微透鏡之製作方法及其製造裝置
- 經濟部產業技術司–專利資料集 @ 經濟部

專利名稱-中文微透鏡之製作方法及其製造裝置的核准國家是中華民國, 執行單位是工研院光電所, 產出年度是93, 專利性質是發明, 計畫名稱是工研院創新前瞻技術研究計畫, 專利發明人是陳錦泰, 證書號碼是I224210.

序號	432
產出年度	93
領域別	(空)
專利名稱-中文	微透鏡之製作方法及其製造裝置
執行單位	工研院光電所
產出單位	(空)
計畫名稱	工研院創新前瞻技術研究計畫
專利發明人	陳錦泰
核准國家	中華民國
獲證日期	(空)
證書號碼	I224210
專利期間起	(空)
專利期間訖	(空)
專利性質	發明
技術摘要-中文	本發明提供一種微透鏡之製作方法。上述方法包括提供一媒介基底。接著，形成一薄膜於該媒介基底上並圖案化該薄膜，以形成具微透鏡圖案之一無(有)薄膜區域在該媒介基底上。然後，進行微流體佈著步驟，將一微流體佈著於該無(有)薄膜區域，以形成一微透鏡物件。
技術摘要-英文	(空)
聯絡人員	鄭必章
電話	(06)5089053
傳真	(空)
電子信箱	chengbicha@itri.org.tw
參考網址	http://www.itri.org.tw
備註	原領域別為通訊光電，95年改為電資通光
特殊情形	(空)
同步更新日期	2023-07-05

序號

432

產出年度

領域別

(空)

專利名稱-中文

微透鏡之製作方法及其製造裝置

執行單位

工研院光電所

產出單位

(空)

計畫名稱

工研院創新前瞻技術研究計畫

專利發明人

陳錦泰

核准國家

中華民國

獲證日期

(空)

證書號碼

I224210

專利期間起

(空)

專利期間訖

(空)

專利性質

發明

技術摘要-中文

本發明提供一種微透鏡之製作方法。上述方法包括提供一媒介基底。接著，形成一薄膜於該媒介基底上並圖案化該薄膜，以形成具微透鏡圖案之一無(有)薄膜區域在該媒介基底上。然後，進行微流體佈著步驟，將一微流體佈著於該無(有)薄膜區域，以形成一微透鏡物件。

技術摘要-英文

(空)

聯絡人員

鄭必章

電話

(06)5089053

傳真

(空)

電子信箱

chengbicha@itri.org.tw

參考網址

http://www.itri.org.tw

備註

原領域別為通訊光電，95年改為電資通光

特殊情形

(空)

同步更新日期

2023-07-05

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液晶顯示器的彩色濾光片	核准國家: 中華民國 \| 執行單位: 工研院光電所 \| 產出年度: 93 \| 專利性質: 發明 \| 計畫名稱: 工研院通訊與光電領域環境建構計畫 \| 專利發明人: 呂春福, 謝玉凌, 陳錦泰 \| 證書號碼: 196458 @ 經濟部產業技術司–專利資料集
液晶顯示器的彩色濾光片	核准國家: 美國 \| 執行單位: 工研院光電所 \| 產出年度: 93 \| 專利性質: 發明 \| 計畫名稱: 工研院通訊與光電領域環境建構計畫 \| 專利發明人: 呂春福, 謝玉凌, 陳錦泰 \| 證書號碼: 6,703,173 @ 經濟部產業技術司–專利資料集
噴墨頭墨水壓力控制裝置	核准國家: 中國大陸 \| 執行單位: 工研院光電所 \| 產出年度: 93 \| 專利性質: 發明 \| 計畫名稱: 下世代光資訊系統技術發展五年計畫 \| 專利發明人: 謝樹崢, 蘇士豪, 許成偉, 陳錦泰, 侯怡仲, 王介文 \| 證書號碼: ZL00100898.6 @ 經濟部產業技術司–專利資料集
微流體製作透鏡及其交錯式佈著之方法	核准國家: 中國大陸 \| 執行單位: 工研院院本部 \| 產出年度: 95 \| 專利性質: 發明 \| 計畫名稱: 工研院創新前瞻技術研究計畫 \| 專利發明人: 陳錦泰 \| 證書號碼: ZL03146486.6 @ 經濟部產業技術司–專利資料集
微型圖像的製作方法	核准國家: 中華民國 \| 執行單位: 工研院南分院 \| 產出年度: 97 \| 專利性質: 發明 \| 計畫名稱: 雷射創新應用技術關鍵計畫 \| 專利發明人: 陳錦泰邱慶龍洪基彬 \| 證書號碼: I294529 @ 經濟部產業技術司–專利資料集
微光學元件製作方法及其製作裝置	核准國家: 中華民國 \| 執行單位: 工研院南分院 \| 產出年度: 97 \| 專利性質: 發明 \| 計畫名稱: 雷射創新應用技術關鍵計畫 \| 專利發明人: 陳錦泰邱慶龍莊俊德曾昭富 \| 證書號碼: I294402 @ 經濟部產業技術司–專利資料集
輪廓量測方法與裝置	核准國家: 中華民國 \| 執行單位: 工研院南分院 \| 產出年度: 98 \| 專利性質: 發明 \| 計畫名稱: 雷射創新應用技術關鍵計畫 \| 專利發明人: 莊俊德 ,陳錦泰 , \| 證書號碼: I313346 @ 經濟部產業技術司–專利資料集
可即時噴藥治療及生化參數偵測之膠囊型內視鏡	核准國家: 中華民國 \| 執行單位: 工研院院本部 \| 產出年度: 98 \| 專利性質: 發明 \| 計畫名稱: 工研院創新前瞻技術研究計畫 \| 專利發明人: 邱慶龍 ,陳錦泰 ,曾昭富 , \| 證書號碼: I311908 @ 經濟部產業技術司–專利資料集

