用於多圖案化的減光型相位移光罩
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專利名稱-中文用於多圖案化的減光型相位移光罩的核准國家是美國, 執行單位是工研院電光所, 產出年度是103, 專利性質是發明, 計畫名稱是高階手持裝置三維整合應用技術計畫, 專利發明人是FREDERICK T. CHEN, 證書號碼是8691478.

序號14021
產出年度103
領域別智慧科技
專利名稱-中文用於多圖案化的減光型相位移光罩
執行單位工研院電光所
產出單位工研院電光所
計畫名稱高階手持裝置三維整合應用技術計畫
專利發明人FREDERICK T. CHEN
核准國家美國
獲證日期103/04/08
證書號碼8691478
專利期間起121/09/21
專利期間訖一種減光型相位移光罩(AttPSM),由一組完全透射區域、具有第一透射率和接近180度的第一相位移的第一相位移區域、與具有第二透射率和第二相位移的第二相位移區域所製造,其中第二透射率高於第一透射率,且第二相位移低於第一相位移。完全透射區域的一些部分相鄰於第一相位移區域,完全透射區域的其他部分相鄰於第二相位移區域。
專利性質發明
技術摘要-中文一種減光型相位移光罩(AttPSM),由一組完全透射區域、具有第一透射率和接近180度的第一相位移的第一相位移區域、與具有第二透射率和第二相位移的第二相位移區域所製造,其中第二透射率高於第一透射率,且第二相位移低於第一相位移。完全透射區域的一些部分相鄰於第一相位移區域,完全透射區域的其他部分相鄰於第二相位移區域。
技術摘要-英文(空)
聯絡人員李露蘋
電話03-59117812
傳真03-5917431
電子信箱oralp@itri.org.tw
參考網址(空)
備註(空)
特殊情形(空)
同步更新日期2019-07-24

序號

14021

產出年度

103

領域別

智慧科技

專利名稱-中文

用於多圖案化的減光型相位移光罩

執行單位

工研院電光所

產出單位

工研院電光所

計畫名稱

高階手持裝置三維整合應用技術計畫

專利發明人

FREDERICK T. CHEN

核准國家

美國

獲證日期

103/04/08

證書號碼

8691478

專利期間起

121/09/21

專利期間訖

一種減光型相位移光罩(AttPSM),由一組完全透射區域、具有第一透射率和接近180度的第一相位移的第一相位移區域、與具有第二透射率和第二相位移的第二相位移區域所製造,其中第二透射率高於第一透射率,且第二相位移低於第一相位移。完全透射區域的一些部分相鄰於第一相位移區域,完全透射區域的其他部分相鄰於第二相位移區域。

專利性質

發明

技術摘要-中文

一種減光型相位移光罩(AttPSM),由一組完全透射區域、具有第一透射率和接近180度的第一相位移的第一相位移區域、與具有第二透射率和第二相位移的第二相位移區域所製造,其中第二透射率高於第一透射率,且第二相位移低於第一相位移。完全透射區域的一些部分相鄰於第一相位移區域,完全透射區域的其他部分相鄰於第二相位移區域。

技術摘要-英文

(空)

聯絡人員

李露蘋

電話

03-59117812

傳真

03-5917431

電子信箱

oralp@itri.org.tw

參考網址

(空)

備註

(空)

特殊情形

(空)

同步更新日期

2019-07-24

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電阻切換式記憶體

核准國家: 中華民國 | 執行單位: 工研院電光所 | 產出年度: 102 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 3D積體電路關鍵技術及應用發展計畫 | 專利發明人: FREDERICK T. CHEN ,蔡銘進 ,陳維恕 ,李亨元 | 證書號碼: I405331

@ 經濟部產業技術司–專利資料集

非揮發性記憶體結構及其製造方法

核准國家: 美國 | 執行單位: 工研院院本部 | 產出年度: 103 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 工研院創新前瞻技術研究計畫 | 專利發明人: FREDERICK T. CHEN | 證書號碼: 8624218

@ 經濟部產業技術司–專利資料集

電阻式隨機存取記憶胞以及電阻式隨機存取記憶模組

核准國家: 美國 | 執行單位: 工研院院本部 | 產出年度: 103 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 工研院創新前瞻技術研究計畫 | 專利發明人: FREDERICK T. CHEN ,李亨元 ,陳佑昇 | 證書號碼: 8711601

