連續式化學濕式法合成奈米銀之製造方法
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專利名稱-中文連續式化學濕式法合成奈米銀之製造方法的核准國家是中華民國, 執行單位是中科院化學所, 產出年度是96, 專利性質是發明, 計畫名稱是先進化學品技術發展與應用四年計畫, 專利發明人是尤逸玄,魏明雄,黃景生,呂理煌.

序號3859
產出年度96
領域別(空)
專利名稱-中文連續式化學濕式法合成奈米銀之製造方法
執行單位中科院化學所
產出單位(空)
計畫名稱先進化學品技術發展與應用四年計畫
專利發明人尤逸玄,魏明雄,黃景生,呂理煌
核准國家中華民國
獲證日期(空)
證書號碼(空)
專利期間起(空)
專利期間訖(空)
專利性質發明
技術摘要-中文本發明係以銀鹽溶液為銀原料,之後銀離子在水溶性高分子的立體屏障分散下便可還原形成分散良好之奈米銀溶漿半成品。本法提供一可連續式大量生產奈米級銀粉體方法及具備化學濕法合成之低成本特點,在產業上有高度利用價值。_x000D_
技術摘要-英文(空)
聯絡人員(空)
電話(空)
傳真(空)
電子信箱(空)
參考網址(空)
備註原領域別為機械運輸,95年改為機電運輸
特殊情形(空)
同步更新日期2019-07-24

序號

3859

產出年度

96

領域別

(空)

專利名稱-中文

連續式化學濕式法合成奈米銀之製造方法

執行單位

中科院化學所

產出單位

(空)

計畫名稱

先進化學品技術發展與應用四年計畫

專利發明人

尤逸玄,魏明雄,黃景生,呂理煌

核准國家

中華民國

獲證日期

(空)

證書號碼

(空)

專利期間起

(空)

專利期間訖

(空)

專利性質

發明

技術摘要-中文

本發明係以銀鹽溶液為銀原料,之後銀離子在水溶性高分子的立體屏障分散下便可還原形成分散良好之奈米銀溶漿半成品。本法提供一可連續式大量生產奈米級銀粉體方法及具備化學濕法合成之低成本特點,在產業上有高度利用價值。_x000D_

技術摘要-英文

(空)

聯絡人員

(空)

電話

(空)

傳真

(空)

電子信箱

(空)

參考網址

(空)

備註

原領域別為機械運輸,95年改為機電運輸

特殊情形

(空)

同步更新日期

2019-07-24

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電力控制電路

核准國家: 中華民國 | 執行單位: 工研院量測中心 | 產出年度: 93 | 專利性質: 新型 | 計畫名稱: 自動光學顯微檢測設備技術三年計畫 | 專利發明人: 陳盛仁, 楊景榮, 林俊宏, 陳燦林 | 證書號碼: 214743

提高掃頻電路頻率解析與準確度之系統

核准國家: 中華民國 | 執行單位: 工研院量測中心 | 產出年度: 93 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 自動光學顯微檢測設備技術三年計畫 | 專利發明人: 郭晉榮,黃俊雄 | 證書號碼: 184318

低頻率漂移數位頻率調制裝置

核准國家: 中華民國 | 執行單位: 工研院量測中心 | 產出年度: 93 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 自動光學顯微檢測設備技術三年計畫 | 專利發明人: 高炳文, 謝賜山, 紀秋棉 | 證書號碼: 195328

光學編碼器定位裝置

核准國家: 中華民國 | 執行單位: 工研院量測中心 | 產出年度: 93 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 自動光學顯微檢測設備技術三年計畫 | 專利發明人: 林慶芳 | 證書號碼: 193120

影像偵測元件與其與待測物件相對移動方向之垂直偏移度量測方法

核准國家: 中華民國 | 執行單位: 工研院量測中心 | 產出年度: 93 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 自動光學顯微檢測設備技術三年計畫 | 專利發明人: 林俊育, 宋新岳, 羅偕益 | 證書號碼: 200068

熱釋電型感測器信號轉換電路

核准國家: 中華民國 | 執行單位: 工研院量測中心 | 產出年度: 93 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 自動光學顯微檢測設備技術三年計畫 | 專利發明人: 涂鐘範, 林耀明 | 證書號碼: 197821

顯示裝置之檢測系統及方法

核准國家: 中華民國 | 執行單位: 工研院量測中心 | 產出年度: 93 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 自動光學顯微檢測設備技術三年計畫 | 專利發明人: 田立芬, 葉峻毅, 楊福祥 | 證書號碼: 220689

寬頻掃頻電路架構

核准國家: 中華民國 | 執行單位: 工研院量測中心 | 產出年度: 93 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 自動光學顯微檢測設備技術三年計畫 | 專利發明人: 郭晉榮, 謝賜山 | 證書號碼: 198444

