利用共軛光路量測二維位移量之方法
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專利名稱-中文利用共軛光路量測二維位移量之方法的核准國家是中國大陸, 證書號碼是ZL02100115.4, 專利性質是發明, 執行單位是工研院院本部, 產出年度是94, 計畫名稱是工研院創新前瞻技術研究計畫, 專利發明人是高清芬、張中柱、李世光.

序號	1228
產出年度	94
領域別	(空)
專利名稱-中文	利用共軛光路量測二維位移量之方法
執行單位	工研院院本部
產出單位	(空)
計畫名稱	工研院創新前瞻技術研究計畫
專利發明人	高清芬 \| 張中柱 \| 李世光
核准國家	中國大陸
獲證日期	(空)
證書號碼	ZL02100115.4
專利期間起	(空)
專利期間訖	(空)
專利性質	發明
技術摘要-中文	本發明係提供一種共軛光路式二維位移量測方法，該量測方法係藉由一光源，產生一第一次入射光，入射於一繞射單元，形成至少兩道第一次繞射光，該第一次繞射光經由波前重建光學組件 ( wavefront reconstruction optics) 之作用，形成循原光徑折回，入射於該繞射單元之第二次入射光，該第二次入射光經該繞射單元反射後，形成至少兩道第二次繞射光，該第二次繞射光經由干涉光學組件之作用，形成至少兩道干涉光，將該干涉光經一般光干涉解相技術處理後，即可得到二維運動中兩個線性獨立方向上的位移量。
技術摘要-英文	(空)
聯絡人員	劉展洋
電話	03-5916037
傳真	03-5917431
電子信箱	JamesLiu@Itri.org.tw
參考網址	http://www.patentportfolio.itri.org.tw
備註	原領域別為機械運輸，95年改為機電運輸
特殊情形	(空)

序號

1228

產出年度

領域別

(空)

專利名稱-中文

利用共軛光路量測二維位移量之方法

執行單位

工研院院本部

產出單位

(空)

計畫名稱

工研院創新前瞻技術研究計畫

專利發明人

高清芬 | 張中柱 | 李世光

核准國家

中國大陸

獲證日期

(空)

證書號碼

ZL02100115.4

專利期間起

(空)

專利期間訖

(空)

專利性質

發明

技術摘要-中文

本發明係提供一種共軛光路式二維位移量測方法，該量測方法係藉由一光源，產生一第一次入射光，入射於一繞射單元，形成至少兩道第一次繞射光，該第一次繞射光經由波前重建光學組件 ( wavefront reconstruction optics) 之作用，形成循原光徑折回，入射於該繞射單元之第二次入射光，該第二次入射光經該繞射單元反射後，形成至少兩道第二次繞射光，該第二次繞射光經由干涉光學組件之作用，形成至少兩道干涉光，將該干涉光經一般光干涉解相技術處理後，即可得到二維運動中兩個線性獨立方向上的位移量。

技術摘要-英文

(空)

聯絡人員

劉展洋

電話

03-5916037

傳真

03-5917431

電子信箱

JamesLiu@Itri.org.tw

參考網址

http://www.patentportfolio.itri.org.tw

備註

原領域別為機械運輸，95年改為機電運輸

特殊情形

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利用共軛光路量測二維位移量之方法	核准國家: 美國 \| 證書號碼: 6744520 \| 專利期間起: \| 專利期間訖: \| 專利性質: 發明 \| 執行單位: 工研院量測中心 \| 產出年度: 93 \| 計畫名稱: 工研院創新前瞻技術研究計畫 \| 專利發明人: 張中柱 \| 高清芬 \| 李世光 @ 技術司專利資料集

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時序還原之方法與系統	核准國家: 英國 \| 證書號碼: 573696 \| 專利期間起: \| 專利期間訖: \| 專利性質: 發明 \| 執行單位: 工研院晶片中心 \| 產出年度: 94 \| 計畫名稱: 晶片系統關鍵技術發展四年計畫 \| 專利發明人: 林清祥 \| 余基祥 \| 林妍君 \| 薛勝文 @ 技術司專利資料集
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微針頭陣列製造方法	核准國家: 中華民國 \| 證書號碼: 206641 \| 專利期間起: \| 專利期間訖: \| 專利性質: 發明 \| 執行單位: 工研院電子所 \| 產出年度: 93 \| 計畫名稱: 微奈米系統應用技術四年計畫 \| 專利發明人: 郭仕奇 \| 陳相甫
液晶顯示器畫素電路	核准國家: 中華民國 \| 證書號碼: 197257 \| 專利期間起: \| 專利期間訖: \| 專利性質: 發明 \| 執行單位: 工研院電子所 \| 產出年度: 93 \| 計畫名稱: 工研院創新前瞻技術研究計畫 \| 專利發明人: 林展瑞 \| 王博文 \| 陳尚立
移動式微流體切換裝置	核准國家: 中華民國 \| 證書號碼: 195345 \| 專利期間起: \| 專利期間訖: \| 專利性質: 發明 \| 執行單位: 工研院電子所 \| 產出年度: 93 \| 計畫名稱: 微小化生醫診療工程技術四年計畫 \| 專利發明人: 龐紹華 \| 王美雅 \| 楊宏仁
奈米碳管電子源場發射電流增益製程	核准國家: 中華民國 \| 證書號碼: 223308 \| 專利期間起: \| 專利期間訖: \| 專利性質: 發明 \| 執行單位: 工研院電子所 \| 產出年度: 93 \| 計畫名稱: 下世代平面顯示關鍵技術發展四年計畫 \| 專利發明人: 許志榮 \| 李鈞道 \| 李正中 \| 何家充 \| 張悠揚

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