專利名稱-中文一種尋邊裝置結構改良的核准國家是中華民國, 證書號碼是M478561, 專利期間起是112/12/23, 專利期間訖是一種尋邊裝置結構改良, 專利性質是新型, 執行單位是中科院飛彈火箭研究所, 產出年度是103, 計畫名稱是CIGS太陽電池關鍵技術開發計畫, 專利發明人是徐滄銘、高德威、陳燦桐、潘文玨、李人傑.
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| 核准國家: 中華民國 | 證書號碼: I523963 | 專利期間起: 105/03/01 | 專利期間訖: 123/12/09 | 專利性質: 發明 | 執行單位: 中科院飛彈火箭研究所 | 產出年度: 105 | 計畫名稱: 大面積RTP硒/硫化製程技術暨設備自主開發計畫 | 專利發明人: 潘文玨 | 徐滄銘 | 韋士珊 | 陳燦桐 | 李人傑 @ 技術司專利資料集 |
| 核准國家: 中華民國 | 證書號碼: I328113 | 專利期間起: 1999/8/1 | 專利期間訖: 115/12/03 | 專利性質: 發明 | 執行單位: 中科院飛彈所 | 產出年度: 99 | 計畫名稱: 薄膜太陽能製程設備及模組關鍵技術研究發展三年計畫 | 專利發明人: 潘文玨 | 賴哲雄 | 范陽鑑 | 郭豐河 | 黃啟芳 | 方健維 @ 技術司專利資料集 |
| 執行單位: 中科院飛彈所 | 產出年度: 98 | 產出單位: | 計畫名稱: 薄膜太陽能製程設備及模組關鍵技術研究發展三年計畫 | 領域: | 技術規格: 可印製式製備塗佈乾膜厚度達2.5μm以下。 | 潛力預估: 光電面板廠、太陽能製程設備系統。 @ 技術司可移轉技術資料集 |
| 執行單位: 中科院飛彈所 | 產出年度: 99 | 產出單位: | 計畫名稱: 薄膜太陽能製程設備及模組關鍵技術研究發展三年計畫 | 領域: | 技術規格: 熱處理溫度≧800 ℃、加熱速率≧10℃/s、加熱溫度均勻度±1%、底材:玻璃。 | 潛力預估: 薄膜太陽能板製程設備。 @ 技術司可移轉技術資料集 |
| 執行單位: 中科院飛彈所 | 產出年度: 99 | 產出單位: | 計畫名稱: 薄膜太陽能製程設備及模組關鍵技術研究發展三年計畫 | 領域: | 技術規格: 可印製式製備塗佈乾膜厚度達2.0μm以下。 | 潛力預估: 光電面板廠、太陽能製程設備系統。 @ 技術司可移轉技術資料集 |
| 執行單位: 中科院飛彈所 | 產出年度: 100 | 產出單位: | 計畫名稱: 薄膜太陽能製程設備及模組關鍵技術研究發展三年計畫 | 領域: | 技術規格: 可印製式製備塗佈乾膜厚度達2.0μm以下。 | 潛力預估: 光電面板廠、太陽能製程設備系統。 @ 技術司可移轉技術資料集 |
| 執行單位: 中科院飛彈所 | 產出年度: 101 | 產出單位: | 計畫名稱: CIGS太陽電池關鍵技術開發計畫 | 領域: | 技術規格: 卷軸CIGS吸收層精密三階段真空蒸鍍技術蒸鍍溫度穩定度可達1400±1℃,卷軸速率20cm±1cm。 | 潛力預估: 光電面板廠、太陽能製程設備系統。 @ 技術司可移轉技術資料集 |
| 執行單位: 中科院飛彈所 | 產出年度: 102 | 產出單位: | 計畫名稱: CIGS太陽電池關鍵技術開發計畫 | 領域: | 技術規格: 卷軸CIGS採用DSMC分析技術精確計算銅銦鎵硒不同元素,於動態鍍膜狀態下組成率及厚度分佈的均勻性,並因而獲致較佳之噴嘴設計型態,其均勻度可達大面積下之非均勻性小於±5%。 | 潛力預估: 光電面板廠、太陽能製程設備系統。 @ 技術司可移轉技術資料集 |
核准國家: 中華民國 | 證書號碼: I523963 | 專利期間起: 105/03/01 | 專利期間訖: 123/12/09 | 專利性質: 發明 | 執行單位: 中科院飛彈火箭研究所 | 產出年度: 105 | 計畫名稱: 大面積RTP硒/硫化製程技術暨設備自主開發計畫 | 專利發明人: 潘文玨 | 徐滄銘 | 韋士珊 | 陳燦桐 | 李人傑 @ 技術司專利資料集 |
