非相鄰垂直共振腔耦合結構
- 經濟部產業技術司–專利資料集 @ 經濟部

專利名稱-中文非相鄰垂直共振腔耦合結構的核准國家是中華民國, 執行單位是工研院資通所, 產出年度是100, 專利性質是發明, 計畫名稱是資訊與通訊領域環境建構計畫, 專利發明人是莊嘉成,吳瑞北,沈澤旻, 證書號碼是I335101.

序號	8491
產出年度	100
領域別	電資通光
專利名稱-中文	非相鄰垂直共振腔耦合結構
執行單位	工研院資通所
產出單位	工研院資通所
計畫名稱	資訊與通訊領域環境建構計畫
專利發明人	莊嘉成,吳瑞北,沈澤旻
核准國家	中華民國
獲證日期	100/01/07
證書號碼	I335101
專利期間起	99/12/21
專利期間訖	116/06/26
專利性質	發明
技術摘要-中文	一種非相鄰垂直共振腔耦合結構，其至少包括：第一與第二共振腔、介質材料層、至少第一與一第二高頻傳輸線以及至少一連通柱。第一與第二共振腔分別具有彼此相對的第一與第二金屬表面，其中第一與第二共振腔的各第二金屬表面彼此相對配置。介質材料層位在第一與第二共振腔的各第二金屬表面之間。第一高頻傳輸線配置在對應該第一共振腔的第一表面的其中一側邊緣，並且第二高頻傳輸線配置在對應第二共振腔的第一表面的其中一側邊緣，連通柱則垂直地連接該第一與該第二高頻傳輸線。
技術摘要-英文	(空)
聯絡人員	李露蘋
電話	03-59117812
傳真	03-5917431
電子信箱	oralp@itri.org.tw
參考網址	http://www.patentportfolio.itri.org.tw
備註	(空)
特殊情形	(空)
同步更新日期	2019-07-24

序號

8491

產出年度

100

領域別

電資通光

專利名稱-中文

非相鄰垂直共振腔耦合結構

執行單位

工研院資通所

產出單位

工研院資通所

計畫名稱

資訊與通訊領域環境建構計畫

專利發明人

莊嘉成,吳瑞北,沈澤旻

核准國家

中華民國

獲證日期

100/01/07

證書號碼

I335101

專利期間起

99/12/21

專利期間訖

116/06/26

專利性質

發明

技術摘要-中文

一種非相鄰垂直共振腔耦合結構，其至少包括：第一與第二共振腔、介質材料層、至少第一與一第二高頻傳輸線以及至少一連通柱。第一與第二共振腔分別具有彼此相對的第一與第二金屬表面，其中第一與第二共振腔的各第二金屬表面彼此相對配置。介質材料層位在第一與第二共振腔的各第二金屬表面之間。第一高頻傳輸線配置在對應該第一共振腔的第一表面的其中一側邊緣，並且第二高頻傳輸線配置在對應第二共振腔的第一表面的其中一側邊緣，連通柱則垂直地連接該第一與該第二高頻傳輸線。

技術摘要-英文

(空)

聯絡人員

李露蘋

電話

03-59117812

傳真

03-5917431

電子信箱

oralp@itri.org.tw

參考網址

http://www.patentportfolio.itri.org.tw

備註

(空)

特殊情形

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同步更新日期

2019-07-24

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非相鄰垂直共振腔耦合結構	核准國家: 美國 \| 執行單位: 工研院資通所 \| 產出年度: 100 \| 專利性質: 發明 \| 計畫名稱: 資訊與通訊領域環境建構計畫 \| 專利發明人: 莊嘉成,吳瑞北,沈澤旻 \| 證書號碼: 7,877,855 @ 經濟部產業技術司–專利資料集
非相鄰垂直共振腔耦合結構	核准國家: 美國 \| 執行單位: 工研院資通所 \| 產出年度: 100 \| 專利性質: 發明 \| 計畫名稱: 資訊與通訊領域環境建構計畫 \| 專利發明人: 莊嘉成,吳瑞北,沈澤旻 \| 證書號碼: 7,872,550 @ 經濟部產業技術司–專利資料集
非相鄰垂直共振腔耦合結構	核准國家: 中國大陸 \| 執行單位: 工研院院本部 \| 產出年度: 101 \| 專利性質: 發明 \| 計畫名稱: 工研院環境建構總計畫 \| 專利發明人: 莊嘉成,吳瑞北,沈澤旻, \| 證書號碼: ZL200710137360.6 @ 經濟部產業技術司–專利資料集
非相鄰垂直共振腔耦合結構	核准國家: 美國 \| 執行單位: 工研院資通所 \| 產出年度: 99 \| 專利性質: 發明 \| 計畫名稱: 資訊與通訊領域環境建構計畫 \| 專利發明人: 莊嘉成, 吳瑞北, 沈澤旻 \| 證書號碼: 7,675,391 @ 經濟部產業技術司–專利資料集

