複合拋光研磨不織布及其製造方法
- 技術司專利資料集 @ 經濟部

專利名稱-中文複合拋光研磨不織布及其製造方法的核准國家是中華民國, 證書號碼是I378117, 專利期間起是101/12/01, 專利期間訖是117/05/28, 專利性質是發明, 執行單位是紡織所, 產出年度是102, 計畫名稱是產業用紡織品研究與開發四年計畫, 專利發明人是陳恆毅、林兼民、曾靖惠.

序號	11066
產出年度	102
領域別	材料化工
專利名稱-中文	複合拋光研磨不織布及其製造方法
執行單位	紡織所
產出單位	紡織所
計畫名稱	產業用紡織品研究與開發四年計畫
專利發明人	陳恆毅 \| 林兼民 \| 曾靖惠
核准國家	中華民國
獲證日期	101/12/01
證書號碼	I378117
專利期間起	101/12/01
專利期間訖	117/05/28
專利性質	發明
技術摘要-中文	一種複合拋光研磨不織布之製造方法，包含形成耐磨性複合母粒，該耐磨性複合母粒包含複數個耐磨性粒子以及第一熱塑性高分子；將耐磨性複合母粒製成拋光研磨層；形成彈性緩衝層，其包含第二熱塑性高分子；以及接合拋光研磨層與彈性緩衝層。一種複合拋光研磨不織布，至少包含拋光研磨層及彈性緩衝層。上述拋光研磨層包含第一熱塑性高分子以及複數個研磨粒子，且上述彈性緩衝層，包含第二熱塑性高分子，且位於該拋光研磨層下方。
技術摘要-英文	A method for manufacturing a composite abrasive/polishing pad includes: forming an abrasive composite mother grain, wherein the abrasive composite mother grain includes a plurality of abrasive particles and a first thermoplastic polymer; forming an abrasive/polishing layer from the abrasive composite mother grain; forming a elastic buffering layer which includes a second thermoplastic polymer; and joining the abrasive/polishing layer and the elastic buffering layer. A composite abrasive/polishing nonwoven fabric includes an abrasive/polishing layer and an elastic buffering layer. The abrasive/polishing layer includes a plurality of abrasive particles and a first thermoplastic polymer. The elastic buffering layer includes a second thermoplastic polymer and is disposed under the abrasive/polishing layer.
聯絡人員	徐妙菁
電話	02-22670321#6101
傳真	02-22689834
電子信箱	mchsu.0415@ttri.org.tw
參考網址	https://www.ttri.org.tw/content/service/service12.aspx
備註	(空)
特殊情形	(空)

序號

11066

產出年度

102

領域別

材料化工

專利名稱-中文

複合拋光研磨不織布及其製造方法

執行單位

紡織所

產出單位

紡織所

計畫名稱

產業用紡織品研究與開發四年計畫

專利發明人

陳恆毅 | 林兼民 | 曾靖惠

核准國家

中華民國

獲證日期

101/12/01

證書號碼

I378117

專利期間起

101/12/01

專利期間訖

117/05/28

專利性質

發明

技術摘要-中文

一種複合拋光研磨不織布之製造方法，包含形成耐磨性複合母粒，該耐磨性複合母粒包含複數個耐磨性粒子以及第一熱塑性高分子；將耐磨性複合母粒製成拋光研磨層；形成彈性緩衝層，其包含第二熱塑性高分子；以及接合拋光研磨層與彈性緩衝層。一種複合拋光研磨不織布，至少包含拋光研磨層及彈性緩衝層。上述拋光研磨層包含第一熱塑性高分子以及複數個研磨粒子，且上述彈性緩衝層，包含第二熱塑性高分子，且位於該拋光研磨層下方。

技術摘要-英文

A method for manufacturing a composite abrasive/polishing pad includes: forming an abrasive composite mother grain, wherein the abrasive composite mother grain includes a plurality of abrasive particles and a first thermoplastic polymer; forming an abrasive/polishing layer from the abrasive composite mother grain; forming a elastic buffering layer which includes a second thermoplastic polymer; and joining the abrasive/polishing layer and the elastic buffering layer. A composite abrasive/polishing nonwoven fabric includes an abrasive/polishing layer and an elastic buffering layer. The abrasive/polishing layer includes a plurality of abrasive particles and a first thermoplastic polymer. The elastic buffering layer includes a second thermoplastic polymer and is disposed under the abrasive/polishing layer.

