線切割放電加工模組
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專利名稱-中文線切割放電加工模組的核准國家是中華民國, 執行單位是工研院機械所, 產出年度是98, 專利性質是發明, 計畫名稱是放電精細線切割系統技術研究發展三年計畫, 專利發明人是歐峰銘 ,梁碩芃 ,黃華志 ,陳宇杰 ,羅佐良 ,, 證書號碼是I310712.

序號	5865
產出年度	98
領域別	(空)
專利名稱-中文	線切割放電加工模組
執行單位	工研院機械所
產出單位	(空)
計畫名稱	放電精細線切割系統技術研究發展三年計畫
專利發明人	歐峰銘 \| 梁碩芃 \| 黃華志 \| 陳宇杰 \| 羅佐良
核准國家	中華民國
獲證日期	(空)
證書號碼	I310712
專利期間起	(空)
專利期間訖	(空)
專利性質	發明
技術摘要-中文	一種可實現多向、多方位之線切割放電加工模組，包括一第一旋轉單元、一第二旋轉單元、以及一線電極單元。第二旋轉單元沿一第一軸與第一旋轉單元相對旋轉；線電極單元沿一第二軸與第二旋轉單元相對旋轉。
技術摘要-英文	(空)
聯絡人員	歐峰銘
電話	04-23583993
傳真	04-23584061
電子信箱	ofm@itri.org.tw
參考網址	(空)
備註	20101130-Joanne
特殊情形	(空)
同步更新日期	2019-07-24

序號

5865

產出年度

領域別

(空)

專利名稱-中文

線切割放電加工模組

執行單位

工研院機械所

產出單位

(空)

計畫名稱

放電精細線切割系統技術研究發展三年計畫

專利發明人

歐峰銘 | 梁碩芃 | 黃華志 | 陳宇杰 | 羅佐良

核准國家

中華民國

獲證日期

(空)

證書號碼

I310712

專利期間起

(空)

專利期間訖

(空)

專利性質

發明

技術摘要-中文

一種可實現多向、多方位之線切割放電加工模組，包括一第一旋轉單元、一第二旋轉單元、以及一線電極單元。第二旋轉單元沿一第一軸與第一旋轉單元相對旋轉；線電極單元沿一第二軸與第二旋轉單元相對旋轉。

技術摘要-英文

(空)

聯絡人員

歐峰銘

電話

04-23583993

傳真

04-23584061

電子信箱

ofm@itri.org.tw

參考網址

(空)

備註

20101130-Joanne

特殊情形

(空)

同步更新日期

2019-07-24

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放電線加工方法、系統、以及儲存執行此方法之電腦程式之儲存媒體

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放電線加工方法、系統、以及儲存執行此方法之電腦程式之儲存媒體