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# 06 5089053 於經濟部產業技術司–可移轉技術資料集 - 1

序號	1215
產出年度	94
技術名稱-中文	噴墨法彩色濾光片
執行單位	工研院光電所
產出單位	(空)
計畫名稱	工研院電子資訊與通訊光電領域環境建構計畫
領域	(空)
已申請專利之國家	(空)
已獲得專利之國家	(空)
技術現況敘述-中文	本技術主要為利用噴墨方式，取代傳統的旋轉塗佈方法，將RGB彩色顏料溶液噴塗於玻璃基板上，再經由固化與平坦化製程，完成彩色濾光片的製作，突破現有製程的長製程、低顏料使用率等缺點，與傳統方法比較，此噴墨法可大幅降低設備成本、減少廢液與光阻材料成本、製程簡化為顏料分散法的1/3。具Water-base pigment ink完整驗証、CIE座標可達NTSC 60%以上、Pixel reolution 15” XGA standard、Pixel Size 279Nm×93Nm(each color)。
技術現況敘述-英文	(空)
技術規格	像素大小：pitch 0.110mm×0.110mm或customer _x000D_design。顏色：RGB三色。耐熱性：250℃×1hr。耐化性：5% KOH, 40℃×10min; Acetone, 20℃×_x000D_30min; NMP, 20℃×30min。膜厚均勻值為1um±0.2um (customer-design)。穿透率：大於80%。
技術成熟度	(空)
可應用範圍	TFT LCD Color Filter、STN LCD Color Filter、PLED(Polymer LED)、OLED(Organic LED)等平面顯示器產業應用。
潛力預估	噴墨法彩色濾光片製程/噴墨頭設計/設備整合技術，建立國內新一代科技技術自主開發能力，更可大幅降低耗材使用量。
聯絡人員	鄭必章
電話	06-5089053
傳真	06-5089059
電子信箱	Chengbicha@itri.org.tw
參考網址	http://www.itri.org.tw/
所須軟硬體設備	有意願投入噴印技術之顯示器相關廠商。
需具備之專業人才	有意願投入噴印技術之顯示器相關廠商。

序號: 1215

產出年度: 94

技術名稱-中文: 噴墨法彩色濾光片

執行單位: 工研院光電所

產出單位: (空)

計畫名稱: 工研院電子資訊與通訊光電領域環境建構計畫

領域: (空)

已申請專利之國家: (空)

已獲得專利之國家: (空)

技術現況敘述-中文: 本技術主要為利用噴墨方式，取代傳統的旋轉塗佈方法，將RGB彩色顏料溶液噴塗於玻璃基板上，再經由固化與平坦化製程，完成彩色濾光片的製作，突破現有製程的長製程、低顏料使用率等缺點，與傳統方法比較，此噴墨法可大幅降低設備成本、減少廢液與光阻材料成本、製程簡化為顏料分散法的1/3。具Water-base pigment ink完整驗証、CIE座標可達NTSC 60%以上、Pixel reolution 15” XGA standard、Pixel Size 279Nm×93Nm(each color)。

技術現況敘述-英文: (空)

技術規格: 像素大小：pitch 0.110mm×0.110mm或customer _x000D_design。顏色：RGB三色。耐熱性：250℃×1hr。耐化性：5% KOH, 40℃×10min; Acetone, 20℃×_x000D_30min; NMP, 20℃×30min。膜厚均勻值為1um±0.2um (customer-design)。穿透率：大於80%。

技術成熟度: (空)

可應用範圍: TFT LCD Color Filter、STN LCD Color Filter、PLED(Polymer LED)、OLED(Organic LED)等平面顯示器產業應用。

