深度影像擷取裝置、其校正方法與量測方法
- 經濟部產業技術司–專利資料集 @ 經濟部

專利名稱-中文深度影像擷取裝置、其校正方法與量測方法的核准國家是美國, 執行單位是工研院院本部, 產出年度是105, 專利性質是發明, 計畫名稱是工研院創新前瞻技術研究計畫, 專利發明人是劉通發 ,羅文秀 ,陳加珍, 證書號碼是9,319,660.

序號	17591
產出年度	105
領域別	服務創新
專利名稱-中文	深度影像擷取裝置、其校正方法與量測方法
執行單位	工研院院本部
產出單位	工研院電光所
計畫名稱	工研院創新前瞻技術研究計畫
專利發明人	劉通發 ,羅文秀 ,陳加珍
核准國家	美國
獲證日期	105/05/13
證書號碼	9,319,660
專利期間起	105/04/19
專利期間訖	123/04/24
專利性質	發明
技術摘要-中文	一種深度影像擷取裝置、其校正方法與量測方法。深度影像擷取裝置包括至少一投光裝置、至少一影像感測裝置、機構裝置以及處理單元。投光裝置投射出投影圖案至被測物上。影像感測裝置被控制以調整其焦距與聚焦位置，並分別感測真實影像。機構裝置調整影像感測裝置的位置和/或匯聚角。處理單元依據一基準焦距及其對應多個預設節點距離時之多筆影像設定參數組，以分別校正至少一影像感測裝置以獲得於特定基準焦距時之影像設定參數組以及立體量測參數組，並據以計算出被測物的深度分布圖或深度資訊。
技術摘要-英文	(空)
聯絡人員	李露蘋
電話	03-5917812
傳真	03-5917431
電子信箱	oralp@itri.org.tw
參考網址	(空)
備註	(空)
特殊情形	(空)
同步更新日期	2019-07-24

序號

17591

產出年度

105

領域別

服務創新

專利名稱-中文

深度影像擷取裝置、其校正方法與量測方法

執行單位

工研院院本部

產出單位

工研院電光所

計畫名稱

工研院創新前瞻技術研究計畫

專利發明人

劉通發 ,羅文秀 ,陳加珍

核准國家

美國

獲證日期

105/05/13

證書號碼

9,319,660

專利期間起

105/04/19

專利期間訖

123/04/24

專利性質

發明

技術摘要-中文

一種深度影像擷取裝置、其校正方法與量測方法。深度影像擷取裝置包括至少一投光裝置、至少一影像感測裝置、機構裝置以及處理單元。投光裝置投射出投影圖案至被測物上。影像感測裝置被控制以調整其焦距與聚焦位置，並分別感測真實影像。機構裝置調整影像感測裝置的位置和/或匯聚角。處理單元依據一基準焦距及其對應多個預設節點距離時之多筆影像設定參數組，以分別校正至少一影像感測裝置以獲得於特定基準焦距時之影像設定參數組以及立體量測參數組，並據以計算出被測物的深度分布圖或深度資訊。

技術摘要-英文

(空)