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手搖輪脈波產生裝置與方法	核准國家: 中華民國 \| 執行單位: 工研院機械所 \| 產出年度: 99 \| 專利性質: 發明 \| 計畫名稱: 多重直驅馬達旋轉軸技術計畫 \| 專利發明人: 張萬坤 ,劉貴爐 ,林瑞寬 ,高永銘 ,梁世璋 ,江家昇 \| 證書號碼: I322056 @ 經濟部產業技術司–專利資料集
復健機器人之教導式學習控制方法以及該復健機器人	核准國家: 美國 \| 執行單位: 工研院機械所 \| 產出年度: 99 \| 專利性質: 發明 \| 計畫名稱: 多重直驅馬達旋轉軸技術計畫 \| 專利發明人: 張萬坤 ,高永銘 ,梁世璋 ,孫金柱 ,蘇興川 , \| 證書號碼: 7,812,560 @ 經濟部產業技術司–專利資料集
放電加工機節能放電電源	核准國家: 中國大陸 \| 執行單位: 工研院機械所 \| 產出年度: 101 \| 專利性質: 發明 \| 計畫名稱: 工研院中分院區域研發計畫-新世代智能工廠控制系統發展計畫 \| 專利發明人: 陳德訓,林瑞寬,麥朝創,郭晨暉 \| 證書號碼: ZL200810188894.6 @ 經濟部產業技術司–專利資料集
線型馬達高速切削加工機技術	執行單位: 工研院機械所 \| 產出年度: 93 \| 產出單位: \| 計畫名稱: 工研院精密機械與微機電領域環境建構計畫 \| 領域: \| 技術規格: X/Y/Z行程：800×600×500mm X/Y/Z‧??? 最大進給速度：120m/min X/Y/Z‧??? 最大進給加速度：2G‧???主軸最高轉速：24,000rpm \| 潛力預估: 近年來高速切削之相關技術蓬勃發展，其應用範圍已從早期侷限於航太業鋁合金切削擴充至汽車業、模具業、電子業，切削材料除傳統的鋁合金切削外，亦包括鑄鐵、合金鋼、複合材料與高硬度材料。高速切削具有高切削量、低... @ 技術司可移轉技術資料集
次微米平台控制器應用技術	執行單位: 工研院機械所 \| 產出年度: 93 \| 產出單位: \| 計畫名稱: 工研院精密機械與微機電領域環境建構計畫 \| 領域: \| 技術規格: 二軸次微米運動控制系統： ‧ 二軸行程均≧100mm ‧ 載重≧15公斤 ‧ 最小可驅動單位≦0.05μm ‧ 重覆精度≦0.5μm \| 潛力預估: 具備長行程與次微米精度等特性，可應用於微放電加工機、微銑床、微車床、超精密磨床等高精密的CNC加工機上。引領國內業者進入光電、通訊、3C產品與生醫領域等高附加價值的微細加工設備市場。 @ 技術司可移轉技術資料集
視窗基底控制器應用技術	執行單位: 工研院機械所 \| 產出年度: 93 \| 產出單位: \| 計畫名稱: 工研院精密機械與微機電領域環境建構計畫 \| 領域: \| 技術規格: 硬體中斷即時性≦100μsec，預視≧200 blocks， ITRI人機元件， ITRI RT Wrapper，RTX即時應用程式，程式範例，使用手冊。 \| 潛力預估: 目前產業界的競爭很激烈，大家所使用的產品元件幾乎在功能上沒有差異性。因此，要讓產品能得到更高的附加價值，只有將製程及使用的Know-how加入產品設計，並且減少維護成本，以增加獲利。故視窗基底應用技術... @ 技術司可移轉技術資料集
線切割機工件旋轉軸同步控制應用技術	執行單位: 工研院機械所 \| 產出年度: 93 \| 產出單位: \| 計畫名稱: 電腦整合自動化系統技術研究發展四年計畫 \| 領域: \| 技術規格: 旋轉軸同步控制應用技術加工，為利用XYUV與旋轉軸同步控制移動，配合放電切削形成曲面無屑加工方式。 \| 潛力預估: 協助國內WEDM廠商發展智慧型控制器與放電技術，2004年國產CNC 放電加工機產量將達900台，年產值達18億元以上，在市佔率方面逐年成長。本計畫開發具複合化與精度加工性能之線切割放電加工機，並且... @ 技術司可移轉技術資料集
放電加工創成控制器應用技術	執行單位: 工研院機械所 \| 產出年度: 93 \| 產出單位: \| 計畫名稱: 電腦整合自動化系統技術研究發展四年計畫 \| 領域: \| 技術規格: 創成放電加工技術間隙伺服控制、放電軌跡路徑加工控制、3D曲面放電加工控制、自動換電極功能、電極尺寸偵測及補償功能及創成放電電源(ON Time=500ns、Ip=0.5A、9段電容選擇)。 \| 潛力預估: 創成放電加工控制技術便提供3D微細放電加工一種技術解決方案，應用於奈米科技、光電通訊、生醫科技在微細加工零組件或模具的需求，使得整機單價可由80萬元提昇至250萬元。 @ 技術司可移轉技術資料集