@ 經濟部產業技術司–專利資料集

非揮發性記憶體結構及其製造方法

核准國家: 中華民國 | 執行單位: 工研院院本部 | 產出年度: 103 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 工研院創新前瞻技術研究計畫 | 專利發明人: FREDERICK T. CHEN | 證書號碼: I462232

@ 經濟部產業技術司–專利資料集

記憶體單元

核准國家: 美國 | 執行單位: 工研院電光所 | 產出年度: 103 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 高階手持裝置三維整合應用技術計畫 | 專利發明人: FREDERICK T. CHEN ,李亨元 ,陳佑昇 | 證書號碼: 8642985

@ 經濟部產業技術司–專利資料集

記憶體單元之讀取方法

核准國家: 中華民國 | 執行單位: 工研院電光所 | 產出年度: 103 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 高階手持裝置三維整合應用技術計畫 | 專利發明人: FREDERICK T. CHEN | 證書號碼: I433153

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控制方法

核准國家: 美國 | 執行單位: 工研院電光所 | 產出年度: 103 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 高階手持裝置三維整合應用技術計畫 | 專利發明人: 陳佑昇 ,李亨元 ,許雁雅 ,陳邦旭 ,許?之 ,FREDERICK T. CHEN | 證書號碼: 8817521

@ 經濟部產業技術司–專利資料集

電阻式記憶胞及其操作方法,以及電阻式記憶體及其操作方法與製造方法

核准國家: 中華民國 | 執行單位: 工研院電光所 | 產出年度: 103 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 高階手持裝置三維整合應用技術計畫 | 專利發明人: FREDERICK T. CHEN | 證書號碼: I453896

@ 經濟部產業技術司–專利資料集

電阻切換式記憶體

核准國家: 中華民國 | 執行單位: 工研院電光所 | 產出年度: 102 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 3D積體電路關鍵技術及應用發展計畫 | 專利發明人: FREDERICK T. CHEN ,蔡銘進 ,陳維恕 ,李亨元 | 證書號碼: I405331

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非揮發性記憶體結構及其製造方法

核准國家: 美國 | 執行單位: 工研院院本部 | 產出年度: 103 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 工研院創新前瞻技術研究計畫 | 專利發明人: FREDERICK T. CHEN | 證書號碼: 8624218

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電阻式隨機存取記憶胞以及電阻式隨機存取記憶模組

核准國家: 美國 | 執行單位: 工研院院本部 | 產出年度: 103 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 工研院創新前瞻技術研究計畫 | 專利發明人: FREDERICK T. CHEN ,李亨元 ,陳佑昇 | 證書號碼: 8711601

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非揮發性記憶體結構及其製造方法

核准國家: 中華民國 | 執行單位: 工研院院本部 | 產出年度: 103 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 工研院創新前瞻技術研究計畫 | 專利發明人: FREDERICK T. CHEN | 證書號碼: I462232

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記憶體單元

核准國家: 美國 | 執行單位: 工研院電光所 | 產出年度: 103 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 高階手持裝置三維整合應用技術計畫 | 專利發明人: FREDERICK T. CHEN ,李亨元 ,陳佑昇 | 證書號碼: 8642985

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記憶體單元之讀取方法

核准國家: 中華民國 | 執行單位: 工研院電光所 | 產出年度: 103 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 高階手持裝置三維整合應用技術計畫 | 專利發明人: FREDERICK T. CHEN | 證書號碼: I433153

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控制方法

核准國家: 美國 | 執行單位: 工研院電光所 | 產出年度: 103 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 高階手持裝置三維整合應用技術計畫 | 專利發明人: 陳佑昇 ,李亨元 ,許雁雅 ,陳邦旭 ,許?之 ,FREDERICK T. CHEN | 證書號碼: 8817521

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電阻式記憶胞及其操作方法,以及電阻式記憶體及其操作方法與製造方法

核准國家: 中華民國 | 執行單位: 工研院電光所 | 產出年度: 103 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 高階手持裝置三維整合應用技術計畫 | 專利發明人: FREDERICK T. CHEN | 證書號碼: I453896

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透過對話回合間內文關係來減少辨識錯誤的裝置與方法

核准國家: 中華民國 | 執行單位: 工研院資通所 | 產出年度: 99 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 資訊與通訊領域環境建構計畫 | 專利發明人: 吳旭智, 李青憲 | 證書號碼: I321313

@ 經濟部產業技術司–專利資料集

植入奈米碳管之製程方法

核准國家: 中華民國 | 執行單位: 工研院南分院 | 產出年度: 99 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 軟性電子設備及模組技術開發三年計畫 | 專利發明人: 廖仕傑 ,陳輝達 , | 證書號碼: I321123