潛力預估: 噴墨法彩色濾光片製程/噴墨頭設計/設備整合技術，建立國內新一代科技技術自主開發能力，更可大幅降低耗材使用量。

聯絡人員: 鄭必章

電話: 06-5089053

傳真: 06-5089059

電子信箱: Chengbicha@itri.org.tw

參考網址: http://www.itri.org.tw/

所須軟硬體設備: 有意願投入噴印技術之顯示器相關廠商。

需具備之專業人才: 有意願投入噴印技術之顯示器相關廠商。

# 06 5089053 於經濟部產業技術司–可移轉技術資料集 - 2

序號	1209
產出年度	94
技術名稱-中文	動壓HD-DVD主軸馬達技術
執行單位	工研院光電所
產出單位	(空)
計畫名稱	前瞻光資訊系統技術發展計畫
領域	(空)
已申請專利之國家	(空)
已獲得專利之國家	(空)
技術現況敘述-中文	(空)
技術現況敘述-英文	(空)
技術規格	馬達型式：三相直流無刷_x000D_；直徑≦30mm_x000D_；高度≦22mm_x000D_；額定電壓：12VDC_x000D_；額定電流≦0.16Amp；最大負載轉速>5000 rpm@0.6g-cm Disk_x000D_；Turntable Runout≦5 μm_x000D_
技術成熟度	其他
可應用範圍	HD-DVD主軸馬達_x000D_、光碟機主軸馬達_x000D_、HDD主軸馬達_x000D_、MPU＆CPU風扇馬達_x000D_、中、高速polygon馬達_x000D_
潛力預估	(空)
聯絡人員	鄭必章
電話	06-5089053
傳真	06-5089059
電子信箱	Chengbicha@itri.org.tw
參考網址	http://www.itri.org.tw/
所須軟硬體設備	(空)
需具備之專業人才	具影像處理基本知識、具系統整合能力

序號: 1209

產出年度: 94

技術名稱-中文: 動壓HD-DVD主軸馬達技術

執行單位: 工研院光電所

產出單位: (空)

計畫名稱: 前瞻光資訊系統技術發展計畫

領域: (空)

已申請專利之國家: (空)

已獲得專利之國家: (空)

技術現況敘述-中文: (空)

技術現況敘述-英文: (空)

技術規格: 馬達型式：三相直流無刷_x000D_；直徑≦30mm_x000D_；高度≦22mm_x000D_；額定電壓：12VDC_x000D_；額定電流≦0.16Amp；最大負載轉速>5000 rpm@0.6g-cm Disk_x000D_；Turntable Runout≦5 μm_x000D_

技術成熟度: 其他

可應用範圍: HD-DVD主軸馬達_x000D_、光碟機主軸馬達_x000D_、HDD主軸馬達_x000D_、MPU＆CPU風扇馬達_x000D_、中、高速polygon馬達_x000D_

潛力預估: (空)

聯絡人員: 鄭必章

電話: 06-5089053

傳真: 06-5089059

電子信箱: Chengbicha@itri.org.tw

參考網址: http://www.itri.org.tw/

所須軟硬體設備: (空)

需具備之專業人才: 具影像處理基本知識、具系統整合能力

# 06 5089053 於經濟部產業技術司–可移轉技術資料集 - 3

序號	1210
產出年度	94
技術名稱-中文	Slim Type 動壓主軸馬達技術
執行單位	工研院光電所
產出單位	(空)
計畫名稱	前瞻光資訊系統技術發展計畫
領域	(空)
已申請專利之國家	(空)
已獲得專利之國家	(空)
技術現況敘述-中文	關鍵技術：1.動壓軸承動壓溝槽參數設計_x000D_2.動壓溝槽檢測技術_x000D_3.低頓轉扭矩之磁路設計技術_x000D_；優異特性：1.Turntable Runout≦20 μm _x000D_2.Tilt ≦6分_x000D_
技術現況敘述-英文	(空)
技術規格	馬達型式：三相直流無刷_x000D_；直徑≦30mm_x000D_；高度≦6.1mm_x000D_；額定電壓：5VDC_x000D_；額定電流≦0.6Amp_x000D_；最大負載轉速>5000 rpm@0.6g-cm Disk_x000D_；Turntable Runout≦20 μm _x000D_；Tilt ≦6分_x000D_
技術成熟度	其他
可應用範圍	NB DVD主軸馬達_x000D_、NB 光碟機主軸馬達_x000D_、HDD主軸馬達_x000D_、MPU＆CPU風扇馬達_x000D_、中、高速polygon馬達_x000D_
潛力預估	(空)
聯絡人員	鄭必章
電話	06-5089053
傳真	06-5089059
電子信箱	Chengbicha@itri.org.tw
參考網址	http://www.itri.org.tw/
所須軟硬體設備	(空)
需具備之專業人才	具影像處理基本知識、具系統整合能力