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超薄基極矽/矽鍺異質結構雙載子電晶體的製作方法	核准國家: 中華民國 \| 執行單位: 工研院電子所 \| 產出年度: 93 \| 專利性質: 發明 \| 計畫名稱: 工研院通訊與光電領域環境建構計畫 \| 專利發明人: 賴理學, 陳邦旭, 陸新起, 劉致為 \| 證書號碼: 223446
具有不同預傾角架構之半反射半穿透顯示器及其製作方法	核准國家: 中華民國 \| 執行單位: 工研院電子所 \| 產出年度: 93 \| 專利性質: 發明 \| 計畫名稱: 下世代平面顯示關鍵技術發展四年計畫 \| 專利發明人: 廖奇璋, 翁逸君, 劉康弘, 范揚宜 \| 證書號碼: 206598
橫向驅動電場之廣視角液晶顯示器及其製作方法	核准國家: 中華民國 \| 執行單位: 工研院電子所 \| 產出年度: 93 \| 專利性質: 發明 \| 計畫名稱: 下世代平面顯示關鍵技術發展四年計畫 \| 專利發明人: 賴志明, 范揚宜, 許家榮, 陳慶逸 \| 證書號碼: 206589
測試蝕刻速率的結構及方法	核准國家: 中華民國 \| 執行單位: 工研院電子所 \| 產出年度: 93 \| 專利性質: 發明 \| 計畫名稱: 工研院精密機械與微機電領域環境建構計畫 \| 專利發明人: 邱景宏, 顏凱翔, 王欽宏, 梁兆鈞, 陳玉華 \| 證書號碼: 197248
微通道流體導引元件	核准國家: 中華民國 \| 執行單位: 工研院電子所 \| 產出年度: 93 \| 專利性質: 發明 \| 計畫名稱: 工研院創新前瞻技術研究計畫 \| 專利發明人: 夏廷魁, 吳志文, 姚南光, 龐紹華, 郭遠峰 \| 證書號碼: 188284
微通道流體導引元件	核准國家: 美國 \| 執行單位: 工研院電子所 \| 產出年度: 93 \| 專利性質: 發明 \| 計畫名稱: 工研院創新前瞻技術研究計畫 \| 專利發明人: 夏廷魁, 吳志文, 姚南光, 龐紹華, 郭遠峰 \| 證書號碼: 6725882
薄膜電晶體的結構、其製造方法	核准國家: 中華民國 \| 執行單位: 工研院電子所 \| 產出年度: 93 \| 專利性質: 發明 \| 計畫名稱: 下世代平面顯示關鍵技術發展四年計畫 \| 專利發明人: 林炯暐, 葉永輝 \| 證書號碼: 198288
移位暫存器單元及其所組成之移位暫存器電路	核准國家: 中華民國 \| 執行單位: 工研院電子所 \| 產出年度: 93 \| 專利性質: 發明 \| 計畫名稱: 下世代平面顯示關鍵技術發展四年計畫 \| 專利發明人: 施俊任, 陳尚立, 王博文, 林展瑞 \| 證書號碼: 220255
電容屏蔽結構	核准國家: 中華民國 \| 執行單位: 工研院電子所 \| 產出年度: 93 \| 專利性質: 發明 \| 計畫名稱: 電子關鍵性材料與整合模組發展四年計畫 \| 專利發明人: 卓威明, 陳昌昇, 吳俊昆, 魏培森, 翁卿亮, 賴穎俊 \| 證書號碼: 192543
溝槽式金氧半電晶體	核准國家: 中華民國 \| 執行單位: 工研院電子所 \| 產出年度: 93 \| 專利性質: 發明 \| 計畫名稱: 工研院通訊與光電領域環境建構計畫 \| 專利發明人: 許志維, 李永忠, 潘宗銘, 卓言 \| 證書號碼: 202861
有機元件、形成具有分子排列之有機半導體層的方法、以及形成有機元件的方法	核准國家: 中華民國 \| 執行單位: 工研院電子所 \| 產出年度: 93 \| 專利性質: 發明 \| 計畫名稱: 工研院創新前瞻技術研究計畫 \| 專利發明人: 周維揚, 鄭弘隆, 賴志明, 廖奇璋 \| 證書號碼: 200178
直下式背光模組	核准國家: 中華民國 \| 執行單位: 工研院電子所 \| 產出年度: 93 \| 專利性質: 發明 \| 計畫名稱: 下世代平面顯示關鍵技術發展四年計畫 \| 專利發明人: 詹景翔, 蕭名君, 劉康弘, 林偉義 \| 證書號碼: 200905
高密度磁性隨機存取記憶體	核准國家: 中華民國 \| 執行單位: 工研院電子所 \| 產出年度: 93 \| 專利性質: 發明 \| 計畫名稱: 奈米電子關鍵技術四年計畫 \| 專利發明人: 洪建中, 高明哲, 潘宗銘 \| 證書號碼: 198431
高密度磁性隨機存取記憶體	核准國家: 美國 \| 執行單位: 工研院電子所 \| 產出年度: 93 \| 專利性質: 發明 \| 計畫名稱: 奈米電子關鍵技術四年計畫 \| 專利發明人: 洪建中, 高明哲, 潘宗銘 \| 證書號碼: 6757189
改善週期性電極排列引發光繞射效應之結構及液晶顯示裝置	核准國家: 中華民國 \| 執行單位: 工研院電子所 \| 產出年度: 93 \| 專利性質: 發明 \| 計畫名稱: 下世代平面顯示關鍵技術發展四年計畫 \| 專利發明人: 江欣峻, 何璨佑, 許家榮 \| 證書號碼: 189045

線切割放電加工模組 - 經濟部產業技術司–專利資料集 @ 經濟部

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產出年度

領域別

專利名稱-中文

執行單位

產出單位

計畫名稱

專利發明人

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