熱處理裝置與熱處理製程之調整方法
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專利名稱-中文熱處理裝置與熱處理製程之調整方法的核准國家是中華民國, 證書號碼是發明I240333, 專利性質是發明, 執行單位是中科院飛彈所, 產出年度是94, 計畫名稱是新興產業精密機械系統關鍵技術研究發展三年計畫, 專利發明人是蘇俊傑、余孟泉、曹仁杰、林銘俊、蘇泳森、賴奕翔.

序號2007
產出年度94
領域別(空)
專利名稱-中文熱處理裝置與熱處理製程之調整方法
執行單位中科院飛彈所
產出單位(空)
計畫名稱新興產業精密機械系統關鍵技術研究發展三年計畫
專利發明人蘇俊傑 | 余孟泉 | 曹仁杰 | 林銘俊 | 蘇泳森 | 賴奕翔
核准國家中華民國
獲證日期(空)
證書號碼發明I240333
專利期間起(空)
專利期間訖(空)
專利性質發明
技術摘要-中文一種熱處理製程之調整方法,包括下列數個步驟。首先,將一加熱燈及其反射罩配置於一晶圓上,以量測並調整單一之加熱燈對於晶圓之熱通量分佈。之後,將多個加熱燈所組成之一加熱燈組配置於一晶圓上,其中這些加熱燈係以軸對稱之多個圈環的陣列排列。接著,調整加熱燈組與晶圓之間的位置,使得加熱燈組之陣列中心的軸線與晶圓之中心的軸線之間具有水平之一偏移向量,並調整這些加熱燈之加熱功率。之後,讓晶圓與加熱燈組沿著平行晶圓之中心軸線作相對旋轉,以接收來自加熱燈組之均勻的熱通量。
技術摘要-英文(空)
聯絡人員蘇俊傑
電話(03)4712201 EXT:356512
傳真(空)
電子信箱(空)
參考網址(空)
備註原領域別為機械運輸,95年改為機電運輸
特殊情形(空)

序號

2007

產出年度

94

領域別

(空)

專利名稱-中文

熱處理裝置與熱處理製程之調整方法

執行單位

中科院飛彈所

產出單位

(空)

計畫名稱

新興產業精密機械系統關鍵技術研究發展三年計畫

專利發明人

蘇俊傑 | 余孟泉 | 曹仁杰 | 林銘俊 | 蘇泳森 | 賴奕翔

核准國家

中華民國

獲證日期

(空)

證書號碼

發明I240333

專利期間起

(空)

專利期間訖

(空)

專利性質

發明

技術摘要-中文

一種熱處理製程之調整方法,包括下列數個步驟。首先,將一加熱燈及其反射罩配置於一晶圓上,以量測並調整單一之加熱燈對於晶圓之熱通量分佈。之後,將多個加熱燈所組成之一加熱燈組配置於一晶圓上,其中這些加熱燈係以軸對稱之多個圈環的陣列排列。接著,調整加熱燈組與晶圓之間的位置,使得加熱燈組之陣列中心的軸線與晶圓之中心的軸線之間具有水平之一偏移向量,並調整這些加熱燈之加熱功率。之後,讓晶圓與加熱燈組沿著平行晶圓之中心軸線作相對旋轉,以接收來自加熱燈組之均勻的熱通量。

技術摘要-英文

(空)

聯絡人員

蘇俊傑

電話

(03)4712201 EXT:356512

傳真

(空)

電子信箱

(空)

參考網址

(空)

備註

原領域別為機械運輸,95年改為機電運輸

特殊情形

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Apparatus and Adjusting Technology for Uniform Thermal procesing

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Apparatus and Adjusting Technology for Uniform Thermal procesing

核准國家: 美國 | 證書號碼: US7,262,390B2 | 專利期間起: | 專利期間訖: | 專利性質: 發明 | 執行單位: 中科院飛彈所 | 產出年度: 96 | 計畫名稱: 光電與精密機電系統關鍵技術研究發展三年計畫 | 專利發明人: 蘇俊傑 余孟泉 曹仁杰 林銘俊 蘇泳森 賴奕翔

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核准國家: 中華民國 | 證書號碼: 206772 | 專利期間起: | 專利期間訖: | 專利性質: 發明 | 執行單位: 工研院光電所 | 產出年度: 93 | 計畫名稱: 下世代光資訊系統技術發展五年計畫 | 專利發明人: 楊志軒 | 謝政揚 | 黃振源 | 張啟伸

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核准國家: 中華民國 | 證書號碼: 195758 | 專利期間起: | 專利期間訖: | 專利性質: 發明 | 執行單位: 工研院光電所 | 產出年度: 93 | 計畫名稱: 下世代光資訊系統技術發展五年計畫 | 專利發明人: 涂銀發 | 姜皇成 | 陳志文 | 張耿智

