擬真臉部動畫系統及其方法
- 經濟部產業技術司–專利資料集 @ 經濟部

專利名稱-中文擬真臉部動畫系統及其方法的核准國家是中華民國, 執行單位是工研院院本部, 產出年度是103, 專利性質是發明, 計畫名稱是工研院創新前瞻技術研究計畫, 專利發明人是丁文宏 ,顏晨嵐 ,紀文亮 ,廖惇利, 證書號碼是I443601.

序號13194
產出年度103
領域別服務創新
專利名稱-中文擬真臉部動畫系統及其方法
執行單位工研院院本部
產出單位工研院南分院
計畫名稱工研院創新前瞻技術研究計畫
專利發明人丁文宏 ,顏晨嵐 ,紀文亮 ,廖惇利
核准國家中華民國
獲證日期103/07/01
證書號碼I443601
專利期間起118/12/15
專利期間訖一種擬真臉部動畫產生方法,回應於輸入影像資料產生三維臉部表情資料,其包括下列之步驟。首先對輸入影像資料進行定位及特徵篩選,以擷取第一階層特徵資料(用以指示多個第一階層特徵點)及第一階層特徵模版資料。接著根據第一階層特徵模版資料及第一階層特徵資料分別找出第一階層模板輪廓資料及第一階層特徵輪廓資料。然後比較第一階層特徵輪廓資料及輪廓資料,以判斷其是否滿足判斷條件;若否,根據第一階層特徵資料產生輸出特徵資料,並據以產生基礎臉部網格形變資料。之後根據基礎臉部網格形變資料顯示三維臉部表情資料。
專利性質發明
技術摘要-中文一種擬真臉部動畫產生方法,回應於輸入影像資料產生三維臉部表情資料,其包括下列之步驟。首先對輸入影像資料進行定位及特徵篩選,以擷取第一階層特徵資料(用以指示多個第一階層特徵點)及第一階層特徵模版資料。接著根據第一階層特徵模版資料及第一階層特徵資料分別找出第一階層模板輪廓資料及第一階層特徵輪廓資料。然後比較第一階層特徵輪廓資料及輪廓資料,以判斷其是否滿足判斷條件;若否,根據第一階層特徵資料產生輸出特徵資料,並據以產生基礎臉部網格形變資料。之後根據基礎臉部網格形變資料顯示三維臉部表情資料。
技術摘要-英文(空)
聯絡人員李露蘋
電話03-5917964
傳真03-5917583
電子信箱oralp@itri.org.tw
參考網址(空)
備註(空)
特殊情形(空)
同步更新日期2019-07-24

序號

13194

產出年度

103

領域別

服務創新

專利名稱-中文

擬真臉部動畫系統及其方法

執行單位

工研院院本部

產出單位

工研院南分院

計畫名稱

工研院創新前瞻技術研究計畫

專利發明人

丁文宏 ,顏晨嵐 ,紀文亮 ,廖惇利

核准國家

中華民國

獲證日期

103/07/01

證書號碼

I443601

專利期間起

118/12/15

專利期間訖

一種擬真臉部動畫產生方法,回應於輸入影像資料產生三維臉部表情資料,其包括下列之步驟。首先對輸入影像資料進行定位及特徵篩選,以擷取第一階層特徵資料(用以指示多個第一階層特徵點)及第一階層特徵模版資料。接著根據第一階層特徵模版資料及第一階層特徵資料分別找出第一階層模板輪廓資料及第一階層特徵輪廓資料。然後比較第一階層特徵輪廓資料及輪廓資料,以判斷其是否滿足判斷條件;若否,根據第一階層特徵資料產生輸出特徵資料,並據以產生基礎臉部網格形變資料。之後根據基礎臉部網格形變資料顯示三維臉部表情資料。

專利性質

發明

技術摘要-中文

一種擬真臉部動畫產生方法,回應於輸入影像資料產生三維臉部表情資料,其包括下列之步驟。首先對輸入影像資料進行定位及特徵篩選,以擷取第一階層特徵資料(用以指示多個第一階層特徵點)及第一階層特徵模版資料。接著根據第一階層特徵模版資料及第一階層特徵資料分別找出第一階層模板輪廓資料及第一階層特徵輪廓資料。然後比較第一階層特徵輪廓資料及輪廓資料,以判斷其是否滿足判斷條件;若否,根據第一階層特徵資料產生輸出特徵資料,並據以產生基礎臉部網格形變資料。之後根據基礎臉部網格形變資料顯示三維臉部表情資料。

技術摘要-英文

(空)

聯絡人員

李露蘋

電話

03-5917964

傳真

03-5917583

電子信箱

oralp@itri.org.tw

參考網址

(空)

備註

(空)

特殊情形

(空)

同步更新日期

2019-07-24

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擬真臉部動畫系統及其方法

核准國家: 美國 | 執行單位: 工研院院本部 | 產出年度: 103 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 工研院創新前瞻技術研究計畫 | 專利發明人: 丁文宏 ,顏晨嵐 ,紀文亮 ,廖惇利 | 證書號碼: 8648866