聯絡人員

李露蘋

電話

03-5917812

傳真

03-5917431

電子信箱

oralp@itri.org.tw

參考網址

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備註

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特殊情形

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同步更新日期

2019-07-24

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深度影像擷取裝置、其校正方法與量測方法

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3D堆疊封裝散熱模組	核准國家: 美國 \| 執行單位: 工研院電子所 \| 產出年度: 93 \| 專利性質: 發明 \| 計畫名稱: 電子關鍵性材料與整合模組發展四年計畫 \| 專利發明人: 劉君愷, 姜信騰 \| 證書號碼: 6700783
應用奈米管增加半導體元件電容之方法	核准國家: 美國 \| 執行單位: 工研院電子所 \| 產出年度: 93 \| 專利性質: 發明 \| 計畫名稱: 下世代平面顯示關鍵技術發展四年計畫 \| 專利發明人: 李鈞道, 崔秉鉞, 李正中 \| 證書號碼: 6759305
改進之場發射型顯示器驅動方法	核准國家: 美國 \| 執行單位: 工研院電子所 \| 產出年度: 93 \| 專利性質: 發明 \| 計畫名稱: 下世代平面顯示關鍵技術發展四年計畫 \| 專利發明人: 李鈞道, 李正中, 許志榮, 張悠揚 \| 證書號碼: 6741039
氣體吸附式晶圓保護裝置及其方法	核准國家: 中華民國 \| 執行單位: 工研院電子所 \| 產出年度: 93 \| 專利性質: 發明 \| 計畫名稱: 工研院精密機械與微機電領域環境建構計畫 \| 專利發明人: 蘇慧琪, 江松燦 \| 證書號碼: 188211
形成薄膜電晶體於透明基板上之方法	核准國家: 美國 \| 執行單位: 工研院電子所 \| 產出年度: 93 \| 專利性質: 發明 \| 計畫名稱: 下世代平面顯示關鍵技術發展四年計畫 \| 專利發明人: 戴遠東 \| 證書號碼: 6764887
利用灰階曝光法製作傾斜散射式反射板之方法	核准國家: 中華民國 \| 執行單位: 工研院電子所 \| 產出年度: 93 \| 專利性質: 發明 \| 計畫名稱: 下世代平面顯示關鍵技術發展四年計畫 \| 專利發明人: 賴志明, 翁逸君, 廖奇璋 \| 證書號碼: 187289
利用灰階曝光法製作傾斜散射式反射板之方法	核准國家: 美國 \| 執行單位: 工研院電子所 \| 產出年度: 93 \| 專利性質: 發明 \| 計畫名稱: 下世代平面顯示關鍵技術發展四年計畫 \| 專利發明人: 賴志明, 翁逸君, 廖奇璋 \| 證書號碼: 6773870
電流驅動元件主動陣列的畫素電路	核准國家: 中華民國 \| 執行單位: 工研院電子所 \| 產出年度: 93 \| 專利性質: 發明 \| 計畫名稱: 下世代平面顯示關鍵技術發展四年計畫 \| 專利發明人: 陳建儒, 陳尚立, 施俊任 \| 證書號碼: 197219
高密度資料讀寫器及其讀寫方法	核准國家: 中華民國 \| 執行單位: 工研院電子所 \| 產出年度: 93 \| 專利性質: 發明 \| 計畫名稱: 工研院精密機械與微機電領域環境建構計畫 \| 專利發明人: 李裕文, 蔡晴翔, 吳清沂 \| 證書號碼: 200381
半穿透反射式液晶顯示器	核准國家: 中華民國 \| 執行單位: 工研院電子所 \| 產出年度: 93 \| 專利性質: 發明 \| 計畫名稱: 下世代平面顯示關鍵技術發展四年計畫 \| 專利發明人: 陳慶逸, 沈毓仁 \| 證書號碼: 206462
半穿透反射式液晶顯示器	核准國家: 美國 \| 執行單位: 工研院電子所 \| 產出年度: 93 \| 專利性質: 發明 \| 計畫名稱: 下世代平面顯示關鍵技術發展四年計畫 \| 專利發明人: 陳慶逸, 沈毓仁 \| 證書號碼: 6806929
光電模組模封裝	核准國家: 中華民國 \| 執行單位: 工研院電子所 \| 產出年度: 93 \| 專利性質: 新型 \| 計畫名稱: 電子關鍵性材料與整合模組發展四年計畫 \| 專利發明人: 陳文彥, 范榮昌, 劉君愷 \| 證書號碼: 220733
光電元件與光纖連接器之被動對位封裝結構	核准國家: 美國 \| 執行單位: 工研院電子所 \| 產出年度: 93 \| 專利性質: 發明 \| 計畫名稱: 微奈米系統應用技術四年計畫 \| 專利發明人: 姜信騰, 劉君愷, 周意工 \| 證書號碼: 6808323
一次成形之覆晶式閘球陣列半導體構裝與其製造方法	核准國家: 中華民國 \| 執行單位: 工研院電子所 \| 產出年度: 93 \| 專利性質: 發明 \| 計畫名稱: 電子關鍵性材料與整合模組發展四年計畫 \| 專利發明人: 盧思維, 盧威華, 呂芳俊 \| 證書號碼: 190623
一應用半導體構裝治具的雙面組裝方法	核准國家: 中華民國 \| 執行單位: 工研院電子所 \| 產出年度: 93 \| 專利性質: 發明 \| 計畫名稱: 電子關鍵性材料與整合模組發展四年計畫 \| 專利發明人: 呂芳俊, 盧思維, 樓百堯 \| 證書號碼: 184711

深度影像擷取裝置、其校正方法與量測方法 - 經濟部產業技術司–專利資料集 @ 經濟部

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執行單位

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