核准國家: 中華民國 | 證書號碼: I328113 | 專利期間起: 1999/8/1 | 專利期間訖: 115/12/03 | 專利性質: 發明 | 執行單位: 中科院飛彈所 | 產出年度: 99 | 計畫名稱: 薄膜太陽能製程設備及模組關鍵技術研究發展三年計畫 | 專利發明人: 潘文玨 | 賴哲雄 | 范陽鑑 | 郭豐河 | 黃啟芳 | 方健維 @ 技術司專利資料集 |
執行單位: 中科院飛彈所 | 產出年度: 98 | 產出單位: | 計畫名稱: 薄膜太陽能製程設備及模組關鍵技術研究發展三年計畫 | 領域: | 技術規格: 可印製式製備塗佈乾膜厚度達2.5μm以下。 | 潛力預估: 光電面板廠、太陽能製程設備系統。 @ 技術司可移轉技術資料集 |
執行單位: 中科院飛彈所 | 產出年度: 99 | 產出單位: | 計畫名稱: 薄膜太陽能製程設備及模組關鍵技術研究發展三年計畫 | 領域: | 技術規格: 熱處理溫度≧800 ℃、加熱速率≧10℃/s、加熱溫度均勻度±1%、底材:玻璃。 | 潛力預估: 薄膜太陽能板製程設備。 @ 技術司可移轉技術資料集 |
執行單位: 中科院飛彈所 | 產出年度: 99 | 產出單位: | 計畫名稱: 薄膜太陽能製程設備及模組關鍵技術研究發展三年計畫 | 領域: | 技術規格: 可印製式製備塗佈乾膜厚度達2.0μm以下。 | 潛力預估: 光電面板廠、太陽能製程設備系統。 @ 技術司可移轉技術資料集 |
執行單位: 中科院飛彈所 | 產出年度: 100 | 產出單位: | 計畫名稱: 薄膜太陽能製程設備及模組關鍵技術研究發展三年計畫 | 領域: | 技術規格: 可印製式製備塗佈乾膜厚度達2.0μm以下。 | 潛力預估: 光電面板廠、太陽能製程設備系統。 @ 技術司可移轉技術資料集 |
執行單位: 中科院飛彈所 | 產出年度: 101 | 產出單位: | 計畫名稱: CIGS太陽電池關鍵技術開發計畫 | 領域: | 技術規格: 卷軸CIGS吸收層精密三階段真空蒸鍍技術蒸鍍溫度穩定度可達1400±1℃,卷軸速率20cm±1cm。 | 潛力預估: 光電面板廠、太陽能製程設備系統。 @ 技術司可移轉技術資料集 |
執行單位: 中科院飛彈所 | 產出年度: 102 | 產出單位: | 計畫名稱: CIGS太陽電池關鍵技術開發計畫 | 領域: | 技術規格: 卷軸CIGS採用DSMC分析技術精確計算銅銦鎵硒不同元素,於動態鍍膜狀態下組成率及厚度分佈的均勻性,並因而獲致較佳之噴嘴設計型態,其均勻度可達大面積下之非均勻性小於±5%。 | 潛力預估: 光電面板廠、太陽能製程設備系統。 @ 技術司可移轉技術資料集 |
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| 核准國家: 中華民國 | 證書號碼: 發明197228 | 專利期間起: 38028 | 專利期間訖: 44781 | 專利性質: 發明 | 執行單位: 資策會 | 產出年度: 93 | 計畫名稱: 航空資料鏈路通訊系統技術研發四年計畫 | 專利發明人: 林伯慎 | 吳盈璋 | 李琳山 |
| 核准國家: 中華民國 | 證書號碼: 發明191099 | 專利期間起: 37936 | 專利期間訖: 44499 | 專利性質: 發明 | 執行單位: 資策會 | 產出年度: 93 | 計畫名稱: 航空資料鏈路通訊系統技術研發四年計畫 | 專利發明人: 馮允棣 | 林武杰 | 蕭永修 |
| 核准國家: 中華民國 | 證書號碼: 發明184817 | 專利期間起: 37854 | 專利期間訖: 44499 | 專利性質: 發明 | 執行單位: 資策會 | 產出年度: 93 | 計畫名稱: 航空資料鏈路通訊系統技術研發四年計畫 | 專利發明人: 馮允棣 | 林武杰 | 蕭永修 |
