可微調整製程參數之濺鍍製程控制系統及其方法
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專利名稱-中文可微調整製程參數之濺鍍製程控制系統及其方法的核准國家是中華民國, 證書號碼是I495751, 專利期間起是104/08/11, 專利期間訖是122/07/14, 專利性質是發明, 執行單位是金屬中心, 產出年度是104, 計畫名稱是先進薄膜塗佈整線製程技術暨設備技術開發計畫, 專利發明人是楊思華 ;謝余松 ;李宗信.

序號	16901
產出年度	104
領域別	綠能科技
專利名稱-中文	可微調整製程參數之濺鍍製程控制系統及其方法
執行單位	金屬中心
產出單位	金屬中心
計畫名稱	先進薄膜塗佈整線製程技術暨設備技術開發計畫
專利發明人	楊思華 \| 謝余松 \| 李宗信
核准國家	中華民國
獲證日期	104/08/11
證書號碼	I495751
專利期間起	104/08/11
專利期間訖	122/07/14
專利性質	發明
技術摘要-中文	本發明提供一種可微調整製程參數之濺鍍製程控制系統及其方法，濺鍍製程控制系統利用一類神經模糊控制法則微調整至少一製程參數，類神經模糊控制法則本身具有學習能力，因此無須額外建置資料庫，有效節省建置設備之成本，也節省對資料庫進行搜尋與資料統計運算之時間，有效加快濺鍍製程控制系統之反應時間及調校製程參數之效率。
技術摘要-英文	(空)
聯絡人員	李宗信
電話	*07-6955510329**
傳真	07-6955512
電子信箱	thlee@mail.mirdc.org.tw
參考網址	(空)
備註	(空)
特殊情形	(空)

序號

16901

產出年度

104

領域別

綠能科技

專利名稱-中文

可微調整製程參數之濺鍍製程控制系統及其方法

執行單位

金屬中心

產出單位

金屬中心

計畫名稱

先進薄膜塗佈整線製程技術暨設備技術開發計畫

專利發明人

楊思華 | 謝余松 | 李宗信

核准國家

中華民國

獲證日期

104/08/11

證書號碼

I495751

專利期間起

104/08/11

專利期間訖

122/07/14

專利性質

發明

技術摘要-中文

本發明提供一種可微調整製程參數之濺鍍製程控制系統及其方法，濺鍍製程控制系統利用一類神經模糊控制法則微調整至少一製程參數，類神經模糊控制法則本身具有學習能力，因此無須額外建置資料庫，有效節省建置設備之成本，也節省對資料庫進行搜尋與資料統計運算之時間，有效加快濺鍍製程控制系統之反應時間及調校製程參數之效率。

技術摘要-英文

(空)

聯絡人員

李宗信

電話

07-6955510*329

傳真

07-6955512

電子信箱

thlee@mail.mirdc.org.tw

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主動陣列天線設計技術

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多重複雜斷面之複材導波管及其製法	核准國家: 中華民國 \| 證書號碼: 發明第I 224554號 \| 專利期間起: \| 專利期間訖: \| 專利性質: 發明 \| 執行單位: 中科院軍民通用中心 \| 產出年度: 93 \| 計畫名稱: 材料與化工領域資源釋商科專計畫 \| 專利發明人: 陳育德 \| 林永崑 \| 莊毓蕙 \| 施宗仁 \| 陳振航
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一種利用物理氣相沈積鋁改善γ-鈦鋁介金屬之高溫耐氧化性	核准國家: 中華民國 \| 證書號碼: 發明第207290號 \| 專利期間起: \| 專利期間訖: \| 專利性質: 發明 \| 執行單位: 中科院材料所 \| 產出年度: 93 \| 計畫名稱: 功能性材料應用研究發展四年計畫 \| 專利發明人: 吳鍚侃 \| 朱閔聖 \| 王建義 \| 徐章銓
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可微調整製程參數之濺鍍製程控制系統及其方法 - 技術司專利資料集 @ 經濟部

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領域別

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專利發明人

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專利期間訖

專利性質

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