表面量測裝置及其之量測方法及校正方法
- 經濟部產業技術司–專利資料集 @ 經濟部

專利名稱-中文表面量測裝置及其之量測方法及校正方法的核准國家是中華民國, 執行單位是工研院院本部, 產出年度是103, 專利性質是發明, 計畫名稱是工研院創新前瞻技術研究計畫, 專利發明人是范光照 ,陳亮嘉 ,黃順洋 ,林宏彝 ,陳來毅, 證書號碼是I421469.

序號	13446
產出年度	103
領域別	服務創新
專利名稱-中文	表面量測裝置及其之量測方法及校正方法
執行單位	工研院院本部
產出單位	工研院機械所
計畫名稱	工研院創新前瞻技術研究計畫
專利發明人	范光照 ,陳亮嘉 ,黃順洋 ,林宏彝 ,陳來毅
核准國家	中華民國
獲證日期	103/01/01
證書號碼	I421469
專利期間起	119/03/09
專利期間訖	一種表面量測裝置及其之量測方法及校正方法。表面量測方法包括以下步驟。首先，一光源發射一光線，光線依序通過一光纖管內之數條光纖束、一第一透鏡組、一分光鏡及一第二透鏡組至一待測面後，反射經第二透鏡組至分光鏡後再反射至一影像感測單元。其中第一透鏡組用以聚焦並分光光線；影像感測單元擷取光線之一量測影像。接著，計算量測影像之數個影像點之光強度比。然後，將每個影像點之光強度比與一深度-光強度比關係線進行比對，以取得每個影像點的深度。
專利性質	發明
技術摘要-中文	一種表面量測裝置及其之量測方法及校正方法。表面量測方法包括以下步驟。首先，一光源發射一光線，光線依序通過一光纖管內之數條光纖束、一第一透鏡組、一分光鏡及一第二透鏡組至一待測面後，反射經第二透鏡組至分光鏡後再反射至一影像感測單元。其中第一透鏡組用以聚焦並分光光線；影像感測單元擷取光線之一量測影像。接著，計算量測影像之數個影像點之光強度比。然後，將每個影像點之光強度比與一深度-光強度比關係線進行比對，以取得每個影像點的深度。
技術摘要-英文	(空)
聯絡人員	李露蘋
電話	03-5918064
傳真	03-5917683
電子信箱	oralp@itri.org.tw
參考網址	(空)
備註	(空)
特殊情形	(空)
同步更新日期	2019-07-24

序號

13446

產出年度

103

領域別

服務創新

專利名稱-中文

表面量測裝置及其之量測方法及校正方法

執行單位

工研院院本部

產出單位

工研院機械所

計畫名稱

工研院創新前瞻技術研究計畫

專利發明人

范光照 ,陳亮嘉 ,黃順洋 ,林宏彝 ,陳來毅

核准國家

中華民國

獲證日期

103/01/01

證書號碼

I421469

專利期間起

119/03/09

專利期間訖

一種表面量測裝置及其之量測方法及校正方法。表面量測方法包括以下步驟。首先，一光源發射一光線，光線依序通過一光纖管內之數條光纖束、一第一透鏡組、一分光鏡及一第二透鏡組至一待測面後，反射經第二透鏡組至分光鏡後再反射至一影像感測單元。其中第一透鏡組用以聚焦並分光光線；影像感測單元擷取光線之一量測影像。接著，計算量測影像之數個影像點之光強度比。然後，將每個影像點之光強度比與一深度-光強度比關係線進行比對，以取得每個影像點的深度。

專利性質

發明

技術摘要-中文

技術摘要-英文

(空)

