薄膜平面型連續式蒸鍍源及製造方法與系統
- 技術司專利資料集 @ 經濟部

專利名稱-中文薄膜平面型連續式蒸鍍源及製造方法與系統的核准國家是日本, 證書號碼是5496929, 專利期間起是120/02/08, 專利期間訖是一種薄膜平面型連續式蒸鍍源及製造方法與系統，將至少一種蒸鍍材料披覆於一基板之其中一面作為蒸鍍源(evaporation source)，該蒸鍍材料分佈之區域係為該蒸鍍材料汽化後可涵蓋該欲蒸鍍基材之區域內，以一加熱裝置裝設於可加熱蒸鍍源基板之區域內，藉由該加熱器對該蒸鍍源提供熱源，將蒸鍍源由固態轉化為..., 專利性質是發明, 執行單位是工研院院本部, 產出年度是103, 計畫名稱是工研院創新前瞻技術研究計畫, 專利發明人是陳建志 ,王慶鈞 ,吳慶輝 ,董福慶.

序號	13467
產出年度	103
領域別	服務創新
專利名稱-中文	薄膜平面型連續式蒸鍍源及製造方法與系統
執行單位	工研院院本部
產出單位	工研院機械所
計畫名稱	工研院創新前瞻技術研究計畫
專利發明人	陳建志 \| 王慶鈞 \| 吳慶輝 \| 董福慶
核准國家	日本
獲證日期	103/03/14
證書號碼	5496929
專利期間起	120/02/08
專利期間訖	一種薄膜平面型連續式蒸鍍源及製造方法與系統，將至少一種蒸鍍材料披覆於一基板之其中一面作為蒸鍍源(evaporation source)，該蒸鍍材料分佈之區域係為該蒸鍍材料汽化後可涵蓋該欲蒸鍍基材之區域內，以一加熱裝置裝設於可加熱蒸鍍源基板之區域內，藉由該加熱器對該蒸鍍源提供熱源，將蒸鍍源由固態轉化為氣態，擴散到欲蒸鍍基材表面，藉由原子或分子的層次控制蒸汽之手段在表面成核、凝結及成長使其形成膜，可以得到以傳統塗佈及噴墨技術所無法得到之具均勻性、奈米尺度調控特性等具有特殊構造及功能的薄膜。
專利性質	發明
技術摘要-中文	一種薄膜平面型連續式蒸鍍源及製造方法與系統，將至少一種蒸鍍材料披覆於一基板之其中一面作為蒸鍍源(evaporation source)，該蒸鍍材料分佈之區域係為該蒸鍍材料汽化後可涵蓋該欲蒸鍍基材之區域內，以一加熱裝置裝設於可加熱蒸鍍源基板之區域內，藉由該加熱器對該蒸鍍源提供熱源，將蒸鍍源由固態轉化為氣態，擴散到欲蒸鍍基材表面，藉由原子或分子的層次控制蒸汽之手段在表面成核、凝結及成長使其形成膜，可以得到以傳統塗佈及噴墨技術所無法得到之具均勻性、奈米尺度調控特性等具有特殊構造及功能的薄膜。
技術摘要-英文	(空)
聯絡人員	李露蘋
電話	03-5918064
傳真	03-5917683
電子信箱	noralp@itri.org.tw
參考網址	(空)
備註	(空)
特殊情形	(空)

序號

13467

產出年度

103

領域別

服務創新

專利名稱-中文

薄膜平面型連續式蒸鍍源及製造方法與系統

執行單位

工研院院本部

產出單位

工研院機械所

計畫名稱

工研院創新前瞻技術研究計畫

專利發明人

陳建志 | 王慶鈞 | 吳慶輝 | 董福慶

核准國家

日本

獲證日期

103/03/14

證書號碼

5496929

專利期間起

120/02/08

專利期間訖

一種薄膜平面型連續式蒸鍍源及製造方法與系統，將至少一種蒸鍍材料披覆於一基板之其中一面作為蒸鍍源(evaporation source)，該蒸鍍材料分佈之區域係為該蒸鍍材料汽化後可涵蓋該欲蒸鍍基材之區域內，以一加熱裝置裝設於可加熱蒸鍍源基板之區域內，藉由該加熱器對該蒸鍍源提供熱源，將蒸鍍源由固態轉化為氣態，擴散到欲蒸鍍基材表面，藉由原子或分子的層次控制蒸汽之手段在表面成核、凝結及成長使其形成膜，可以得到以傳統塗佈及噴墨技術所無法得到之具均勻性、奈米尺度調控特性等具有特殊構造及功能的薄膜。

專利性質

發明

技術摘要-中文

技術摘要-英文

(空)