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透過對話回合間內文關係來減少辨識錯誤的裝置與方法	核准國家: 中華民國 \| 執行單位: 工研院資通所 \| 產出年度: 99 \| 專利性質: 發明 \| 計畫名稱: 資訊與通訊領域環境建構計畫 \| 專利發明人: 吳旭智, 李青憲 \| 證書號碼: I321313 @ 經濟部產業技術司–專利資料集
植入奈米碳管之製程方法	核准國家: 中華民國 \| 執行單位: 工研院南分院 \| 產出年度: 99 \| 專利性質: 發明 \| 計畫名稱: 軟性電子設備及模組技術開發三年計畫 \| 專利發明人: 廖仕傑 ,陳輝達 , \| 證書號碼: I321123 @ 經濟部產業技術司–專利資料集
多執行緒程式之電源閘控方法以及電源閘控系統	核准國家: 美國 \| 執行單位: 工研院資通所 \| 產出年度: 100 \| 專利性質: 發明 \| 計畫名稱: 智慧感測網路技術與服務發展計畫 \| 專利發明人: 游逸平,李政崑,莊國煜,吳宗憲 \| 證書號碼: 7,904,736 @ 經濟部產業技術司–專利資料集
互動式顯示系統	核准國家: 美國 \| 執行單位: 工研院資訊中心 \| 產出年度: 100 \| 專利性質: 發明 \| 計畫名稱: 智慧感測網路技術與服務發展計畫 \| 專利發明人: 林盈孜,蕭詠今,陳右凱,李森,楊博智 \| 證書號碼: 7,916,129 @ 經濟部產業技術司–專利資料集
無線環境下定位系統的新取樣點決定方法	核准國家: 中華民國 \| 執行單位: 工研院資通所 \| 產出年度: 99 \| 專利性質: 發明 \| 計畫名稱: 智慧感測網路技術與服務發展計畫 \| 專利發明人: 徐銘駿, 崔文, 陳昭男 \| 證書號碼: I321928 @ 經濟部產業技術司–專利資料集
通訊網路下之行動管理方法及裝置	核准國家: 中華民國 \| 執行單位: 工研院資通所 \| 產出年度: 99 \| 專利性質: 發明 \| 計畫名稱: 新世代行動通訊技術發展計畫 \| 專利發明人: 江為國, 何哲勳, 許建昌 \| 證書號碼: I321411 @ 經濟部產業技術司–專利資料集
靜電放電防護電路	核准國家: 美國 \| 執行單位: 工研院資通所 \| 產出年度: 99 \| 專利性質: 發明 \| 計畫名稱: 資訊與通訊領域環境建構計畫 \| 專利發明人: 陳世宏, 柯明道 \| 證書號碼: 7,692,907 @ 經濟部產業技術司–專利資料集
直流偏移消除電路	核准國家: 中華民國 \| 執行單位: 工研院資通所 \| 產出年度: 99 \| 專利性質: 發明 \| 計畫名稱: WiMAX個人行動數位機關鍵技術發展四年計畫 \| 專利發明人: 高小文 \| 證書號碼: I320993 @ 經濟部產業技術司–專利資料集