序號: 1210

產出年度: 94

技術名稱-中文: Slim Type 動壓主軸馬達技術

執行單位: 工研院光電所

產出單位: (空)

計畫名稱: 前瞻光資訊系統技術發展計畫

領域: (空)

已申請專利之國家: (空)

已獲得專利之國家: (空)

技術現況敘述-中文: 關鍵技術：1.動壓軸承動壓溝槽參數設計_x000D_2.動壓溝槽檢測技術_x000D_3.低頓轉扭矩之磁路設計技術_x000D_；優異特性：1.Turntable Runout≦20 μm _x000D_2.Tilt ≦6分_x000D_

技術現況敘述-英文: (空)

技術規格: 馬達型式：三相直流無刷_x000D_；直徑≦30mm_x000D_；高度≦6.1mm_x000D_；額定電壓：5VDC_x000D_；額定電流≦0.6Amp_x000D_；最大負載轉速>5000 rpm@0.6g-cm Disk_x000D_；Turntable Runout≦20 μm _x000D_；Tilt ≦6分_x000D_

技術成熟度: 其他

可應用範圍: NB DVD主軸馬達_x000D_、NB 光碟機主軸馬達_x000D_、HDD主軸馬達_x000D_、MPU＆CPU風扇馬達_x000D_、中、高速polygon馬達_x000D_

潛力預估: (空)

聯絡人員: 鄭必章

電話: 06-5089053

傳真: 06-5089059

電子信箱: Chengbicha@itri.org.tw

參考網址: http://www.itri.org.tw/

所須軟硬體設備: (空)

需具備之專業人才: 具影像處理基本知識、具系統整合能力

# 06 5089053 於經濟部產業技術司–可移轉技術資料集 - 4

序號	1211
產出年度	94
技術名稱-中文	磁性編碼器模組技術
執行單位	工研院光電所
產出單位	(空)
計畫名稱	前瞻光資訊系統技術發展計畫
領域	(空)
已申請專利之國家	(空)
已獲得專利之國家	(空)
技術現況敘述-中文	(空)
技術現況敘述-英文	(空)
技術規格	環型：直徑Φ20~Φ50mm、Zero close pole pitch可為100μm~1000μm、量測距離為10μm，磁場強度可達60~100Gauss、Pole Pitch 500±10μm應用於磁性編碼器。直線型：_x000D_充磁長度可達10~20mm、zero close pole pitch可為100μm~1000μm_x000D_、量測距離為30μm，磁場強度可達100~150Gauss、Pole Pitch 880±10μm應用於數位相機。_x000D_
技術成熟度	其他
可應用範圍	數位相機/攝錄影機變焦鏡頭_x000D_、小型精密平台定位元件模組_x000D_、微小型4C產品元件模組_x000D_
潛力預估	(空)
聯絡人員	鄭必章
電話	06-5089053
傳真	06-5089059
電子信箱	Chengbicha@itri.org.tw
參考網址	http://www.itri.org.tw/
所須軟硬體設備	(空)
需具備之專業人才	具影像處理基本知識、具系統整合能力

序號: 1211

產出年度: 94

技術名稱-中文: 磁性編碼器模組技術

執行單位: 工研院光電所

產出單位: (空)

計畫名稱: 前瞻光資訊系統技術發展計畫

領域: (空)

已申請專利之國家: (空)

已獲得專利之國家: (空)

技術現況敘述-中文: (空)

技術現況敘述-英文: (空)

技術規格: 環型：直徑Φ20~Φ50mm、Zero close pole pitch可為100μm~1000μm、量測距離為10μm，磁場強度可達60~100Gauss、Pole Pitch 500±10μm應用於磁性編碼器。直線型：_x000D_充磁長度可達10~20mm、zero close pole pitch可為100μm~1000μm_x000D_、量測距離為30μm，磁場強度可達100~150Gauss、Pole Pitch 880±10μm應用於數位相機。_x000D_

技術成熟度: 其他

可應用範圍: 數位相機/攝錄影機變焦鏡頭_x000D_、小型精密平台定位元件模組_x000D_、微小型4C產品元件模組_x000D_

潛力預估: (空)

聯絡人員: 鄭必章

電話: 06-5089053

傳真: 06-5089059

電子信箱: Chengbicha@itri.org.tw

參考網址: http://www.itri.org.tw/

所須軟硬體設備: (空)