聯絡人員

李露蘋

電話

03-5918064

傳真

03-5917683

電子信箱

noralp@itri.org.tw

參考網址

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備註

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特殊情形

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毫微型基地台中具有應用層閘道支援網路位址轉換的區域網際網路通訊協定存取系統與方法	核准國家: 中華民國 \| 證書號碼: I431995 \| 專利期間起: 120/03/17 \| 專利期間訖: 一種在毫微型基地台中具有應用層閘道支援網路位址轉換的區域IP存取的方法，允許經由家用e節點或其它毫微型基地台種類而連結的，並且具有IP能力的使用者設備來使用區域IP存取，以與相同IP網路之其它具有IP... \| 專利性質: 發明 \| 執行單位: 工研院院本部 \| 產出年度: 103 \| 計畫名稱: 工研院創新前瞻技術研究計畫 \| 專利發明人: 葛達 \| 楊人順 \| 王瑞堂 \| Shubhranshu Singh \| 黃貴笠 @ 技術司專利資料集
微波等離子體激發裝置	核准國家: 中國大陸 \| 證書號碼: ZL201110065895.3 \| 專利期間起: 120/03/17 \| 專利期間訖: 一種微波電漿激發裝置，包括一電漿反應腔室、一金屬窗框、具有多個窗口之多個窗格、多個微波發射機以及多個導波管。所述金屬窗框設置於電漿反應腔室的一面。窗格設置於金屬窗框的窗口內，微波發射機則設置於電漿反應... \| 專利性質: 發明 \| 執行單位: 工研院院本部 \| 產出年度: 103 \| 計畫名稱: 工研院創新前瞻技術研究計畫 \| 專利發明人: 張志振 \| 黃昆平 \| 謝宇澤 @ 技術司專利資料集
前置編碼與解碼的系統、裝置及方法	核准國家: 中國大陸 \| 證書號碼: ZL200810085399.2 \| 專利期間起: 117/03/12 \| 專利期間訖: 本發明之範例提供了前置編碼裝置與前置解碼裝置。其中，前置編碼裝置採用多個前置編碼單元與多個插序器的串接結構來進行前置編碼，而前置解碼裝置採用多個前置解碼單元與多個反插序器的串接結構來進行前置解碼。因此... \| 專利性質: 發明 \| 執行單位: 工研院院本部 \| 產出年度: 103 \| 計畫名稱: 工研院創新前瞻技術研究計畫 \| 專利發明人: 王煥宗 \| 黃德振 @ 技術司專利資料集
減少上行傳輸多基地台干擾的裝置及方法	核准國家: 美國 \| 證書號碼: 8605803 \| 專利期間起: 120/11/03 \| 專利期間訖: 一種自行動台產生用於上行傳輸的預編碼器的方法與裝置。方法包括接收對應一第一預編碼矩陣和一第二預編碼矩陣的資訊，並藉由線性組合第一預編碼矩陣和第二預編碼矩陣產生預編碼器。其中第一預編碼矩陣最大化行動台和... \| 專利性質: 發明 \| 執行單位: 工研院院本部 \| 產出年度: 103 \| 計畫名稱: 工研院創新前瞻技術研究計畫 \| 專利發明人: 郭秉衡 \| 丁邦安 @ 技術司專利資料集
非接觸式擾動感測裝置	核准國家: 美國 \| 證書號碼: 8665098 \| 專利期間起: 119/09/19 \| 專利期間訖: 一種非接觸式擾動感測裝置包括：至少一接收天線，用以接收一第一無線射頻信號；至少一發射天線，用以發射一第二無線射頻信號至一待測對象，該待測對象反射該第二無線射頻信號成為該第一無線射頻信號；一壓控振盪器，... \| 專利性質: 發明 \| 執行單位: 工研院院本部 \| 產出年度: 103 \| 計畫名稱: 工研院創新前瞻技術研究計畫 \| 專利發明人: 趙哲寬 \| 吳秉勳 @ 技術司專利資料集
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認證方法、金鑰分配方法及認證與金鑰分配方法	核准國家: 中華民國 \| 證書號碼: I432040 \| 專利期間起: 120/05/16 \| 專利期間訖: 本揭露提供一種認證方法、金鑰分配方法以及認證與金鑰分配方法。所述方法適用於機器對機器通信，且包括以下步驟。至少一行動台傳送包括至少一第一安全認證資料的應用程式要求至一網路應用實體，而此第一安全認證資料... \| 專利性質: 發明 \| 執行單位: 工研院院本部 \| 產出年度: 103 \| 計畫名稱: 工研院創新前瞻技術研究計畫 \| 專利發明人: 王瑞堂 \| 黃貴笠 \| Shubhranshu Singh \| 葛達 \| 楊人順 @ 技術司專利資料集
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毫微型基地台中具有應用層閘道支援網路位址轉換的區域網際網路通訊協定存取系統與方法

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微波等離子體激發裝置

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