雙軸向調變影像放大倍率的形狀測定裝置

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環場影像接圖器及其方法

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表面層以複合材料CaF2和TiO2所構成且具撥水功能之光學鍍膜元件

核准國家: 中華民國 | 證書號碼: I223009 | 專利期間起: | 專利期間訖: | 專利性質: 發明 | 執行單位: 工研院光電所 | 產出年度: 93 | 計畫名稱: 工研院通訊與光電領域環境建構計畫 | 專利發明人: 蔡榮源 | 林浪津 | 崋沐怡

分佈回饋式(DFB)半導體雷射及其製作方法

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光盤承載裝置

核准國家: 中國大陸 | 證書號碼: ZL00129763.5 | 專利期間起: | 專利期間訖: | 專利性質: 發明 | 執行單位: 工研院光電所 | 產出年度: 93 | 計畫名稱: 下世代光資訊系統技術發展五年計畫 | 專利發明人: 黃偉煜

動態減震系統

核准國家: 中華民國 | 證書號碼: 206772 | 專利期間起: | 專利期間訖: | 專利性質: 發明 | 執行單位: 工研院光電所 | 產出年度: 93 | 計畫名稱: 下世代光資訊系統技術發展五年計畫 | 專利發明人: 楊志軒 | 謝政揚 | 黃振源 | 張啟伸

聲光布拉格衍射式多光束光學讀寫頭

核准國家: 中國大陸 | 證書號碼: ZL00108097.0 | 專利期間起: | 專利期間訖: | 專利性質: 發明 | 執行單位: 工研院光電所 | 產出年度: 93 | 計畫名稱: 下世代光資訊系統技術發展五年計畫 | 專利發明人: 朱良謙 | 張志吉

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核准國家: 中華民國 | 證書號碼: 195758 | 專利期間起: | 專利期間訖: | 專利性質: 發明 | 執行單位: 工研院光電所 | 產出年度: 93 | 計畫名稱: 下世代光資訊系統技術發展五年計畫 | 專利發明人: 涂銀發 | 姜皇成 | 陳志文 | 張耿智

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環場影像接圖器及其方法

核准國家: 美國 | 證書號碼: 6,798,923 | 專利期間起: | 專利期間訖: | 專利性質: 發明 | 執行單位: 工研院光電所 | 產出年度: 93 | 計畫名稱: 下世代光資訊系統技術發展五年計畫 | 專利發明人: 謝君偉 | 江政欽 | 魏德樂

取紙傳動模組

核准國家: 中華民國 | 證書號碼: 215325 | 專利期間起: | 專利期間訖: | 專利性質: 新型 | 執行單位: 工研院光電所 | 產出年度: 93 | 計畫名稱: 下世代光資訊系統技術發展五年計畫 | 專利發明人: 林智堅 | 陳英棋 | 鄭兆凱 | 張惠珍

噴墨印頭的封裝方法

核准國家: 中國大陸 | 證書號碼: ZL98106298.9 | 專利期間起: | 專利期間訖: | 專利性質: 發明 | 執行單位: 工研院光電所 | 產出年度: 93 | 計畫名稱: 下世代光資訊系統技術發展五年計畫 | 專利發明人: 藍元亮 | 吳義勇 | 邱紹玲 | 劉克明 | 鄭淑娟

噴墨印頭結構

核准國家: 中國大陸 | 證書號碼: ZL98116196.0 | 專利期間起: | 專利期間訖: | 專利性質: 發明 | 執行單位: 工研院光電所 | 產出年度: 93 | 計畫名稱: 下世代光資訊系統技術發展五年計畫 | 專利發明人: 吳義勇 | 胡紀平 | 賴怡絢 | 莊育洪 | 王介文

墨水通道設計

核准國家: 德國 | 證書號碼: 19914700 | 專利期間起: | 專利期間訖: | 專利性質: 發明 | 執行單位: 工研院光電所 | 產出年度: 93 | 計畫名稱: 下世代光資訊系統技術發展五年計畫 | 專利發明人: 吳義勇 | 胡紀平 | 賴怡絢 | 莊育洪 | 王介文

墨水通道製造方法

核准國家: 中國大陸 | 證書號碼: ZL98115179.5 | 專利期間起: | 專利期間訖: | 專利性質: 發明 | 執行單位: 工研院光電所 | 產出年度: 93 | 計畫名稱: 下世代光資訊系統技術發展五年計畫 | 專利發明人: 王介文 | 吳義勇 | 胡鴻烈 | 李明玲

噴墨印頭晶片的單石製造方法及噴墨印頭

核准國家: 中國大陸 | 證書號碼: ZL98118397.2 | 專利期間起: | 專利期間訖: | 專利性質: 發明 | 執行單位: 工研院光電所 | 產出年度: 93 | 計畫名稱: 下世代光資訊系統技術發展五年計畫 | 專利發明人: 胡紀平 | 吳義勇 | 藍元亮 | 賴怡絢 | 王惠芳

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