散射光學量測方法與裝置
- 經濟部產業技術司–專利資料集 @ 經濟部

專利名稱-中文散射光學量測方法與裝置的核准國家是中華民國, 執行單位是工研院院本部, 產出年度是102, 專利性質是發明, 計畫名稱是工研院創新前瞻技術研究計畫, 專利發明人是徐得銘 ,周森益 ,顧逸霞, 證書號碼是I392861.

序號	11341
產出年度	102
領域別	創新前瞻
專利名稱-中文	散射光學量測方法與裝置
執行單位	工研院院本部
產出單位	工研院院本部
計畫名稱	工研院創新前瞻技術研究計畫
專利發明人	徐得銘 ,周森益 ,顧逸霞
核准國家	中華民國
獲證日期	102/04/16
證書號碼	I392861
專利期間起	102/04/11
專利期間訖	117/07/07
專利性質	發明
技術摘要-中文	本發明係提供一種散射光學量測方法與裝置，其係將散測技術整合到顯微量測裝置中，使顯微量測裝置可以量測的尺寸精度小於光學繞射極限。本發明之裝置係將經過適當擴束之均勻光源聚焦於物鏡組之背焦面，再投射至待測物上。並藉由改變光源聚焦於背焦面上之位置，以對待測物進行不同角度的照射。
技術摘要-英文	(空)
聯絡人員	李露蘋
電話	03-5917812
傳真	03-5917431
電子信箱	oralp@itri.org.tw
參考網址	(空)
備註	(空)
特殊情形	(空)
同步更新日期	2019-07-24

序號

11341

產出年度

102

領域別

創新前瞻

專利名稱-中文

散射光學量測方法與裝置

執行單位

工研院院本部

產出單位

工研院院本部

計畫名稱

工研院創新前瞻技術研究計畫

專利發明人

徐得銘 ,周森益 ,顧逸霞

核准國家

中華民國

獲證日期

102/04/16

證書號碼

I392861

專利期間起

102/04/11

專利期間訖

117/07/07

專利性質

發明

技術摘要-中文

本發明係提供一種散射光學量測方法與裝置，其係將散測技術整合到顯微量測裝置中，使顯微量測裝置可以量測的尺寸精度小於光學繞射極限。本發明之裝置係將經過適當擴束之均勻光源聚焦於物鏡組之背焦面，再投射至待測物上。並藉由改變光源聚焦於背焦面上之位置，以對待測物進行不同角度的照射。

技術摘要-英文

(空)

聯絡人員

李露蘋

電話

03-5917812

傳真

03-5917431

電子信箱

oralp@itri.org.tw

參考網址

(空)

備註

(空)

特殊情形

(空)

同步更新日期

2019-07-24

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散射光學量測方法與裝置

散射場顯微量測方法及裝置	核准國家: 美國 \| 執行單位: 工研院院本部 \| 產出年度: 100 \| 專利性質: 發明 \| 計畫名稱: 工研院創新前瞻技術研究計畫 \| 專利發明人: 周森益,董書屏,許維德,徐得銘,伍家麟,顧逸霞,宋昌海, \| 證書號碼: 7,872,741 @ 經濟部產業技術司–專利資料集
散射場顯微量測方法及裝置	核准國家: 中華民國 \| 執行單位: 工研院院本部 \| 產出年度: 101 \| 專利性質: 發明 \| 計畫名稱: 工研院創新前瞻技術研究計畫 \| 專利發明人: 周森益,董書屏,許維德,徐得銘,伍家麟,顧逸霞,宋昌海, \| 證書號碼: I378221 @ 經濟部產業技術司–專利資料集
反射式散射儀	核准國家: 日本 \| 執行單位: 工研院院本部 \| 產出年度: 100 \| 專利性質: 發明 \| 計畫名稱: 工研院創新前瞻技術研究計畫 \| 專利發明人: 徐得銘,顧逸霞,周森益,董書屏,許維德 \| 證書號碼: 4823289 @ 經濟部產業技術司–專利資料集
反射式散射儀	核准國家: 美國 \| 執行單位: 工研院院本部 \| 產出年度: 100 \| 專利性質: 發明 \| 計畫名稱: 工研院創新前瞻技術研究計畫 \| 專利發明人: 徐得銘,顧逸霞,周森益,董書屏,許維德 \| 證書號碼: 7,864,324 @ 經濟部產業技術司–專利資料集
反射式散射儀	核准國家: 中華民國 \| 執行單位: 工研院院本部 \| 產出年度: 102 \| 專利性質: 發明 \| 計畫名稱: 工研院創新前瞻技術研究計畫 \| 專利發明人: 徐得銘 ,顧逸霞 ,周森益 ,董書屏 ,許維德 \| 證書號碼: I408356 @ 經濟部產業技術司–專利資料集