光源產生裝置及方法

核准國家: 中華民國 | 執行單位: 工研院量測中心 | 產出年度: 93 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 自動光學顯微檢測設備技術三年計畫 | 專利發明人: 林勝雄, 江敏華, 郭葉琮 | 證書號碼: 200164

相位差調整裝置及方法以及應用該相位差調整裝置之感測裝置

核准國家: 中華民國 | 執行單位: 工研院量測中心 | 產出年度: 93 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 自動光學顯微檢測設備技術三年計畫 | 專利發明人: 楊景榮, 高清芬, 陳譽元 | 證書號碼: 206753

新型窄長平直薄型基材專用浸泡塗佈裝置

核准國家: 中華民國 | 執行單位: 工研院量測中心 | 產出年度: 93 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 自動光學顯微檢測設備技術三年計畫 | 專利發明人: 葉清銘, 陳燦林, 陳譽元 | 證書號碼: 206450

反射尺讀頭裝置

核准國家: 中華民國 | 執行單位: 工研院量測中心 | 產出年度: 93 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 自動光學顯微檢測設備技術三年計畫 | 專利發明人: 林慶芳, 高清芬, 陳燦林, 陳譽元 | 證書號碼: 201496

物體表面三維形貌量測方法和系統

核准國家: 中華民國 | 執行單位: 工研院量測中心 | 產出年度: 93 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 自動光學顯微檢測設備技術三年計畫 | 專利發明人: 宋新岳, 田立芬 | 證書號碼: 200161

利用共軛光路量測二維位移量之方法

核准國家: 美國 | 執行單位: 工研院量測中心 | 產出年度: 93 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 工研院創新前瞻技術研究計畫 | 專利發明人: 張中柱, 高清芬, 李世光 | 證書號碼: 6,744,520

紅外光轉換可見光之顯微影像裝置

核准國家: 美國 | 執行單位: 工研院量測中心 | 產出年度: 93 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 工研院創新前瞻技術研究計畫 | 專利發明人: 王浩偉, 林耀明, 葉迎春 | 證書號碼: 6,687,051

電力控制電路

核准國家: 中華民國 | 執行單位: 工研院量測中心 | 產出年度: 93 | 專利性質: 新型 | 計畫名稱: 自動光學顯微檢測設備技術三年計畫 | 專利發明人: 陳盛仁, 楊景榮, 林俊宏, 陳燦林 | 證書號碼: 214743

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影像偵測元件與其與待測物件相對移動方向之垂直偏移度量測方法

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核准國家: 中華民國 | 執行單位: 工研院量測中心 | 產出年度: 93 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 自動光學顯微檢測設備技術三年計畫 | 專利發明人: 田立芬, 葉峻毅, 楊福祥 | 證書號碼: 220689

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光源產生裝置及方法

核准國家: 中華民國 | 執行單位: 工研院量測中心 | 產出年度: 93 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 自動光學顯微檢測設備技術三年計畫 | 專利發明人: 林勝雄, 江敏華, 郭葉琮 | 證書號碼: 200164

相位差調整裝置及方法以及應用該相位差調整裝置之感測裝置

核准國家: 中華民國 | 執行單位: 工研院量測中心 | 產出年度: 93 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 自動光學顯微檢測設備技術三年計畫 | 專利發明人: 楊景榮, 高清芬, 陳譽元 | 證書號碼: 206753

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核准國家: 中華民國 | 執行單位: 工研院量測中心 | 產出年度: 93 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 自動光學顯微檢測設備技術三年計畫 | 專利發明人: 葉清銘, 陳燦林, 陳譽元 | 證書號碼: 206450

反射尺讀頭裝置

核准國家: 中華民國 | 執行單位: 工研院量測中心 | 產出年度: 93 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 自動光學顯微檢測設備技術三年計畫 | 專利發明人: 林慶芳, 高清芬, 陳燦林, 陳譽元 | 證書號碼: 201496

物體表面三維形貌量測方法和系統

核准國家: 中華民國 | 執行單位: 工研院量測中心 | 產出年度: 93 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 自動光學顯微檢測設備技術三年計畫 | 專利發明人: 宋新岳, 田立芬 | 證書號碼: 200161

利用共軛光路量測二維位移量之方法

核准國家: 美國 | 執行單位: 工研院量測中心 | 產出年度: 93 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 工研院創新前瞻技術研究計畫 | 專利發明人: 張中柱, 高清芬, 李世光 | 證書號碼: 6,744,520

紅外光轉換可見光之顯微影像裝置

核准國家: 美國 | 執行單位: 工研院量測中心 | 產出年度: 93 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 工研院創新前瞻技術研究計畫 | 專利發明人: 王浩偉, 林耀明, 葉迎春 | 證書號碼: 6,687,051

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