需具備之專業人才: 具影像處理基本知識、具系統整合能力

# 06 5089053 於經濟部產業技術司–可移轉技術資料集 - 5

序號	1212
產出年度	94
技術名稱-中文	離子輔助蒸鍍低溫製程技術
執行單位	工研院光電所
產出單位	(空)
計畫名稱	光通訊與光電元組件關鍵性技術發展四年計畫
領域	(空)
已申請專利之國家	(空)
已獲得專利之國家	(空)
技術現況敘述-中文	低溫製程；溫度控制技術旋轉機制_x000D_；冷卻技術；同時具備旋轉與水冷卻功能
技術現況敘述-英文	(空)
技術規格	低溫製程(製程溫度約700°C)
技術成熟度	其他
可應用範圍	Batch式低溫製程鍍膜機製造；連續式低溫製程鍍膜機製造_x000D_；塑膠基板鍍膜_x000D_；可撓式薄膜基板、紙類鍍膜
潛力預估	(空)
聯絡人員	鄭必章
電話	06-5089053
傳真	06-5089059
電子信箱	Chengbicha@itri.org.tw
參考網址	http://www.itri.org.tw/
所須軟硬體設備	one
需具備之專業人才	one

序號: 1212

產出年度: 94

技術名稱-中文: 離子輔助蒸鍍低溫製程技術

執行單位: 工研院光電所

產出單位: (空)

計畫名稱: 光通訊與光電元組件關鍵性技術發展四年計畫

領域: (空)

已申請專利之國家: (空)

已獲得專利之國家: (空)

技術現況敘述-中文: 低溫製程；溫度控制技術旋轉機制_x000D_；冷卻技術；同時具備旋轉與水冷卻功能

技術現況敘述-英文: (空)

技術規格: 低溫製程(製程溫度約700°C)

技術成熟度: 其他

可應用範圍: Batch式低溫製程鍍膜機製造；連續式低溫製程鍍膜機製造_x000D_；塑膠基板鍍膜_x000D_；可撓式薄膜基板、紙類鍍膜

潛力預估: (空)

聯絡人員: 鄭必章

電話: 06-5089053

傳真: 06-5089059

電子信箱: Chengbicha@itri.org.tw

參考網址: http://www.itri.org.tw/

所須軟硬體設備: one

需具備之專業人才: one

# 06 5089053 於經濟部產業技術司–可移轉技術資料集 - 6

序號	1213
產出年度	94
技術名稱-中文	即時描繪軟體開發平台
執行單位	工研院光電所
產出單位	(空)
計畫名稱	數位學習技術研發五年計畫
領域	(空)
已申請專利之國家	(空)
已獲得專利之國家	(空)
技術現況敘述-中文	(空)
技術現況敘述-英文	(空)
技術規格	(空)
技術成熟度	其他
可應用範圍	(空)
潛力預估	(空)
聯絡人員	鄭必章
電話	06-5089053
傳真	06-5089059
電子信箱	Chengbicha@itri.org.tw
參考網址	http://www.itri.org.tw/
所須軟硬體設備	Rigid Body / Skinning 動作資料播放。 3DS, VRML97, DirectX檔案匯入。_x000D_OpenGL 1.4+ 描繪引擎。
需具備之專業人才	需要在短時間內開發多種類型的模擬或遊戲的軟硬體開發廠商。缺乏研發人力的育樂內容提供廠商。電腦圖學研究人員_x000D_

序號: 1213

產出年度: 94

技術名稱-中文: 即時描繪軟體開發平台

執行單位: 工研院光電所

產出單位: (空)

計畫名稱: 數位學習技術研發五年計畫

領域: (空)

已申請專利之國家: (空)

已獲得專利之國家: (空)

技術現況敘述-中文: (空)

技術現況敘述-英文: (空)

技術規格: (空)

技術成熟度: 其他

可應用範圍: (空)

潛力預估: (空)

聯絡人員: 鄭必章

電話: 06-5089053

傳真: 06-5089059

電子信箱: Chengbicha@itri.org.tw

參考網址: http://www.itri.org.tw/

所須軟硬體設備: Rigid Body / Skinning 動作資料播放。 3DS, VRML97, DirectX檔案匯入。_x000D_OpenGL 1.4+ 描繪引擎。