聯絡人員

徐妙菁

電話

02-22670321#6101

傳真

02-22689834

電子信箱

mchsu.0415@ttri.org.tw

參考網址

https://www.ttri.org.tw/content/service/service12.aspx

備註

(空)

特殊情形

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超細熔噴複合不織布開發暨服務	執行單位: 紡織所 \| 產出年度: 102 \| 產出單位: 紡織所 \| 計畫名稱: 紡織環境建構第二期四年計畫 \| 領域: 民生福祉 \| 技術規格: ．BET比表面積：1494 m2/g ．粉體脫落率 3.1 % ．壓損0.03 mmH2O ．透氣度 414.3 cm3/cm2/sec \| 潛力預估: 高 @ 技術司可移轉技術資料集
阻燃耐隆共聚物及其纖維	核准國家: 中華民國 \| 證書號碼: I472553 \| 專利期間起: 104/02/11 \| 專利期間訖: 121/12/19 \| 專利性質: 發明 \| 執行單位: 紡織所 \| 產出年度: 104 \| 計畫名稱: 機能性紡織產業關鍵技術研發四年計畫 \| 專利發明人: 陳泰佑 \| 陳威宏 \| 鄭筱雯 \| 林維朋 @ 技術司專利資料集
膨脹型阻燃劑組成	核准國家: 中華民國 \| 證書號碼: I336728 \| 專利期間起: 100/02/01 \| 專利期間訖: 114/11/27 \| 專利性質: 發明 \| 執行單位: 紡織所 \| 產出年度: 100 \| 計畫名稱: 高科技紡織品研究與開發第二期計畫 \| 專利發明人: 張料峰 \| 鍾裕杰 \| 陳岡宏 @ 技術司專利資料集
表面加工紗線、其紡織品及其製造方法	核准國家: 中華民國 \| 證書號碼: I336742 \| 專利期間起: 100/02/01 \| 專利期間訖: 116/01/15 \| 專利性質: 發明 \| 執行單位: 紡織所 \| 產出年度: 100 \| 計畫名稱: 高科技紡織品研究與開發第二期計畫 \| 專利發明人: 褚佳龍 \| 戴煥忠 \| 林兼民 \| 熊漢興 @ 技術司專利資料集
具有偵測體表電生理功能的織物	核准國家: 中華民國 \| 證書號碼: I336738 \| 專利期間起: 100/02/01 \| 專利期間訖: 117/05/08 \| 專利性質: 發明 \| 執行單位: 紡織所 \| 產出年度: 100 \| 計畫名稱: 高科技紡織品研究與開發第二期計畫 \| 專利發明人: 沈乾龍 \| 蔡坤泉 \| 黃慶堂 \| 尹承達 @ 技術司專利資料集
製造不織布的設備及方法	核准國家: 中華民國 \| 證書號碼: I337634 \| 專利期間起: 100/02/21 \| 專利期間訖: 116/12/26 \| 專利性質: 發明 \| 執行單位: 紡織所 \| 產出年度: 100 \| 計畫名稱: 紡織所創新前瞻技術研究計畫 \| 專利發明人: 黃子祥 \| 彭兆群 @ 技術司專利資料集
滾筒式電紡設備	核准國家: 中華民國 \| 證書號碼: I357449 \| 專利期間起: 101/02/01 \| 專利期間訖: 118/06/18 \| 專利性質: 發明 \| 執行單位: 紡織所 \| 產出年度: 101 \| 計畫名稱: 高科技紡織品研究與開發第二期計畫 \| 專利發明人: 張浩哲 \| 李仁雄 @ 技術司專利資料集
母粒的製造方法及合成纖維	核准國家: 中華民國 \| 證書號碼: I357423 \| 專利期間起: 101/02/01 \| 專利期間訖: 116/12/30 \| 專利性質: 發明 \| 執行單位: 紡織所 \| 產出年度: 101 \| 計畫名稱: 紡織環境建構第二期四年計畫 \| 專利發明人: 賴偉仁 \| 陳建龍 \| 吳俊龍 @ 技術司專利資料集