聯絡人員

李露蘋

電話

03-5918064

傳真

03-5917683

電子信箱

oralp@itri.org.tw

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備註

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特殊情形

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2019-07-24

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毫微型基地台中具有應用層閘道支援網路位址轉換的區域網際網路通訊協定存取系統與方法	核准國家: 中華民國 \| 執行單位: 工研院院本部 \| 產出年度: 103 \| 專利性質: 發明 \| 計畫名稱: 工研院創新前瞻技術研究計畫 \| 專利發明人: 葛達 ,楊人順 ,王瑞堂 ,Shubhranshu Singh ,黃貴笠 \| 證書號碼: I431995 @ 經濟部產業技術司–專利資料集
微波等離子體激發裝置	核准國家: 中國大陸 \| 執行單位: 工研院院本部 \| 產出年度: 103 \| 專利性質: 發明 \| 計畫名稱: 工研院創新前瞻技術研究計畫 \| 專利發明人: 張志振 ,黃昆平 ,謝宇澤 \| 證書號碼: ZL201110065895.3 @ 經濟部產業技術司–專利資料集
前置編碼與解碼的系統、裝置及方法	核准國家: 中國大陸 \| 執行單位: 工研院院本部 \| 產出年度: 103 \| 專利性質: 發明 \| 計畫名稱: 工研院創新前瞻技術研究計畫 \| 專利發明人: 王煥宗 ,黃德振 , \| 證書號碼: ZL200810085399.2 @ 經濟部產業技術司–專利資料集
減少上行傳輸多基地台干擾的裝置及方法	核准國家: 美國 \| 執行單位: 工研院院本部 \| 產出年度: 103 \| 專利性質: 發明 \| 計畫名稱: 工研院創新前瞻技術研究計畫 \| 專利發明人: 郭秉衡 ,丁邦安 \| 證書號碼: 8605803 @ 經濟部產業技術司–專利資料集
非接觸式擾動感測裝置	核准國家: 美國 \| 執行單位: 工研院院本部 \| 產出年度: 103 \| 專利性質: 發明 \| 計畫名稱: 工研院創新前瞻技術研究計畫 \| 專利發明人: 趙哲寬 ,吳秉勳 \| 證書號碼: 8665098 @ 經濟部產業技術司–專利資料集
組播廣播服務區域裡可靠同步裝置與方法	核准國家: 中華民國 \| 執行單位: 工研院院本部 \| 產出年度: 103 \| 專利性質: 發明 \| 計畫名稱: 工研院創新前瞻技術研究計畫 \| 專利發明人: 郭維翰 ,劉家隆 ,王瑞堂 ,楊人順 \| 證書號碼: I432062 @ 經濟部產業技術司–專利資料集
認證方法、金鑰分配方法及認證與金鑰分配方法	核准國家: 中華民國 \| 執行單位: 工研院院本部 \| 產出年度: 103 \| 專利性質: 發明 \| 計畫名稱: 工研院創新前瞻技術研究計畫 \| 專利發明人: 王瑞堂 ,黃貴笠 ,Shubhranshu Singh ,葛達 ,楊人順 \| 證書號碼: I432040 @ 經濟部產業技術司–專利資料集
注入鎖定除頻器	核准國家: 中華民國 \| 執行單位: 工研院院本部 \| 產出年度: 103 \| 專利性質: 發明 \| 計畫名稱: 工研院創新前瞻技術研究計畫 \| 專利發明人: 張鴻埜 ,葉彥良 ,張家宏 ,陳俊仁 \| 證書號碼: I431943 @ 經濟部產業技術司–專利資料集