需具備之專業人才: 需要在短時間內開發多種類型的模擬或遊戲的軟硬體開發廠商。缺乏研發人力的育樂內容提供廠商。電腦圖學研究人員_x000D_

# 06 5089053 於經濟部產業技術司–可移轉技術資料集 - 7

序號	1214
產出年度	94
技術名稱-中文	噴墨法立體微透鏡製程技術
執行單位	工研院光電所
產出單位	(空)
計畫名稱	工研院電子資訊與通訊光電領域環境建構計畫
領域	(空)
已申請專利之國家	(空)
已獲得專利之國家	(空)
技術現況敘述-中文	(空)
技術現況敘述-英文	(空)
技術規格	Base Diameter: 100~1500 m_x000D_、 Radius(R): 60~1200 m_x000D_、 Focal Length(f): 110~1600 m、 Lens thickness(t): 50~300 m_x000D_ 、 Pitch: 300 m
技術成熟度	其他
可應用範圍	光纖用準直微透鏡_x000D_、立體相片、影像感測器鏡頭、光碟機讀取頭pickup le
潛力預估	(空)
聯絡人員	鄭必章
電話	06-5089053
傳真	06-5089059
電子信箱	Chengbicha@itri.org.tw
參考網址	http://www.itri.org.tw/
所須軟硬體設備	(空)
需具備之專業人才	需要在短時間內開發多種類型的模擬或遊戲的軟硬體開發廠商。缺乏研發人力的育樂內容提供廠商。電腦圖學研究人員_x000D_

序號: 1214

產出年度: 94

技術名稱-中文: 噴墨法立體微透鏡製程技術

執行單位: 工研院光電所

產出單位: (空)

計畫名稱: 工研院電子資訊與通訊光電領域環境建構計畫

領域: (空)

已申請專利之國家: (空)

已獲得專利之國家: (空)

技術現況敘述-中文: (空)

技術現況敘述-英文: (空)

技術規格: Base Diameter: 100~1500 m_x000D_、 Radius(R): 60~1200 m_x000D_、 Focal Length(f): 110~1600 m、 Lens thickness(t): 50~300 m_x000D_ 、 Pitch: 300 m

技術成熟度: 其他

可應用範圍: 光纖用準直微透鏡_x000D_、立體相片、影像感測器鏡頭、光碟機讀取頭pickup le

潛力預估: (空)

聯絡人員: 鄭必章

電話: 06-5089053

傳真: 06-5089059

電子信箱: Chengbicha@itri.org.tw

參考網址: http://www.itri.org.tw/

所須軟硬體設備: (空)

需具備之專業人才: 需要在短時間內開發多種類型的模擬或遊戲的軟硬體開發廠商。缺乏研發人力的育樂內容提供廠商。電腦圖學研究人員_x000D_

# 06 5089053 於經濟部產業技術司–可移轉技術資料集 - 8

序號	1216
產出年度	94
技術名稱-中文	雷射耦合器
執行單位	工研院光電所
產出單位	(空)
計畫名稱	光通訊與光電元組件關鍵性技術發展四年計畫
領域	(空)
已申請專利之國家	(空)
已獲得專利之國家	(空)
技術現況敘述-中文	本技術可將兩顆雷射合併成一個雷射輸出,可提高雷射輸出功率
技術現況敘述-英文	(空)
技術規格	Center Wavelength : 1480nm_x000D_；Center Wavelength Range : ±40nm_x000D_；Insertion Loss : 55dB_x000D_；Directivity : >60dB_x000D_；Extinction Ratin : >18dB；Optical Power : >600mW；Operation Temperature : 0 ~ 70 ℃_x000D_；Reliability test：85℃高溫測試>2000_x000D_；hours，-40℃~85℃溫度循環 >2000 hour
技術成熟度	原型品
可應用範圍	本技術可用於摻鉺光纖放大器(EDFA)與拉曼放大器(Raman Amplifier)
潛力預估	本技術包括光學設計、封裝技術、環境測試等技術，本所開發的光電元件，能夠與世界大廠同步，極具產品競爭力。
聯絡人員	鄭必章
電話	06-5089053
傳真	06-5089059
電子信箱	Chengbicha@itri.org.tw
參考網址	http://www.itri.org.tw/
所須軟硬體設備	光學封裝設備
需具備之專業人才	擬接受技術移轉廠商應具備光學模擬設計經驗、光纖基本原理與應用技術及光電量測能力為佳。

序號: 1216

產出年度: 94

技術名稱-中文: 雷射耦合器

執行單位: 工研院光電所

產出單位: (空)

計畫名稱: 光通訊與光電元組件關鍵性技術發展四年計畫

領域: (空)

已申請專利之國家: (空)

已獲得專利之國家: (空)

技術現況敘述-中文: 本技術可將兩顆雷射合併成一個雷射輸出,可提高雷射輸出功率

技術現況敘述-英文: (空)

技術規格: Center Wavelength : 1480nm_x000D_；Center Wavelength Range : ±40nm_x000D_；Insertion Loss : 55dB_x000D_；Directivity : >60dB_x000D_；Extinction Ratin : >18dB；Optical Power : >600mW；Operation Temperature : 0 ~ 70 ℃_x000D_；Reliability test：85℃高溫測試>2000_x000D_；hours，-40℃~85℃溫度循環 >2000 hour