揚聲器單體結構	核准國家: 中國大陸 \| 執行單位: 工研院電光所 \| 產出年度: 102 \| 專利性質: 發明 \| 計畫名稱: 軟性電子模組與應用技術發展計畫 \| 專利發明人: 陳明道 ,劉昌和 , \| 證書號碼: ZL200810211084.8 @ 經濟部產業技術司–專利資料集
晶圓級模封接合結構及其製造方法	核准國家: 美國 \| 執行單位: 工研院電光所 \| 產出年度: 102 \| 專利性質: 發明 \| 計畫名稱: 軟性電子模組與應用技術發展計畫 \| 專利發明人: 陸蘇財 ,莊敬業 ,林育民 \| 證書號碼: 8,384,215 @ 經濟部產業技術司–專利資料集
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揚聲器單體結構	核准國家: 中國大陸 \| 執行單位: 工研院電光所 \| 產出年度: 102 \| 專利性質: 發明 \| 計畫名稱: 軟性電子模組與應用技術發展計畫 \| 專利發明人: 劉昌和 ,陳明道 \| 證書號碼: ZL200710184913.3 @ 經濟部產業技術司–專利資料集
平面揚聲器單體與揚聲器裝置	核准國家: 中國大陸 \| 執行單位: 工研院電光所 \| 產出年度: 102 \| 專利性質: 發明 \| 計畫名稱: 軟性電子模組與應用技術發展計畫 \| 專利發明人: 劉昌和 ,陳明道 \| 證書號碼: ZL200910202828.4 @ 經濟部產業技術司–專利資料集
平面揚聲器單體與揚聲器裝置	核准國家: 美國 \| 執行單位: 工研院電光所 \| 產出年度: 102 \| 專利性質: 發明 \| 計畫名稱: 軟性電子模組與應用技術發展計畫 \| 專利發明人: 劉昌和 ,陳明道 \| 證書號碼: 8,391,520 @ 經濟部產業技術司–專利資料集
照明裝置	核准國家: 中華民國 \| 執行單位: 工研院電光所 \| 產出年度: 102 \| 專利性質: 發明 \| 計畫名稱: 軟性電子模組與應用技術發展計畫 \| 專利發明人: 黃承揚 ,許詔開 \| 證書號碼: I402456 @ 經濟部產業技術司–專利資料集
Amphiphilic block copolymers and nanoparticles comprising the same	核准國家: 美國 \| 執行單位: 工研院生醫所 \| 產出年度: 104 \| 專利性質: 發明 \| 計畫名稱: 智慧標靶藥物傳輸技術及應用開發計畫 \| 專利發明人: 謝明發, 張學曾, 陳進富, 張原嘉, 甘霈, 林才祐 \| 證書號碼: 8,940,333 @ 經濟部產業技術司–專利資料集