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主動矩陣有機發光二極體AMOLED之畫素結構	核准國家: 美國 \| 執行單位: 工研院電子所 \| 產出年度: 93 \| 專利性質: 發明 \| 計畫名稱: 下世代平面顯示關鍵技術發展四年計畫 \| 專利發明人: 施俊任, 陳尚立, 陳建儒 \| 證書號碼: 6753655
形成具有分子排列之有機半導體層的方法，以及形成包括此有機半導體層之有機元件的方法	核准國家: 美國 \| 執行單位: 工研院電子所 \| 產出年度: 93 \| 專利性質: 發明 \| 計畫名稱: 下世代平面顯示關鍵技術發展四年計畫 \| 專利發明人: 鄭弘隆, 周維揚, 許財源, 王右武, 何家充, 廖奇璋 \| 證書號碼: 6737303
薄膜電晶體和發光二極體之有機整合元件及其製造方法	核准國家: 中華民國 \| 執行單位: 工研院電子所 \| 產出年度: 93 \| 專利性質: 發明 \| 計畫名稱: 下世代平面顯示關鍵技術發展四年計畫 \| 專利發明人: 鄭弘隆, 王右武, 趙慶勳, 李正中, 許財源 \| 證書號碼: 189563
具低寫入電流之磁性隨機存取記憶體	核准國家: 中華民國 \| 執行單位: 工研院電子所 \| 產出年度: 93 \| 專利性質: 發明 \| 計畫名稱: 下世代平面顯示關鍵技術發展四年計畫 \| 專利發明人: 洪建中, 高明哲 \| 證書號碼: 200395
具低寫入電流之磁性隨機存取記憶體	核准國家: 美國 \| 執行單位: 工研院電子所 \| 產出年度: 93 \| 專利性質: 發明 \| 計畫名稱: 工研院創新前瞻技術研究計畫 \| 專利發明人: 洪建中, 高明哲 \| 證書號碼: 6642595
液柱衝擊式液體佈著方法	核准國家: 中華民國 \| 執行單位: 工研院電子所 \| 產出年度: 93 \| 專利性質: 發明 \| 計畫名稱: 微奈米系統應用技術四年計畫 \| 專利發明人: 陳仲竹, 鍾震桂, 陳世輝 \| 證書號碼: 188234
液柱衝擊式液體佈著方法	核准國家: 美國 \| 執行單位: 工研院電子所 \| 產出年度: 93 \| 專利性質: 發明 \| 計畫名稱: 微奈米系統應用技術四年計畫 \| 專利發明人: 陳仲竹, 鍾震桂, 陳世輝 \| 證書號碼: 6663214
積體化流體元件及其製造方法	核准國家: 中華民國 \| 執行單位: 工研院電子所 \| 產出年度: 93 \| 專利性質: 發明 \| 計畫名稱: 微奈米系統應用技術四年計畫 \| 專利發明人: 鍾震桂, 林俊仁 \| 證書號碼: 189552
電磁驅動光開關及其製作方法	核准國家: 中華民國 \| 執行單位: 工研院電子所 \| 產出年度: 93 \| 專利性質: 發明 \| 計畫名稱: 工研院精密機械與微機電領域環境建構計畫 \| 專利發明人: 盧慧娟, 李新立, 張文陽, 李政鴻 \| 證書號碼: 191670
應用於紅外線成像器與感測器之懸浮微結構及其製造方法	核准國家: 中華民國 \| 執行單位: 工研院電子所 \| 產出年度: 93 \| 專利性質: 發明 \| 計畫名稱: 微奈米系統應用技術四年計畫 \| 專利發明人: 歐政隆, 李宗昇 \| 證書號碼: 206522
可撓性之光電傳輸匯流排	核准國家: 中華民國 \| 執行單位: 工研院電子所 \| 產出年度: 93 \| 專利性質: 發明 \| 計畫名稱: 工研院創新前瞻技術研究計畫 \| 專利發明人: 沈里正, 陳有志, 張恕銘, 柯志祥 \| 證書號碼: 206592
N型奈米碳管元件之製造方法	核准國家: 中華民國 \| 執行單位: 工研院電子所 \| 產出年度: 93 \| 專利性質: 發明 \| 計畫名稱: 工研院創新前瞻技術研究計畫 \| 專利發明人: 王宏祥, 魏拯華, 高明哲 \| 證書號碼: 220269
形成薄膜電晶體元件的方法以及形成薄膜電晶體元件於彩色濾光片上的方法	核准國家: 中華民國 \| 執行單位: 工研院電子所 \| 產出年度: 93 \| 專利性質: 發明 \| 計畫名稱: 下世代平面顯示關鍵技術發展四年計畫 \| 專利發明人: 張鈞傑, 陳志強, 莊景桑 \| 證書號碼: 190648
光波導製程之階梯覆蓋率的測試結構及方法	核准國家: 中華民國 \| 執行單位: 工研院電子所 \| 產出年度: 93 \| 專利性質: 發明 \| 計畫名稱: 工研院精密機械與微機電領域環境建構計畫 \| 專利發明人: 蔡柏豪, 邱景宏, 顏凱翔, 劉文俊, 李裕文 \| 證書號碼: 191701
埋藏式電容結構	核准國家: 中華民國 \| 執行單位: 工研院電子所 \| 產出年度: 93 \| 專利性質: 發明 \| 計畫名稱: 電子關鍵性材料與整合模組發展四年計畫 \| 專利發明人: 卓威明, 魏培森, 翁卿亮, 吳俊昆, 陳昌昇 \| 證書號碼: 192752

表面量測裝置及其之量測方法及校正方法 - 經濟部產業技術司–專利資料集 @ 經濟部

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