技術成熟度: 原型品

可應用範圍: 本技術可用於摻鉺光纖放大器(EDFA)與拉曼放大器(Raman Amplifier)

潛力預估: 本技術包括光學設計、封裝技術、環境測試等技術，本所開發的光電元件，能夠與世界大廠同步，極具產品競爭力。

聯絡人員: 鄭必章

電話: 06-5089053

傳真: 06-5089059

電子信箱: Chengbicha@itri.org.tw

參考網址: http://www.itri.org.tw/

所須軟硬體設備: 光學封裝設備

需具備之專業人才: 擬接受技術移轉廠商應具備光學模擬設計經驗、光纖基本原理與應用技術及光電量測能力為佳。

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姓名陳錦泰找到的公司登記或商業登記

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公司地址	負責人	統一編號	狀態
程泰企業社新北市五股區四維路１１８巷１０弄１４號	陳錦泰	10648203	核准設立 - 獨資
泰碩商行臺北市北投區文林北路234號2樓	陳錦泰	17265320	核准設立 - 獨資 (核准文號: 1094107642)
興快工業有限公司新北市五股區成泰路2段107號2樓	陳錦泰	22388239	核准設立
君賀企業有限公司新北市五股區成泰路2段130號	陳錦泰	66561994	解散 (核准解散日期: 2019-08-08)
明源百貨行新北市五股區成泰路２段１３○號	陳錦泰	83996853	核准設立 - 獨資
華一洗衣店臺南市中西區康樂街81號1樓	陳錦泰	06434284	歇業 - 獨資
飛山越車店臺中市北區美德街５８號１樓	陳錦泰	39891698	核准設立 - 獨資 (核准文號: 1090867080)
乘熙科技股份有限公司新北市五股區中興路4段48巷17號9樓	陳錦泰	70846467	核准設立

程泰企業社

登記地址: 新北市五股區四維路１１８巷１０弄１４號 | 負責人: 陳錦泰 | 統編: 10648203 | 核准設立 - 獨資

泰碩商行

登記地址: 臺北市北投區文林北路234號2樓 | 負責人: 陳錦泰 | 統編: 17265320 | 核准設立 - 獨資 (核准文號: 1094107642)

興快工業有限公司

登記地址: 新北市五股區成泰路2段107號2樓 | 負責人: 陳錦泰 | 統編: 22388239 | 核准設立

君賀企業有限公司

登記地址: 新北市五股區成泰路2段130號 | 負責人: 陳錦泰 | 統編: 66561994 | 解散 (核准解散日期: 2019-08-08)

明源百貨行

登記地址: 新北市五股區成泰路２段１３○號 | 負責人: 陳錦泰 | 統編: 83996853 | 核准設立 - 獨資

華一洗衣店

登記地址: 臺南市中西區康樂街81號1樓 | 負責人: 陳錦泰 | 統編: 06434284 | 歇業 - 獨資

飛山越車店

登記地址: 臺中市北區美德街５８號１樓 | 負責人: 陳錦泰 | 統編: 39891698 | 核准設立 - 獨資 (核准文號: 1090867080)