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即時三維臉部動畫互動生成技術

執行單位: 工研院院本部 | 產出年度: 98 | 產出單位: | 計畫名稱: 工研院創新前瞻技術研究計畫 | 領域: | 技術規格: .可偵測距離約 30~150 cm .可偵測人臉沿x、y或z軸旋轉20°以內的旋轉 | 潛力預估: 將可應用與推廣於遊戲玩具相關產業,提供虛擬代理人的臉部表情呈現,用於遊戲中與他人溝通互動。或是在e-Commerce產業以虛擬人物化身為推銷高手,用豐富之表情語言刺激消費,使網路商場更為蓬勃發展。

@ 經濟部產業技術司–可移轉技術資料集

擬真臉部動畫系統及其方法

核准國家: 美國 | 執行單位: 工研院院本部 | 產出年度: 103 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 工研院創新前瞻技術研究計畫 | 專利發明人: 丁文宏 ,顏晨嵐 ,紀文亮 ,廖惇利 | 證書號碼: 8648866

@ 經濟部產業技術司–專利資料集

即時三維臉部動畫互動生成技術

執行單位: 工研院院本部 | 產出年度: 98 | 產出單位: | 計畫名稱: 工研院創新前瞻技術研究計畫 | 領域: | 技術規格: .可偵測距離約 30~150 cm .可偵測人臉沿x、y或z軸旋轉20°以內的旋轉 | 潛力預估: 將可應用與推廣於遊戲玩具相關產業,提供虛擬代理人的臉部表情呈現,用於遊戲中與他人溝通互動。或是在e-Commerce產業以虛擬人物化身為推銷高手,用豐富之表情語言刺激消費,使網路商場更為蓬勃發展。

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發光元件的驅動控制電路

核准國家: 中華民國 | 執行單位: 工研院晶片中心 | 產出年度: 93 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 晶片系統關鍵技術發展四年計畫 | 專利發明人: 蔡嘉明 | 證書號碼: 185602

發光元件的驅動控制電路

核准國家: 美國 | 執行單位: 工研院晶片中心 | 產出年度: 93 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 晶片系統關鍵技術發展四年計畫 | 專利發明人: 蔡嘉明 | 證書號碼: 6,735,228

具有整波電路之高速雷射驅動器

核准國家: 美國 | 執行單位: 工研院晶片中心 | 產出年度: 93 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 晶片系統關鍵技術發展四年計畫 | 專利發明人: 周明忠 | 證書號碼: 6,798,802

壓制電流分配的充放電路

核准國家: 美國 | 執行單位: 工研院晶片中心 | 產出年度: 93 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 晶片系統關鍵技術發展四年計畫 | 專利發明人: 張毓仁 | 證書號碼: 6,794,911

電力控制電路

核准國家: 中華民國 | 執行單位: 工研院量測中心 | 產出年度: 93 | 專利性質: 新型 | 計畫名稱: 自動光學顯微檢測設備技術三年計畫 | 專利發明人: 陳盛仁, 楊景榮, 林俊宏, 陳燦林 | 證書號碼: 214743

提高掃頻電路頻率解析與準確度之系統

核准國家: 中華民國 | 執行單位: 工研院量測中心 | 產出年度: 93 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 自動光學顯微檢測設備技術三年計畫 | 專利發明人: 郭晉榮,黃俊雄 | 證書號碼: 184318

低頻率漂移數位頻率調制裝置

核准國家: 中華民國 | 執行單位: 工研院量測中心 | 產出年度: 93 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 自動光學顯微檢測設備技術三年計畫 | 專利發明人: 高炳文, 謝賜山, 紀秋棉 | 證書號碼: 195328

光學編碼器定位裝置

核准國家: 中華民國 | 執行單位: 工研院量測中心 | 產出年度: 93 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 自動光學顯微檢測設備技術三年計畫 | 專利發明人: 林慶芳 | 證書號碼: 193120

影像偵測元件與其與待測物件相對移動方向之垂直偏移度量測方法

核准國家: 中華民國 | 執行單位: 工研院量測中心 | 產出年度: 93 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 自動光學顯微檢測設備技術三年計畫 | 專利發明人: 林俊育, 宋新岳, 羅偕益 | 證書號碼: 200068

熱釋電型感測器信號轉換電路

核准國家: 中華民國 | 執行單位: 工研院量測中心 | 產出年度: 93 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 自動光學顯微檢測設備技術三年計畫 | 專利發明人: 涂鐘範, 林耀明 | 證書號碼: 197821

顯示裝置之檢測系統及方法

核准國家: 中華民國 | 執行單位: 工研院量測中心 | 產出年度: 93 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 自動光學顯微檢測設備技術三年計畫 | 專利發明人: 田立芬, 葉峻毅, 楊福祥 | 證書號碼: 220689

寬頻掃頻電路架構

核准國家: 中華民國 | 執行單位: 工研院量測中心 | 產出年度: 93 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 自動光學顯微檢測設備技術三年計畫 | 專利發明人: 郭晉榮, 謝賜山 | 證書號碼: 198444