| 核准國家: 中華民國 | 證書號碼: I222579 | 專利期間起: 38281 | 專利期間訖: 45198 | 專利性質: 發明 | 執行單位: 資策會 | 產出年度: 93 | 計畫名稱: 新世代數位學習環境技術研發計畫 | 專利發明人: 譚正中 |
| 核准國家: 中華民國 | 證書號碼: 204187 | 專利期間起: | 專利期間訖: | 專利性質: 發明 | 執行單位: 資策會 | 產出年度: 93 | 計畫名稱: 資策會創新前瞻技術計畫 | 專利發明人: 張志龍 | 陳友士 |
| 核准國家: 中華民國 | 證書號碼: 195703 | 專利期間起: | 專利期間訖: | 專利性質: 發明 | 執行單位: 資策會 | 產出年度: 93 | 計畫名稱: 資策會創新前瞻技術計畫 | 專利發明人: 陳文鋕 | 張履平 | 蒙以亨 |
| 核准國家: 中華民國 | 證書號碼: 195776 | 專利期間起: 37987 | 專利期間訖: 44767 | 專利性質: 發明 | 執行單位: 資策會 | 產出年度: 93 | 計畫名稱: 資策會創新前瞻技術計畫 | 專利發明人: 周世俊 | 謝文泰 | 蒙以亨 |
| 核准國家: 中華民國 | 證書號碼: 199185 | 專利期間起: | 專利期間訖: | 專利性質: 發明 | 執行單位: 資策會 | 產出年度: 93 | 計畫名稱: 資策會創新前瞻技術計畫 | 專利發明人: 陳文鋕 |
| 核准國家: 中華民國 | 證書號碼: 204708 | 專利期間起: 38139 | 專利期間訖: 44918 | 專利性質: 發明 | 執行單位: 資策會 | 產出年度: 93 | 計畫名稱: 資策會創新前瞻技術計畫 | 專利發明人: 謝文泰 | 周世俊 |
| 核准國家: 中華民國 | 證書號碼: 198948 | 專利期間起: | 專利期間訖: | 專利性質: 發明 | 執行單位: 資策會 | 產出年度: 93 | 計畫名稱: 資策會創新前瞻技術計畫 | 專利發明人: 張履平 | 蔣岳霖 | 陳文鋕 |
| 核准國家: 中華民國 | 證書號碼: 198664 | 專利期間起: | 專利期間訖: | 專利性質: 發明 | 執行單位: 資策會 | 產出年度: 93 | 計畫名稱: 資策會創新前瞻技術計畫 | 專利發明人: 施信德 |
| 核准國家: 中華民國 | 證書號碼: 192858 | 專利期間起: 37956 | 專利期間訖: 44732 | 專利性質: 發明 | 執行單位: 資策會 | 產出年度: 93 | 計畫名稱: 資策會創新前瞻技術計畫 | 專利發明人: 施信德 | 喻瀚寬 |
| 核准國家: 中華民國 | 證書號碼: 198827 | 專利期間起: | 專利期間訖: | 專利性質: 發明 | 執行單位: 資策會 | 產出年度: 93 | 計畫名稱: 資策會創新前瞻技術計畫 | 專利發明人: 施信德 | 陳文鋕 |
| 核准國家: 中華民國 | 證書號碼: 194252 | 專利期間起: | 專利期間訖: | 專利性質: 發明 | 執行單位: 資策會 | 產出年度: 93 | 計畫名稱: 資策會創新前瞻技術計畫 | 專利發明人: 廖炳堯 | 施信德 | 喻瀚寬 |
| 核准國家: 中華民國 | 證書號碼: 220483 | 專利期間起: 38220 | 專利期間訖: 44850 | 專利性質: 發明 | 執行單位: 資策會 | 產出年度: 93 | 計畫名稱: 資策會創新前瞻技術計畫 | 專利發明人: 吳宗德 | 賴志群 |
核准國家: 中華民國 | 證書號碼: 發明197228 | 專利期間起: 38028 | 專利期間訖: 44781 | 專利性質: 發明 | 執行單位: 資策會 | 產出年度: 93 | 計畫名稱: 航空資料鏈路通訊系統技術研發四年計畫 | 專利發明人: 林伯慎 | 吳盈璋 | 李琳山 |
核准國家: 中華民國 | 證書號碼: 發明191099 | 專利期間起: 37936 | 專利期間訖: 44499 | 專利性質: 發明 | 執行單位: 資策會 | 產出年度: 93 | 計畫名稱: 航空資料鏈路通訊系統技術研發四年計畫 | 專利發明人: 馮允棣 | 林武杰 | 蕭永修 |