乘熙科技股份有限公司

登記地址: 新北市五股區中興路4段48巷17號9樓 | 負責人: 陳錦泰 | 統編: 70846467 | 核准設立

與微透鏡之製作方法及其製造裝置同分類的經濟部產業技術司–專利資料集

葉片包覆軸流式散熱風扇	核准國家: 中國大陸 \| 執行單位: 工研院系統中心 \| 產出年度: 93 \| 專利性質: 新型 \| 計畫名稱: 工研院精密機械與微機電領域環境建構計畫 \| 專利發明人: 郭啟榮, 張嘉揚, 魏增武 \| 證書號碼: ZL200320102743.7
葉片包覆軸流式散熱風扇	核准國家: 德國 \| 執行單位: 工研院系統中心 \| 產出年度: 93 \| 專利性質: 新型 \| 計畫名稱: 工研院精密機械與微機電領域環境建構計畫 \| 專利發明人: 郭啟榮, 張嘉揚, 魏增武 \| 證書號碼: 20319562.0
自動化載送不同尺寸LCD面板的載具機構	核准國家: 中國大陸 \| 執行單位: 工研院系統中心 \| 產出年度: 93 \| 專利性質: 新型 \| 計畫名稱: 電腦整合自動化系統技術研究發展四年計畫 \| 專利發明人: 范振智 \| 證書號碼: ZL03266694.2
自動化載送不同尺寸LCD面板之載具機構	核准國家: 中華民國 \| 執行單位: 工研院系統中心 \| 產出年度: 93 \| 專利性質: 新型 \| 計畫名稱: 電腦整合自動化系統技術研究發展四年計畫 \| 專利發明人: 范振智 \| 證書號碼: 224407
分散式現場設備資料存取方法	核准國家: 中華民國 \| 執行單位: 工研院系統中心 \| 產出年度: 93 \| 專利性質: 發明 \| 計畫名稱: 電腦整合自動化系統技術研究發展四年計畫 \| 專利發明人: 林長民, 柯嘉城, 吳長協, 王哲龍 \| 證書號碼: 205113
氣渦輪引擎	核准國家: 美國 \| 執行單位: 工研院系統中心 \| 產出年度: 93 \| 專利性質: 發明 \| 計畫名稱: 工研院創新前瞻技術研究計畫 \| 專利發明人: 郭啟榮, 王大維, 吳嘉瑞, 石心怡, 熊道邦, 張嘉揚 \| 證書號碼: 6,711,889
磁流發電與冷卻之裝置及方法	核准國家: 中華民國 \| 執行單位: 工研院系統中心 \| 產出年度: 93 \| 專利性質: 發明 \| 計畫名稱: 工研院創新前瞻技術研究計畫 \| 專利發明人: 許立傑 \| 證書號碼: 205889
水凝膠致動式微幫浦	核准國家: 中華民國 \| 執行單位: 工研院系統中心 \| 產出年度: 93 \| 專利性質: 新型 \| 計畫名稱: 工研院創新前瞻技術研究計畫 \| 專利發明人: 莊世瑋, 梁佩芳, 范光錢, 陳威宏 \| 證書號碼: 210826
微型血球過濾晶片	核准國家: 中華民國 \| 執行單位: 工研院系統中心 \| 產出年度: 93 \| 專利性質: 新型 \| 計畫名稱: 工研院創新前瞻技術研究計畫 \| 專利發明人: 陳威宏, 張凱程, 范光錢, 梁佩芳 \| 證書號碼: 219623
高密度多匝微線圈及其製造方法	核准國家: 中華民國 \| 執行單位: 工研院系統中心 \| 產出年度: 93 \| 專利性質: 發明 \| 計畫名稱: 工研院創新前瞻技術研究計畫 \| 專利發明人: 梁佩芳, 莊世瑋, 范光錢, 郭承忠 \| 證書號碼: 197655
人造鰓溶氧擷取裝置	核准國家: 中國大陸 \| 執行單位: 工研院系統中心 \| 產出年度: 93 \| 專利性質: 新型 \| 計畫名稱: 工研院創新前瞻技術研究計畫 \| 專利發明人: 張嘉原, 吳龍男 \| 證書號碼: ZL03256487.2
人造鰓溶氧擷取裝置	核准國家: 中華民國 \| 執行單位: 工研院系統中心 \| 產出年度: 93 \| 專利性質: 新型 \| 計畫名稱: 工研院創新前瞻技術研究計畫 \| 專利發明人: 張嘉原, 吳龍男 \| 證書號碼: 224193
LOC接著劑材料用聚亞醯胺組成	核准國家: 中華民國 \| 執行單位: 工研院材料所 \| 產出年度: 93 \| 專利性質: 發明 \| 計畫名稱: 電子關鍵性材料與整合模組發展四年計畫 \| 專利發明人: 劉淑芬, 金進興, 潘金平 \| 證書號碼: 88108721
一種全光域,高密度,高解析度,高倍速,高相容性之可錄式光記錄媒體之膜層設計及其匹配材料	核准國家: 中國大陸 \| 執行單位: 工研院材料所 \| 產出年度: 93 \| 專利性質: 發明 \| 計畫名稱: 電子關鍵性材料與整合模組發展四年計畫 \| 專利發明人: 徐文泰, 張育嘉, 鄭竹軒, 周瑞崇, 柯文揚 \| 證書號碼: ZL00109664.8
在多層電路板中形成接觸孔之方法	核准國家: 美國 \| 執行單位: 工研院材料所 \| 產出年度: 93 \| 專利性質: 發明 \| 計畫名稱: 電子關鍵性材料與整合模組發展四年計畫 \| 專利發明人: 陳曼玲, 林顯光, 邱創新, 謝添壽, 劉佩青 \| 證書號碼: 6632372

微透鏡之製作方法及其製造裝置 - 經濟部產業技術司–專利資料集 @ 經濟部

序號

產出年度

領域別

專利名稱-中文

執行單位

產出單位

計畫名稱

專利發明人

核准國家

獲證日期

證書號碼

專利期間起

專利期間訖

專利性質

技術摘要-中文

技術摘要-英文

聯絡人員

電話

傳真

電子信箱

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與微透鏡之製作方法及其製造裝置同分類的經濟部產業技術司–專利資料集

微透鏡之製作方法及其製造裝置
- 經濟部產業技術司–專利資料集 @ 經濟部

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