堆疊快取函式框之系統及其方法	核准國家: 中華民國 \| 執行單位: 工研院電通所 \| 產出年度: 93 \| 專利性質: 發明 \| 計畫名稱: 工研院通訊與光電領域環境建構計畫 \| 專利發明人: 陳正哲 \| 證書號碼: I220733
一種知識分持之金鑰信託系統	核准國家: 中華民國 \| 執行單位: 工研院電通所 \| 產出年度: 93 \| 專利性質: 發明 \| 計畫名稱: 網際網路應用技術營運計畫 \| 專利發明人: 樊國楨, 宋振華, 薛紀建, 張耿豪, 張明信, 謝東明 \| 證書號碼: 131670
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以工業廢棄物作為原料的樹脂混凝土	核准國家: 中華民國 \| 執行單位: 工研院環安中心 \| 產出年度: 93 \| 專利性質: 發明 \| 計畫名稱: 工研院永續發展領域環境建構計畫 \| 專利發明人: 陳清齊、賴明柱、楊奉儒、陳志恒 \| 證書號碼: 207309
研磨機進料結構	核准國家: 中華民國 \| 執行單位: 工研院環安中心 \| 產出年度: 93 \| 專利性質: 新型 \| 計畫名稱: 工研院永續發展領域環境建構計畫 \| 專利發明人: 陳珠修、楊奉儒、李明晃 \| 證書號碼: 211613
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以無電鍍法於氮化物障礙層上沉積金屬導線的方法	核准國家: 美國 \| 執行單位: 工研院電子所 \| 產出年度: 93 \| 專利性質: 發明 \| 計畫名稱: 奈米電子關鍵技術四年計畫 \| 專利發明人: 李傳英, 黃尊禧 \| 證書號碼: 6713377
以無電鍍法於氮化物障礙層上沉積金屬導線的方法	核准國家: 美國 \| 執行單位: 工研院電子所 \| 產出年度: 93 \| 專利性質: 發明 \| 計畫名稱: 奈米電子關鍵技術四年計畫 \| 專利發明人: 李傳英, 黃尊禧 \| 證書號碼: 6660625
消除光阻中近接效應之方法	核准國家: 中華民國 \| 執行單位: 工研院電子所 \| 產出年度: 93 \| 專利性質: 發明 \| 計畫名稱: 工研院通訊與光電領域環境建構計畫 \| 專利發明人: 高蔡勝, 戴昌銘 \| 證書號碼: 183704
製造反射型液晶顯示面板之方法及所製之裝置	核准國家: 中華民國 \| 執行單位: 工研院電子所 \| 產出年度: 93 \| 專利性質: 發明 \| 計畫名稱: 下世代平面顯示關鍵技術發展四年計畫 \| 專利發明人: 丁岱良 \| 證書號碼: 185243
具凸起結構之多域配向液晶顯示器	核准國家: 中華民國 \| 執行單位: 工研院電子所 \| 產出年度: 93 \| 專利性質: 發明 \| 計畫名稱: 下世代平面顯示關鍵技術發展四年計畫 \| 專利發明人: 劉鴻達 \| 證書號碼: 188081
具凸起結構之多域配向液晶顯示器	核准國家: 美國 \| 執行單位: 工研院電子所 \| 產出年度: 93 \| 專利性質: 發明 \| 計畫名稱: 下世代平面顯示關鍵技術發展四年計畫 \| 專利發明人: 劉鴻達 \| 證書號碼: 6747727
正向修補型之薄膜電晶體液晶顯示裝置以及正向修補方法	核准國家: 美國 \| 執行單位: 工研院電子所 \| 產出年度: 93 \| 專利性質: 發明 \| 計畫名稱: 下世代平面顯示關鍵技術發展四年計畫 \| 專利發明人: 黃庭輝 \| 證書號碼: 6714269
低漏光及低訊號線阻值之IPS-TFT 陣列設計	核准國家: 中華民國 \| 執行單位: 工研院電子所 \| 產出年度: 93 \| 專利性質: 發明 \| 計畫名稱: 下世代平面顯示關鍵技術發展四年計畫 \| 專利發明人: 張世昌, 陳志宏, 劉秉德 \| 證書號碼: 185400

散射光學量測方法與裝置 - 經濟部產業技術司–專利資料集 @ 經濟部

序號

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領域別

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執行單位

產出單位

計畫名稱

專利發明人

核准國家

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