@ 經濟部產業技術司–專利資料集

多執行緒程式之電源閘控方法以及電源閘控系統

核准國家: 美國 | 執行單位: 工研院資通所 | 產出年度: 100 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 智慧感測網路技術與服務發展計畫 | 專利發明人: 游逸平,李政崑,莊國煜,吳宗憲 | 證書號碼: 7,904,736

@ 經濟部產業技術司–專利資料集

互動式顯示系統

核准國家: 美國 | 執行單位: 工研院資訊中心 | 產出年度: 100 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 智慧感測網路技術與服務發展計畫 | 專利發明人: 林盈孜,蕭詠今,陳右凱,李森,楊博智 | 證書號碼: 7,916,129

@ 經濟部產業技術司–專利資料集

無線環境下定位系統的新取樣點決定方法

核准國家: 中華民國 | 執行單位: 工研院資通所 | 產出年度: 99 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 智慧感測網路技術與服務發展計畫 | 專利發明人: 徐銘駿, 崔文, 陳昭男 | 證書號碼: I321928

@ 經濟部產業技術司–專利資料集

通訊網路下之行動管理方法及裝置

核准國家: 中華民國 | 執行單位: 工研院資通所 | 產出年度: 99 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 新世代行動通訊技術發展計畫 | 專利發明人: 江為國, 何哲勳, 許建昌 | 證書號碼: I321411

@ 經濟部產業技術司–專利資料集

靜電放電防護電路

核准國家: 美國 | 執行單位: 工研院資通所 | 產出年度: 99 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 資訊與通訊領域環境建構計畫 | 專利發明人: 陳世宏, 柯明道 | 證書號碼: 7,692,907

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直流偏移消除電路

核准國家: 中華民國 | 執行單位: 工研院資通所 | 產出年度: 99 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: WiMAX個人行動數位機關鍵技術發展四年計畫 | 專利發明人: 高小文 | 證書號碼: I320993

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透過對話回合間內文關係來減少辨識錯誤的裝置與方法

核准國家: 中華民國 | 執行單位: 工研院資通所 | 產出年度: 99 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 資訊與通訊領域環境建構計畫 | 專利發明人: 吳旭智, 李青憲 | 證書號碼: I321313

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植入奈米碳管之製程方法

核准國家: 中華民國 | 執行單位: 工研院南分院 | 產出年度: 99 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 軟性電子設備及模組技術開發三年計畫 | 專利發明人: 廖仕傑 ,陳輝達 , | 證書號碼: I321123

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多執行緒程式之電源閘控方法以及電源閘控系統

核准國家: 美國 | 執行單位: 工研院資通所 | 產出年度: 100 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 智慧感測網路技術與服務發展計畫 | 專利發明人: 游逸平,李政崑,莊國煜,吳宗憲 | 證書號碼: 7,904,736

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互動式顯示系統

核准國家: 美國 | 執行單位: 工研院資訊中心 | 產出年度: 100 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 智慧感測網路技術與服務發展計畫 | 專利發明人: 林盈孜,蕭詠今,陳右凱,李森,楊博智 | 證書號碼: 7,916,129

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無線環境下定位系統的新取樣點決定方法

核准國家: 中華民國 | 執行單位: 工研院資通所 | 產出年度: 99 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 智慧感測網路技術與服務發展計畫 | 專利發明人: 徐銘駿, 崔文, 陳昭男 | 證書號碼: I321928

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通訊網路下之行動管理方法及裝置

核准國家: 中華民國 | 執行單位: 工研院資通所 | 產出年度: 99 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 新世代行動通訊技術發展計畫 | 專利發明人: 江為國, 何哲勳, 許建昌 | 證書號碼: I321411

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靜電放電防護電路

核准國家: 美國 | 執行單位: 工研院資通所 | 產出年度: 99 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 資訊與通訊領域環境建構計畫 | 專利發明人: 陳世宏, 柯明道 | 證書號碼: 7,692,907

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直流偏移消除電路

核准國家: 中華民國 | 執行單位: 工研院資通所 | 產出年度: 99 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: WiMAX個人行動數位機關鍵技術發展四年計畫 | 專利發明人: 高小文 | 證書號碼: I320993

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與用於多圖案化的減光型相位移光罩同分類的經濟部產業技術司–專利資料集

