示器及其製作方法

核准國家: 中華民國 | 執行單位: 工研院電子所 | 產出年度: 93 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 下世代平面顯示關鍵技術發展四年計畫 | 專利發明人: 廖奇璋, 翁逸君, 劉康弘, 范揚宜 | 證書號碼: 206598

橫向驅動電場之廣視角液晶顯示器及其製作方法

核准國家: 中華民國 | 執行單位: 工研院電子所 | 產出年度: 93 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 下世代平面顯示關鍵技術發展四年計畫 | 專利發明人: 賴志明, 范揚宜, 許家榮, 陳慶逸 | 證書號碼: 206589

測試蝕刻速率的結構及方法

核准國家: 中華民國 | 執行單位: 工研院電子所 | 產出年度: 93 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 工研院精密機械與微機電領域環境建構計畫 | 專利發明人: 邱景宏, 顏凱翔, 王欽宏, 梁兆鈞, 陳玉華 | 證書號碼: 197248

微通道流體導引元件

核准國家: 中華民國 | 執行單位: 工研院電子所 | 產出年度: 93 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 工研院創新前瞻技術研究計畫 | 專利發明人: 夏廷魁, 吳志文, 姚南光, 龐紹華, 郭遠峰 | 證書號碼: 188284

微通道流體導引元件

核准國家: 美國 | 執行單位: 工研院電子所 | 產出年度: 93 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 工研院創新前瞻技術研究計畫 | 專利發明人: 夏廷魁, 吳志文, 姚南光, 龐紹華, 郭遠峰 | 證書號碼: 6725882

薄膜電晶體的結構、其製造方法

核准國家: 中華民國 | 執行單位: 工研院電子所 | 產出年度: 93 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 下世代平面顯示關鍵技術發展四年計畫 | 專利發明人: 林炯暐, 葉永輝 | 證書號碼: 198288

移位暫存器單元及其所組成之移位暫存器電路

核准國家: 中華民國 | 執行單位: 工研院電子所 | 產出年度: 93 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 下世代平面顯示關鍵技術發展四年計畫 | 專利發明人: 施俊任, 陳尚立, 王博文, 林展瑞 | 證書號碼: 220255

電容屏蔽結構

核准國家: 中華民國 | 執行單位: 工研院電子所 | 產出年度: 93 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 電子關鍵性材料與整合模組發展四年計畫 | 專利發明人: 卓威明, 陳昌昇, 吳俊昆, 魏培森, 翁卿亮, 賴穎俊 | 證書號碼: 192543

溝槽式金氧半電晶體

核准國家: 中華民國 | 執行單位: 工研院電子所 | 產出年度: 93 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 工研院通訊與光電領域環境建構計畫 | 專利發明人: 許志維, 李永忠, 潘宗銘, 卓言 | 證書號碼: 202861

有機元件、形成具有分子排列之有機半導體層的方法、以及形成有機元件的方法

核准國家: 中華民國 | 執行單位: 工研院電子所 | 產出年度: 93 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 工研院創新前瞻技術研究計畫 | 專利發明人: 周維揚, 鄭弘隆, 賴志明, 廖奇璋 | 證書號碼: 200178

直下式背光模組

核准國家: 中華民國 | 執行單位: 工研院電子所 | 產出年度: 93 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 下世代平面顯示關鍵技術發展四年計畫 | 專利發明人: 詹景翔, 蕭名君, 劉康弘, 林偉義 | 證書號碼: 200905

　|