新式熱沉熱縮製造法
- 經濟部產業技術司–專利資料集 @ 經濟部

專利名稱-中文新式熱沉熱縮製造法的核准國家是中國大陸, 執行單位是工研院院本部, 產出年度是97, 專利性質是新型, 計畫名稱是工研院創新前瞻技術研究計畫, 專利發明人是高國棟劉家宏, 證書號碼是ZL200510130503.1.

序號	4860
產出年度	97
領域別	(空)
專利名稱-中文	新式熱沉熱縮製造法
執行單位	工研院院本部
產出單位	(空)
計畫名稱	工研院創新前瞻技術研究計畫
專利發明人	高國棟劉家宏
核准國家	中國大陸
獲證日期	(空)
證書號碼	ZL200510130503.1
專利期間起	(空)
專利期間訖	(空)
專利性質	新型
技術摘要-中文	一種熱沉的製造方法，係將液態金屬灌入一模具內，其後再將金屬柱狀物植入於模具內的液態金屬上，使液態金屬冷卻並固定金屬柱狀物，形成散熱模組。本發明可利用不同形狀的金屬柱狀物形成不同樣式的散熱器，特別是可以簡易地製作出微型鰭片熱沉。 A manufactured method of heat sink is to use a liquid metal into a mould, and then get a post shape of metal set up in the liquid metal of the mould to make the liquid metal cool and fix the post shape of metal to form a thermal module. The present invention can use different type of post shape of metal to form different kinds of heat sink, especially manufacture a micro fin of heat sink easily.
技術摘要-英文	(空)
聯絡人員	李露蘋
電話	03-59117812
傳真	03-5917431
電子信箱	oralp@itri.org.tw
參考網址	http://www.patentportfolio.itri.org.tw
備註	0
特殊情形	(空)
同步更新日期	2019-07-24

序號

4860

產出年度

領域別

(空)

專利名稱-中文

新式熱沉熱縮製造法

執行單位

工研院院本部

產出單位

(空)

計畫名稱

工研院創新前瞻技術研究計畫

專利發明人

高國棟劉家宏

核准國家

中國大陸

獲證日期

(空)

證書號碼

ZL200510130503.1

專利期間起

(空)

專利期間訖

(空)

專利性質

新型

技術摘要-中文

一種熱沉的製造方法，係將液態金屬灌入一模具內，其後再將金屬柱狀物植入於模具內的液態金屬上，使液態金屬冷卻並固定金屬柱狀物，形成散熱模組。本發明可利用不同形狀的金屬柱狀物形成不同樣式的散熱器，特別是可以簡易地製作出微型鰭片熱沉。 A manufactured method of heat sink is to use a liquid metal into a mould, and then get a post shape of metal set up in the liquid metal of the mould to make the liquid metal cool and fix the post shape of metal to form a thermal module. The present invention can use different type of post shape of metal to form different kinds of heat sink, especially manufacture a micro fin of heat sink easily.

技術摘要-英文

(空)

聯絡人員

李露蘋

電話

03-59117812

傳真

03-5917431

電子信箱

oralp@itri.org.tw

參考網址

http://www.patentportfolio.itri.org.tw

備註

特殊情形

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2019-07-24

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透過對話回合間內文關係來減少辨識錯誤的裝置與方法	核准國家: 中華民國 \| 執行單位: 工研院資通所 \| 產出年度: 99 \| 專利性質: 發明 \| 計畫名稱: 資訊與通訊領域環境建構計畫 \| 專利發明人: 吳旭智, 李青憲 \| 證書號碼: I321313 @ 經濟部產業技術司–專利資料集
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光學用高度調整裝置	核准國家: 中華民國 \| 執行單位: 工研院量測中心 \| 產出年度: 93 \| 專利性質: 發明 \| 計畫名稱: 工研院創新前瞻技術研究計畫 \| 專利發明人: 石宇森 \| 證書號碼: 201467
位移微擾裝置	核准國家: 中華民國 \| 執行單位: 工研院量測中心 \| 產出年度: 93 \| 專利性質: 發明 \| 計畫名稱: 工研院創新前瞻技術研究計畫 \| 專利發明人: 林耀明, 陳志光, 石宇森 \| 證書號碼: 201468
電磁場感測元件及其裝置	核准國家: 中華民國 \| 執行單位: 工研院量測中心 \| 產出年度: 93 \| 專利性質: 發明 \| 計畫名稱: 工研院創新前瞻技術研究計畫 \| 專利發明人: 黃卯生, 薛文崇, 曾文仁, 馮勁敏, 梁文烈 \| 證書號碼: 201837
二維位移量之量測裝置	核准國家: 中華民國 \| 執行單位: 工研院量測中心 \| 產出年度: 93 \| 專利性質: 發明 \| 計畫名稱: 工研院創新前瞻技術研究計畫 \| 專利發明人: 高清芬, 張中柱, 林慶芳 \| 證書號碼: I224351

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