多重厚度絕緣層製作方法及結構

核准國家: 中華民國 | 執行單位: 工研院電子所 | 產出年度: 93 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 工研院創新前瞻技術研究計畫 | 專利發明人: 陳邦旭, 許博欽, 劉致為 | 證書號碼: 222134

多層式高阻抗平面微型結構

核准國家: 中華民國 | 執行單位: 工研院電子所 | 產出年度: 93 | 專利性質: 新型 | 計畫名稱: 工研院創新前瞻技術研究計畫 | 專利發明人: 黃肇達, 范榮昌, 李明林 | 證書號碼: 218573

微型熱電裝置及其製造方法

核准國家: 中華民國 | 執行單位: 工研院電子所 | 產出年度: 93 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 工研院創新前瞻技術研究計畫 | 專利發明人: 劉君愷 | 證書號碼: 201640

薄膜電晶體及其製造方法

核准國家: 中華民國 | 執行單位: 工研院電子所 | 產出年度: 93 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 下世代平面顯示關鍵技術發展四年計畫 | 專利發明人: 陳振銘, 吳永富 | 證書號碼: 221340

氣密室封裝基台與架構

核准國家: 中華民國 | 執行單位: 工研院電子所 | 產出年度: 93 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 微奈米系統應用技術四年計畫 | 專利發明人: 李宗昇, 利鴻禔 | 證書號碼: 200699

智慧型空調系統

核准國家: 中華民國 | 執行單位: 工研院電子所 | 產出年度: 93 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 微奈米系統應用技術四年計畫 | 專利發明人: 李宗昇, 曾國華, 陳龍德, 游金銘 | 證書號碼: 206662

智慧型空調系統

核准國家: 美國 | 執行單位: 工研院電子所 | 產出年度: 93 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 微奈米系統應用技術四年計畫 | 專利發明人: 李宗昇, 曾國華, 陳龍德, 游金銘 | 證書號碼: 6715689

整合影像顯示之體溫計

核准國家: 中華民國 | 執行單位: 工研院電子所 | 產出年度: 93 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 微奈米系統應用技術四年計畫 | 專利發明人: 李宗昇, 陳龍德, 曾國華, 吳家興 | 證書號碼: 200916

電鍍金屬導線製作方法

核准國家: 中華民國 | 執行單位: 工研院電子所 | 產出年度: 93 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 下世代平面顯示關鍵技術發展四年計畫 | 專利發明人: 黃俊堯, 陳政忠, 吳永富, 蔡政宏, 喬傳國, 朱芳村 | 證書號碼: 206682

場發射顯示器之支撐柱挾持結構與方法

核准國家: 中華民國 | 執行單位: 工研院電子所 | 產出年度: 93 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 下世代平面顯示關鍵技術發展四年計畫 | 專利發明人: 林偉義, 蕭名君, 陳盈憲, 曾企民, 蕭雲嬌 | 證書號碼: 202592

利用TIO2層製作擴散式反射板

核准國家: 中華民國 | 執行單位: 工研院電子所 | 產出年度: 93 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 下世代平面顯示關鍵技術發展四年計畫 | 專利發明人: 廖奇璋, 陳明道, 黃良瑩, 翁逸君, 吳耀庭, 蔡明郎, 溫俊祥, 林顯光 | 證書號碼: 206687

具無機及有機功能性構裝基板

核准國家: 中華民國 | 執行單位: 工研院電子所 | 產出年度: 93 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 工研院創新前瞻技術研究計畫 | 專利發明人: 吳仕先, 李明林, 賴信助 | 證書號碼: 196534

奈米碳管閘極之電晶體結構與製程

核准國家: 中華民國 | 執行單位: 工研院電子所 | 產出年度: 93 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 工研院創新前瞻技術研究計畫 | 專利發明人: 魏拯華, 陳信輝, 賴明駿, 王宏祥, 高明哲 | 證書號碼: 222742

元件轉貼之方法

核准國家: 中華民國 | 執行單位: 工研院電子所 | 產出年度: 93 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 下世代平面顯示關鍵技術發展四年計畫 | 專利發明人: 陳昱丞, 王文通, 張榮芳, 湯景萱 | 證書號碼: 221010

多層互補式導線結構及其製造方法

核准國家: 中華民國 | 執行單位: 工研院電子所 | 產出年度: 93 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 下世代平面顯示關鍵技術發展四年計畫 | 專利發明人: 陳昱丞, 陳麒麟 | 證書號碼: 220775