光源產生裝置及方法

核准國家: 中華民國 | 執行單位: 工研院量測中心 | 產出年度: 93 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 自動光學顯微檢測設備技術三年計畫 | 專利發明人: 林勝雄, 江敏華, 郭葉琮 | 證書號碼: 200164

相位差調整裝置及方法以及應用該相位差調整裝置之感測裝置

核准國家: 中華民國 | 執行單位: 工研院量測中心 | 產出年度: 93 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 自動光學顯微檢測設備技術三年計畫 | 專利發明人: 楊景榮, 高清芬, 陳譽元 | 證書號碼: 206753

新型窄長平直薄型基材專用浸泡塗佈裝置

核准國家: 中華民國 | 執行單位: 工研院量測中心 | 產出年度: 93 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 自動光學顯微檢測設備技術三年計畫 | 專利發明人: 葉清銘, 陳燦林, 陳譽元 | 證書號碼: 206450

發光元件的驅動控制電路

核准國家: 中華民國 | 執行單位: 工研院晶片中心 | 產出年度: 93 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 晶片系統關鍵技術發展四年計畫 | 專利發明人: 蔡嘉明 | 證書號碼: 185602

發光元件的驅動控制電路

核准國家: 美國 | 執行單位: 工研院晶片中心 | 產出年度: 93 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 晶片系統關鍵技術發展四年計畫 | 專利發明人: 蔡嘉明 | 證書號碼: 6,735,228

具有整波電路之高速雷射驅動器

核准國家: 美國 | 執行單位: 工研院晶片中心 | 產出年度: 93 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 晶片系統關鍵技術發展四年計畫 | 專利發明人: 周明忠 | 證書號碼: 6,798,802

壓制電流分配的充放電路

核准國家: 美國 | 執行單位: 工研院晶片中心 | 產出年度: 93 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 晶片系統關鍵技術發展四年計畫 | 專利發明人: 張毓仁 | 證書號碼: 6,794,911

電力控制電路

核准國家: 中華民國 | 執行單位: 工研院量測中心 | 產出年度: 93 | 專利性質: 新型 | 計畫名稱: 自動光學顯微檢測設備技術三年計畫 | 專利發明人: 陳盛仁, 楊景榮, 林俊宏, 陳燦林 | 證書號碼: 214743

提高掃頻電路頻率解析與準確度之系統

核准國家: 中華民國 | 執行單位: 工研院量測中心 | 產出年度: 93 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 自動光學顯微檢測設備技術三年計畫 | 專利發明人: 郭晉榮,黃俊雄 | 證書號碼: 184318

低頻率漂移數位頻率調制裝置

核准國家: 中華民國 | 執行單位: 工研院量測中心 | 產出年度: 93 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 自動光學顯微檢測設備技術三年計畫 | 專利發明人: 高炳文, 謝賜山, 紀秋棉 | 證書號碼: 195328

光學編碼器定位裝置

核准國家: 中華民國 | 執行單位: 工研院量測中心 | 產出年度: 93 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 自動光學顯微檢測設備技術三年計畫 | 專利發明人: 林慶芳 | 證書號碼: 193120

影像偵測元件與其與待測物件相對移動方向之垂直偏移度量測方法

核准國家: 中華民國 | 執行單位: 工研院量測中心 | 產出年度: 93 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 自動光學顯微檢測設備技術三年計畫 | 專利發明人: 林俊育, 宋新岳, 羅偕益 | 證書號碼: 200068

熱釋電型感測器信號轉換電路

核准國家: 中華民國 | 執行單位: 工研院量測中心 | 產出年度: 93 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 自動光學顯微檢測設備技術三年計畫 | 專利發明人: 涂鐘範, 林耀明 | 證書號碼: 197821

顯示裝置之檢測系統及方法

核准國家: 中華民國 | 執行單位: 工研院量測中心 | 產出年度: 93 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 自動光學顯微檢測設備技術三年計畫 | 專利發明人: 田立芬, 葉峻毅, 楊福祥 | 證書號碼: 220689

寬頻掃頻電路架構

核准國家: 中華民國 | 執行單位: 工研院量測中心 | 產出年度: 93 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 自動光學顯微檢測設備技術三年計畫 | 專利發明人: 郭晉榮, 謝賜山 | 證書號碼: 198444

光源產生裝置及方法

核准國家: 中華民國 | 執行單位: 工研院量測中心 | 產出年度: 93 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 自動光學顯微檢測設備技術三年計畫 | 專利發明人: 林勝雄, 江敏華, 郭葉琮 | 證書號碼: 200164

相位差調整裝置及方法以及應用該相位差調整裝置之感測裝置

核准國家: 中華民國 | 執行單位: 工研院量測中心 | 產出年度: 93 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 自動光學顯微檢測設備技術三年計畫 | 專利發明人: 楊景榮, 高清芬, 陳譽元 | 證書號碼: 206753

新型窄長平直薄型基材專用浸泡塗佈裝置

核准國家: 中華民國 | 執行單位: 工研院量測中心 | 產出年度: 93 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 自動光學顯微檢測設備技術三年計畫 | 專利發明人: 葉清銘, 陳燦林, 陳譽元 | 證書號碼: 206450

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