核准國家: 中華民國 | 證書號碼: 發明184817 | 專利期間起: 37854 | 專利期間訖: 44499 | 專利性質: 發明 | 執行單位: 資策會 | 產出年度: 93 | 計畫名稱: 航空資料鏈路通訊系統技術研發四年計畫 | 專利發明人: 馮允棣 | 林武杰 | 蕭永修 |
核准國家: 中華民國 | 證書號碼: I222579 | 專利期間起: 38281 | 專利期間訖: 45198 | 專利性質: 發明 | 執行單位: 資策會 | 產出年度: 93 | 計畫名稱: 新世代數位學習環境技術研發計畫 | 專利發明人: 譚正中 |
核准國家: 中華民國 | 證書號碼: 204187 | 專利期間起: | 專利期間訖: | 專利性質: 發明 | 執行單位: 資策會 | 產出年度: 93 | 計畫名稱: 資策會創新前瞻技術計畫 | 專利發明人: 張志龍 | 陳友士 |
核准國家: 中華民國 | 證書號碼: 195703 | 專利期間起: | 專利期間訖: | 專利性質: 發明 | 執行單位: 資策會 | 產出年度: 93 | 計畫名稱: 資策會創新前瞻技術計畫 | 專利發明人: 陳文鋕 | 張履平 | 蒙以亨 |
核准國家: 中華民國 | 證書號碼: 195776 | 專利期間起: 37987 | 專利期間訖: 44767 | 專利性質: 發明 | 執行單位: 資策會 | 產出年度: 93 | 計畫名稱: 資策會創新前瞻技術計畫 | 專利發明人: 周世俊 | 謝文泰 | 蒙以亨 |
核准國家: 中華民國 | 證書號碼: 199185 | 專利期間起: | 專利期間訖: | 專利性質: 發明 | 執行單位: 資策會 | 產出年度: 93 | 計畫名稱: 資策會創新前瞻技術計畫 | 專利發明人: 陳文鋕 |
核准國家: 中華民國 | 證書號碼: 204708 | 專利期間起: 38139 | 專利期間訖: 44918 | 專利性質: 發明 | 執行單位: 資策會 | 產出年度: 93 | 計畫名稱: 資策會創新前瞻技術計畫 | 專利發明人: 謝文泰 | 周世俊 |
核准國家: 中華民國 | 證書號碼: 198948 | 專利期間起: | 專利期間訖: | 專利性質: 發明 | 執行單位: 資策會 | 產出年度: 93 | 計畫名稱: 資策會創新前瞻技術計畫 | 專利發明人: 張履平 | 蔣岳霖 | 陳文鋕 |
核准國家: 中華民國 | 證書號碼: 198664 | 專利期間起: | 專利期間訖: | 專利性質: 發明 | 執行單位: 資策會 | 產出年度: 93 | 計畫名稱: 資策會創新前瞻技術計畫 | 專利發明人: 施信德 |
核准國家: 中華民國 | 證書號碼: 192858 | 專利期間起: 37956 | 專利期間訖: 44732 | 專利性質: 發明 | 執行單位: 資策會 | 產出年度: 93 | 計畫名稱: 資策會創新前瞻技術計畫 | 專利發明人: 施信德 | 喻瀚寬 |
核准國家: 中華民國 | 證書號碼: 198827 | 專利期間起: | 專利期間訖: | 專利性質: 發明 | 執行單位: 資策會 | 產出年度: 93 | 計畫名稱: 資策會創新前瞻技術計畫 | 專利發明人: 施信德 | 陳文鋕 |
核准國家: 中華民國 | 證書號碼: 194252 | 專利期間起: | 專利期間訖: | 專利性質: 發明 | 執行單位: 資策會 | 產出年度: 93 | 計畫名稱: 資策會創新前瞻技術計畫 | 專利發明人: 廖炳堯 | 施信德 | 喻瀚寬 |
核准國家: 中華民國 | 證書號碼: 220483 | 專利期間起: 38220 | 專利期間訖: 44850 | 專利性質: 發明 | 執行單位: 資策會 | 產出年度: 93 | 計畫名稱: 資策會創新前瞻技術計畫 | 專利發明人: 吳宗德 | 賴志群 |
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