旋轉蝕刻機用之化學液回收再生裝置
- 技術司專利資料集 @ 經濟部

專利名稱-中文旋轉蝕刻機用之化學液回收再生裝置的核准國家是中華民國, 證書號碼是I248988, 專利性質是發明, 執行單位是工研院機械所, 產出年度是95, 計畫名稱是機械與系統領域環境建構計畫, 專利發明人是江源遠、董福慶、王家康、 P. Mahneke.

序號	2199
產出年度	95
領域別	(空)
專利名稱-中文	旋轉蝕刻機用之化學液回收再生裝置
執行單位	工研院機械所
產出單位	(空)
計畫名稱	機械與系統領域環境建構計畫
專利發明人	江源遠 \| 董福慶 \| 王家康 \| P. Mahneke
核准國家	中華民國
獲證日期	(空)
證書號碼	I248988
專利期間起	(空)
專利期間訖	(空)
專利性質	發明
技術摘要-中文	一種旋轉蝕刻製程中化學藥液回收與再生的裝置，無需改變原有旋轉蝕刻機之製程反應室的外觀尺寸下，即可進行化學藥液的回收。主要是利用旋轉所產生的離心力，將化學藥液甩出晶圓夾盤，而以化學藥液回收環區分不同的化學藥液以進行回收。本發明可以使用於多種旋轉蝕刻化學藥液的回收，依需求分類並流入指定的管路中，進行後續的再生或排放。The present invention describes a chemical solution recycling apparatus in a spin etching and cleaning process chamber for manufacturing semiconductor devices. Modification of the exterior dimension and the main structure of the process chamber is not necessary. The recycling apparatus in accordance with the present invention may separate different chemical solutions into different vessels and recycle them thereafter. The recycling apparatus comprises a recycling ring moving up and down to collect the solution and a recycling circular tray for sorting the chemical solutions in different trenches and drains. Therefore, the chemical solutions may be collected by assigned vessels or recycled into the process chamber after necessary quality inspections.
技術摘要-英文	(空)
聯絡人員	劉展洋
電話	03-5916037
傳真	03-5917431
電子信箱	JamesLiu@Itri.org.tw
參考網址	http://www.patentportfolio.itri.org.tw
備註	原領域別為機械運輸，95年改為機電運輸
特殊情形	(空)

序號

2199

產出年度

領域別

(空)

專利名稱-中文

旋轉蝕刻機用之化學液回收再生裝置

執行單位

工研院機械所

產出單位

(空)

計畫名稱

機械與系統領域環境建構計畫

專利發明人

江源遠 | 董福慶 | 王家康 | P. Mahneke

核准國家

中華民國

獲證日期

(空)

證書號碼

I248988

專利期間起

(空)

專利期間訖

(空)

專利性質

發明

技術摘要-中文

一種旋轉蝕刻製程中化學藥液回收與再生的裝置，無需改變原有旋轉蝕刻機之製程反應室的外觀尺寸下，即可進行化學藥液的回收。主要是利用旋轉所產生的離心力，將化學藥液甩出晶圓夾盤，而以化學藥液回收環區分不同的化學藥液以進行回收。本發明可以使用於多種旋轉蝕刻化學藥液的回收，依需求分類並流入指定的管路中，進行後續的再生或排放。The present invention describes a chemical solution recycling apparatus in a spin etching and cleaning process chamber for manufacturing semiconductor devices. Modification of the exterior dimension and the main structure of the process chamber is not necessary. The recycling apparatus in accordance with the present invention may separate different chemical solutions into different vessels and recycle them thereafter. The recycling apparatus comprises a recycling ring moving up and down to collect the solution and a recycling circular tray for sorting the chemical solutions in different trenches and drains. Therefore, the chemical solutions may be collected by assigned vessels or recycled into the process chamber after necessary quality inspections.