多重厚度絕緣層製作方法及結構

核准國家: 中華民國 | 執行單位: 工研院電子所 | 產出年度: 93 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 工研院創新前瞻技術研究計畫 | 專利發明人: 陳邦旭, 許博欽, 劉致為 | 證書號碼: 222134

多層式高阻抗平面微型結構

核准國家: 中華民國 | 執行單位: 工研院電子所 | 產出年度: 93 | 專利性質: 新型 | 計畫名稱: 工研院創新前瞻技術研究計畫 | 專利發明人: 黃肇達, 范榮昌, 李明林 | 證書號碼: 218573

微型熱電裝置及其製造方法

核准國家: 中華民國 | 執行單位: 工研院電子所 | 產出年度: 93 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 工研院創新前瞻技術研究計畫 | 專利發明人: 劉君愷 | 證書號碼: 201640

薄膜電晶體及其製造方法

核准國家: 中華民國 | 執行單位: 工研院電子所 | 產出年度: 93 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 下世代平面顯示關鍵技術發展四年計畫 | 專利發明人: 陳振銘, 吳永富 | 證書號碼: 221340

氣密室封裝基台與架構

核准國家: 中華民國 | 執行單位: 工研院電子所 | 產出年度: 93 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 微奈米系統應用技術四年計畫 | 專利發明人: 李宗昇, 利鴻禔 | 證書號碼: 200699

智慧型空調系統

核准國家: 中華民國 | 執行單位: 工研院電子所 | 產出年度: 93 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 微奈米系統應用技術四年計畫 | 專利發明人: 李宗昇, 曾國華, 陳龍德, 游金銘 | 證書號碼: 206662

智慧型空調系統

核准國家: 美國 | 執行單位: 工研院電子所 | 產出年度: 93 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 微奈米系統應用技術四年計畫 | 專利發明人: 李宗昇, 曾國華, 陳龍德, 游金銘 | 證書號碼: 6715689

整合影像顯示之體溫計

核准國家: 中華民國 | 執行單位: 工研院電子所 | 產出年度: 93 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 微奈米系統應用技術四年計畫 | 專利發明人: 李宗昇, 陳龍德, 曾國華, 吳家興 | 證書號碼: 200916

電鍍金屬導線製作方法

核准國家: 中華民國 | 執行單位: 工研院電子所 | 產出年度: 93 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 下世代平面顯示關鍵技術發展四年計畫 | 專利發明人: 黃俊堯, 陳政忠, 吳永富, 蔡政宏, 喬傳國, 朱芳村 | 證書號碼: 206682

場發射顯示器之支撐柱挾持結構與方法

核准國家: 中華民國 | 執行單位: 工研院電子所 | 產出年度: 93 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 下世代平面顯示關鍵技術發展四年計畫 | 專利發明人: 林偉義, 蕭名君, 陳盈憲, 曾企民, 蕭雲嬌 | 證書號碼: 202592

利用TIO2層製作擴散式反射板

核准國家: 中華民國 | 執行單位: 工研院電子所 | 產出年度: 93 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 下世代平面顯示關鍵技術發展四年計畫 | 專利發明人: 廖奇璋, 陳明道, 黃良瑩, 翁逸君, 吳耀庭, 蔡明郎, 溫俊祥, 林顯光 | 證書號碼: 206687

具無機及有機功能性構裝基板

核准國家: 中華民國 | 執行單位: 工研院電子所 | 產出年度: 93 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 工研院創新前瞻技術研究計畫 | 專利發明人: 吳仕先, 李明林, 賴信助 | 證書號碼: 196534

奈米碳管閘極之電晶體結構與製程

核准國家: 中華民國 | 執行單位: 工研院電子所 | 產出年度: 93 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 工研院創新前瞻技術研究計畫 | 專利發明人: 魏拯華, 陳信輝, 賴明駿, 王宏祥, 高明哲 | 證書號碼: 222742

元件轉貼之方法

核准國家: 中華民國 | 執行單位: 工研院電子所 | 產出年度: 93 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 下世代平面顯示關鍵技術發展四年計畫 | 專利發明人: 陳昱丞, 王文通, 張榮芳, 湯景萱 | 證書號碼: 221010

多層互補式導線結構及其製造方法

核准國家: 中華民國 | 執行單位: 工研院電子所 | 產出年度: 93 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 下世代平面顯示關鍵技術發展四年計畫 | 專利發明人: 陳昱丞, 陳麒麟 | 證書號碼: 220775

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