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利用位元載置技術以降低峰均值比之方法	核准國家: 中華民國 \| 證書號碼: 220605 \| 專利期間起: \| 專利期間訖: \| 專利性質: 發明 \| 執行單位: 工研院電通所 \| 產出年度: 93 \| 計畫名稱: 工研院創新前瞻技術研究計畫 \| 專利發明人: 陳彥倫 \| 李宇旼 \| 李世凱
寬頻四波混合波長轉換裝置	核准國家: 中華民國 \| 證書號碼: 206797 \| 專利期間起: \| 專利期間訖: \| 專利性質: 發明 \| 執行單位: 工研院電通所 \| 產出年度: 93 \| 計畫名稱: 工研院創新前瞻技術研究計畫 \| 專利發明人: 李三良 \| 徐達儒 \| 龔佩敏
自動服務組合的方法及系統	核准國家: 中華民國 \| 證書號碼: 206819 \| 專利期間起: \| 專利期間訖: \| 專利性質: 發明 \| 執行單位: 工研院電通所 \| 產出年度: 93 \| 計畫名稱: 工研院創新前瞻技術研究計畫 \| 專利發明人: 陳逸嘉 \| 許維德 \| 洪鵬翔
可呈現筆劃粗細變化之字型描述法	核准國家: 中華民國 \| 證書號碼: 197230 \| 專利期間起: \| 專利期間訖: \| 專利性質: 發明 \| 執行單位: 工研院電通所 \| 產出年度: 93 \| 計畫名稱: 工研院通訊與光電領域環境建構計畫 \| 專利發明人: 林育仁 \| 官振鵬 \| 簡志佳 \| 吳韻宜
資料擾碼架構及其方法	核准國家: 中華民國 \| 證書號碼: I221721 \| 專利期間起: \| 專利期間訖: \| 專利性質: 發明 \| 執行單位: 工研院電通所 \| 產出年度: 93 \| 計畫名稱: 工研院通訊與光電領域環境建構計畫 \| 專利發明人: 繆紹綱 \| 顏恆麟 \| 李宗憲 \| 林志龍 \| 官振鵬
堆疊快取函式框之系統及其方法	核准國家: 中華民國 \| 證書號碼: I220733 \| 專利期間起: \| 專利期間訖: \| 專利性質: 發明 \| 執行單位: 工研院電通所 \| 產出年度: 93 \| 計畫名稱: 工研院通訊與光電領域環境建構計畫 \| 專利發明人: 陳正哲
一種知識分持之金鑰信託系統	核准國家: 中華民國 \| 證書號碼: 131670 \| 專利期間起: \| 專利期間訖: \| 專利性質: 發明 \| 執行單位: 工研院電通所 \| 產出年度: 93 \| 計畫名稱: 網際網路應用技術營運計畫 \| 專利發明人: 樊國楨 \| 宋振華 \| 薛紀建 \| 張耿豪 \| 張明信 \| 謝東明
廢日光燈管之拆解方法及其裝置	核准國家: 美國 \| 證書號碼: 6637098 \| 專利期間起: \| 專利期間訖: \| 專利性質: 發明 \| 執行單位: 工研院環安中心 \| 產出年度: 93 \| 計畫名稱: 工研院永續發展領域環境建構計畫 \| 專利發明人: 楊奉儒 \| 蔡憲坤
雜質振盪分離送料器結構之改良	核准國家: 中華民國 \| 證書號碼: 210230 \| 專利期間起: \| 專利期間訖: \| 專利性質: 新型 \| 執行單位: 工研院環安中心 \| 產出年度: 93 \| 計畫名稱: 工研院永續發展領域環境建構計畫 \| 專利發明人: 李明晃 \| 陳珠修 \| 楊奉儒
以工業廢棄物作為原料的樹脂混凝土	核准國家: 中華民國 \| 證書號碼: 207309 \| 專利期間起: \| 專利期間訖: \| 專利性質: 發明 \| 執行單位: 工研院環安中心 \| 產出年度: 93 \| 計畫名稱: 工研院永續發展領域環境建構計畫 \| 專利發明人: 陳清齊 \| 賴明柱 \| 楊奉儒 \| 陳志恒
研磨機進料結構	核准國家: 中華民國 \| 證書號碼: 211613 \| 專利期間起: \| 專利期間訖: \| 專利性質: 新型 \| 執行單位: 工研院環安中心 \| 產出年度: 93 \| 計畫名稱: 工研院永續發展領域環境建構計畫 \| 專利發明人: 陳珠修 \| 楊奉儒 \| 李明晃
液晶顯示器反射表面的製造方法	核准國家: 中華民國 \| 證書號碼: 195728 \| 專利期間起: \| 專利期間訖: \| 專利性質: 發明 \| 執行單位: 工研院電子所 \| 產出年度: 93 \| 計畫名稱: 下世代平面顯示關鍵技術發展四年計畫 \| 專利發明人: 韋忠光
以無電鍍法於氮化物障礙層上沉積金屬導線的方法	核准國家: 美國 \| 證書號碼: 6713377 \| 專利期間起: \| 專利期間訖: \| 專利性質: 發明 \| 執行單位: 工研院電子所 \| 產出年度: 93 \| 計畫名稱: 奈米電子關鍵技術四年計畫 \| 專利發明人: 李傳英 \| 黃尊禧
以無電鍍法於氮化物障礙層上沉積金屬導線的方法	核准國家: 美國 \| 證書號碼: 6660625 \| 專利期間起: \| 專利期間訖: \| 專利性質: 發明 \| 執行單位: 工研院電子所 \| 產出年度: 93 \| 計畫名稱: 奈米電子關鍵技術四年計畫 \| 專利發明人: 李傳英 \| 黃尊禧
消除光阻中近接效應之方法	核准國家: 中華民國 \| 證書號碼: 183704 \| 專利期間起: \| 專利期間訖: \| 專利性質: 發明 \| 執行單位: 工研院電子所 \| 產出年度: 93 \| 計畫名稱: 工研院通訊與光電領域環境建構計畫 \| 專利發明人: 高蔡勝 \| 戴昌銘

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