技術摘要-英文

(空)

聯絡人員

劉展洋

電話

03-5916037

傳真

03-5917431

電子信箱

JamesLiu@Itri.org.tw

參考網址

http://www.patentportfolio.itri.org.tw

備註

原領域別為機械運輸，95年改為機電運輸

特殊情形

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一種高速假撚方法	核准國家: 中華民國 \| 證書號碼: 207547 \| 專利期間起: \| 專利期間訖: \| 專利性質: 發明 \| 執行單位: 工研院化工所 \| 產出年度: 94 \| 計畫名稱: 高科技纖維與產品技術開發四年計畫 \| 專利發明人: 陳哲陽 \| 簡淑華 \| 黃麗娟 \| 黃泳彬 @ 技術司專利資料集
增進散熱與電磁屏蔽效應之半導體封裝	核准國家: 中華民國 \| 證書號碼: 207522 \| 專利期間起: \| 專利期間訖: \| 專利性質: 發明 \| 執行單位: 工研院材料所 \| 產出年度: 94 \| 計畫名稱: 電子關鍵性材料與整合模組發展四年計畫 \| 專利發明人: 王興昇 \| 李榮賢 \| 陳棓煌 @ 技術司專利資料集
熱管均熱板	核准國家: 中華民國 \| 證書號碼: 226177 \| 專利期間起: \| 專利期間訖: \| 專利性質: 新型 \| 執行單位: 工研院院本部 \| 產出年度: 94 \| 計畫名稱: 工研院創新前瞻技術研究計畫 \| 專利發明人: 張長生 \| 楊書榮 @ 技術司專利資料集
一種資料通訊的方法	核准國家: 美國 \| 證書號碼: 6496481 \| 專利期間起: \| 專利期間訖: \| 專利性質: 發明 \| 執行單位: 工研院電通所 \| 產出年度: 94 \| 計畫名稱: 無線通訊技術發展五年計畫 \| 專利發明人: 吳炯憲 \| 馬金溝 @ 技術司專利資料集
Optical Disk Control Mechanism	核准國家: 美國 \| 證書號碼: 6665253 \| 專利期間起: \| 專利期間訖: \| 專利性質: 發明 \| 執行單位: 工研院光電所 \| 產出年度: 94 \| 計畫名稱: 前瞻光資訊系統技術發展計畫 \| 專利發明人: 藍永松 \| 張啟伸 @ 技術司專利資料集
時序還原之方法與系統	核准國家: 德國 \| 證書號碼: 573696 \| 專利期間起: \| 專利期間訖: \| 專利性質: 發明 \| 執行單位: 工研院晶片中心 \| 產出年度: 94 \| 計畫名稱: 晶片系統關鍵技術發展四年計畫 \| 專利發明人: 林清祥 \| 余基祥 \| 林妍君 \| 薛勝文 @ 技術司專利資料集
時序還原之方法與系統	核准國家: 英國 \| 證書號碼: 573696 \| 專利期間起: \| 專利期間訖: \| 專利性質: 發明 \| 執行單位: 工研院晶片中心 \| 產出年度: 94 \| 計畫名稱: 晶片系統關鍵技術發展四年計畫 \| 專利發明人: 林清祥 \| 余基祥 \| 林妍君 \| 薛勝文 @ 技術司專利資料集
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矽深蝕刻反應離子蝕刻延遲的解決方法	核准國家: 中華民國 \| 證書號碼: 184681 \| 專利期間起: \| 專利期間訖: \| 專利性質: 發明 \| 執行單位: 工研院電子所 \| 產出年度: 93 \| 計畫名稱: 微奈米系統應用技術四年計畫 \| 專利發明人: 鍾震桂 \| 盧慧娟
3D堆疊封裝散熱模組	核准國家: 美國 \| 證書號碼: 6700783 \| 專利期間起: \| 專利期間訖: \| 專利性質: 發明 \| 執行單位: 工研院電子所 \| 產出年度: 93 \| 計畫名稱: 電子關鍵性材料與整合模組發展四年計畫 \| 專利發明人: 劉君愷 \| 姜信騰