透過對話回合間內文關係來減少辨識錯誤的裝置與方法

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植入奈米碳管之製程方法

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多執行緒程式之電源閘控方法以及電源閘控系統

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互動式顯示系統

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無線環境下定位系統的新取樣點決定方法

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通訊網路下之行動管理方法及裝置

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直流偏移消除電路

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多層薄盤壓電致動式超音波馬達	核准國家: 美國 \| 執行單位: 工研院光電所 \| 產出年度: 93 \| 專利性質: 發明 \| 計畫名稱: 工研院創新前瞻技術研究計畫 \| 專利發明人: 藍永松, 黃晉興, 張吉龍, 歐陽敏盛, 黃友謙, 游祥杰, 黃振源, 鄭尊仁, 朱朝居 \| 證書號碼: 6,717,331
近場光學頭物鏡	核准國家: 中華民國 \| 執行單位: 工研院光電所 \| 產出年度: 93 \| 專利性質: 發明 \| 計畫名稱: 工研院創新前瞻技術研究計畫 \| 專利發明人: 李源欽, 朱朝居, 鄭尊仁, 廖文毅, 張吉龍, 朱志雄, 邱國基, 吳至原 \| 證書號碼: 202513
多層膜碟片膜層分離裝置	核准國家: 中華民國 \| 執行單位: 工研院光電所 \| 產出年度: 93 \| 專利性質: 發明 \| 計畫名稱: 工研院創新前瞻技術研究計畫 \| 專利發明人: 張朝信, 郭利德, 馬榮昌, 張裕修 \| 證書號碼: 187272
多層膜碟片膜層分離裝置	核准國家: 美國 \| 執行單位: 工研院光電所 \| 產出年度: 93 \| 專利性質: 發明 \| 計畫名稱: 工研院創新前瞻技術研究計畫 \| 專利發明人: 張朝信, 郭利德, 馬榮昌, 張裕修 \| 證書號碼: 6,668,894
多層膜資訊儲存媒體之製作方法	核准國家: 中華民國 \| 執行單位: 工研院光電所 \| 產出年度: 93 \| 專利性質: 發明 \| 計畫名稱: 工研院創新前瞻技術研究計畫 \| 專利發明人: 楊惠雯, 廖文毅, 鄭尊仁, 黃建喨, 黃得瑞, 鄭懷瑜 \| 證書號碼: 190370
多層膜資訊儲存媒體之製作方法	核准國家: 美國 \| 執行單位: 工研院光電所 \| 產出年度: 93 \| 專利性質: 發明 \| 計畫名稱: 工研院創新前瞻技術研究計畫 \| 專利發明人: 楊惠雯, 廖文毅, 鄭尊仁, 黃建喨, 黃得瑞, 鄭懷瑜 \| 證書號碼: 6,797,090
多層膜可蓋寫型資訊儲存媒體	核准國家: 中華民國 \| 執行單位: 工研院光電所 \| 產出年度: 93 \| 專利性質: 發明 \| 計畫名稱: 工研院創新前瞻技術研究計畫 \| 專利發明人: 林志銘, 廖文毅, 鄭尊仁, 顏文信, 楊惠雯 \| 證書號碼: 197221
氧化侷限型之垂直共振腔面射型雷射元件及其製造方法	核准國家: 中華民國 \| 執行單位: 工研院光電所 \| 產出年度: 93 \| 專利性質: 發明 \| 計畫名稱: 工研院創新前瞻技術研究計畫 \| 專利發明人: 江文章, 宋嘉斌, 楊泓斌, 尤信介 \| 證書號碼: 192770
矽晶基板之微小反射鏡加工法	核准國家: 美國 \| 執行單位: 工研院光電所 \| 產出年度: 93 \| 專利性質: 發明 \| 計畫名稱: 工研院創新前瞻技術研究計畫 \| 專利發明人: 蘇忠傑 \| 證書號碼: 6,695,455
次微米解析度光學同調斷層攝影技術	核准國家: 中華民國 \| 執行單位: 工研院光電所 \| 產出年度: 93 \| 專利性質: 發明 \| 計畫名稱: 工研院創新前瞻技術研究計畫 \| 專利發明人: 孫啟光 \| 證書號碼: I223719
被動式電激發光二極體陣列的驅動方法	核准國家: 中華民國 \| 執行單位: 工研院光電所 \| 產出年度: 93 \| 專利性質: 發明 \| 計畫名稱: 工研院創新前瞻技術研究計畫 \| 專利發明人: 何貫睿 \| 證書號碼: 190526
基於動態影像壓縮標準之階層式物件切割法	核准國家: 中華民國 \| 執行單位: 工研院光電所 \| 產出年度: 93 \| 專利性質: 發明 \| 計畫名稱: 工研院創新前瞻技術研究計畫 \| 專利發明人: 甘敏成, 郭鐘榮, 吳國瑞, 蔡孟翰 \| 證書號碼: 188953
位相差式防偽方法	核准國家: 美國 \| 執行單位: 工研院光電所 \| 產出年度: 93 \| 專利性質: 發明 \| 計畫名稱: 工研院創新前瞻技術研究計畫 \| 專利發明人: 王迺岳, 蔡朝旭 \| 證書號碼: 6,667,797
微透鏡之製作方法及其製造裝置	核准國家: 中華民國 \| 執行單位: 工研院光電所 \| 產出年度: 93 \| 專利性質: 發明 \| 計畫名稱: 工研院創新前瞻技術研究計畫 \| 專利發明人: 陳錦泰 \| 證書號碼: I224210
噴墨頭晶片封裝結構及其製造方法	核准國家: 中華民國 \| 執行單位: 工研院光電所 \| 產出年度: 93 \| 專利性質: 發明 \| 計畫名稱: 工研院創新前瞻技術研究計畫 \| 專利發明人: 許法源, 胡紀平 \| 證書號碼: 195329

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