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改進之場發射型顯示器驅動方法	核准國家: 美國 \| 證書號碼: 6741039 \| 專利期間起: \| 專利期間訖: \| 專利性質: 發明 \| 執行單位: 工研院電子所 \| 產出年度: 93 \| 計畫名稱: 下世代平面顯示關鍵技術發展四年計畫 \| 專利發明人: 李鈞道 \| 李正中 \| 許志榮 \| 張悠揚
氣體吸附式晶圓保護裝置及其方法	核准國家: 中華民國 \| 證書號碼: 188211 \| 專利期間起: \| 專利期間訖: \| 專利性質: 發明 \| 執行單位: 工研院電子所 \| 產出年度: 93 \| 計畫名稱: 工研院精密機械與微機電領域環境建構計畫 \| 專利發明人: 蘇慧琪 \| 江松燦
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利用灰階曝光法製作傾斜散射式反射板之方法	核准國家: 中華民國 \| 證書號碼: 187289 \| 專利期間起: \| 專利期間訖: \| 專利性質: 發明 \| 執行單位: 工研院電子所 \| 產出年度: 93 \| 計畫名稱: 下世代平面顯示關鍵技術發展四年計畫 \| 專利發明人: 賴志明 \| 翁逸君 \| 廖奇璋
利用灰階曝光法製作傾斜散射式反射板之方法	核准國家: 美國 \| 證書號碼: 6773870 \| 專利期間起: \| 專利期間訖: \| 專利性質: 發明 \| 執行單位: 工研院電子所 \| 產出年度: 93 \| 計畫名稱: 下世代平面顯示關鍵技術發展四年計畫 \| 專利發明人: 賴志明 \| 翁逸君 \| 廖奇璋
電流驅動元件主動陣列的畫素電路	核准國家: 中華民國 \| 證書號碼: 197219 \| 專利期間起: \| 專利期間訖: \| 專利性質: 發明 \| 執行單位: 工研院電子所 \| 產出年度: 93 \| 計畫名稱: 下世代平面顯示關鍵技術發展四年計畫 \| 專利發明人: 陳建儒 \| 陳尚立 \| 施俊任
高密度資料讀寫器及其讀寫方法	核准國家: 中華民國 \| 證書號碼: 200381 \| 專利期間起: \| 專利期間訖: \| 專利性質: 發明 \| 執行單位: 工研院電子所 \| 產出年度: 93 \| 計畫名稱: 工研院精密機械與微機電領域環境建構計畫 \| 專利發明人: 李裕文 \| 蔡晴翔 \| 吳清沂
半穿透反射式液晶顯示器	核准國家: 中華民國 \| 證書號碼: 206462 \| 專利期間起: \| 專利期間訖: \| 專利性質: 發明 \| 執行單位: 工研院電子所 \| 產出年度: 93 \| 計畫名稱: 下世代平面顯示關鍵技術發展四年計畫 \| 專利發明人: 陳慶逸 \| 沈毓仁
半穿透反射式液晶顯示器	核准國家: 美國 \| 證書號碼: 6806929 \| 專利期間起: \| 專利期間訖: \| 專利性質: 發明 \| 執行單位: 工研院電子所 \| 產出年度: 93 \| 計畫名稱: 下世代平面顯示關鍵技術發展四年計畫 \| 專利發明人: 陳慶逸 \| 沈毓仁
光電模組模封裝	核准國家: 中華民國 \| 證書號碼: 220733 \| 專利期間起: \| 專利期間訖: \| 專利性質: 新型 \| 執行單位: 工研院電子所 \| 產出年度: 93 \| 計畫名稱: 電子關鍵性材料與整合模組發展四年計畫 \| 專利發明人: 陳文彥 \| 范榮昌 \| 劉君愷
光電元件與光纖連接器之被動對位封裝結構	核准國家: 美國 \| 證書號碼: 6808323 \| 專利期間起: \| 專利期間訖: \| 專利性質: 發明 \| 執行單位: 工研院電子所 \| 產出年度: 93 \| 計畫名稱: 微奈米系統應用技術四年計畫 \| 專利發明人: 姜信騰 \| 劉君愷 \| 周意工
一次成形之覆晶式閘球陣列半導體構裝與其製造方法	核准國家: 中華民國 \| 證書號碼: 190623 \| 專利期間起: \| 專利期間訖: \| 專利性質: 發明 \| 執行單位: 工研院電子所 \| 產出年度: 93 \| 計畫名稱: 電子關鍵性材料與整合模組發展四年計畫 \| 專利發明人: 盧思維 \| 盧威華 \| 呂芳俊

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