用於化學氣相沉積的反應裝置及反應製程
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專利名稱-中文用於化學氣相沉積的反應裝置及反應製程的核准國家是美國, 執行單位是工研院院本部, 產出年度是105, 專利性質是發明, 計畫名稱是工研院創新前瞻技術研究計畫, 專利發明人是潘益宗 ,楊慕震, 證書號碼是9,340,875.

序號17811
產出年度105
領域別服務創新
專利名稱-中文用於化學氣相沉積的反應裝置及反應製程
執行單位工研院院本部
產出單位工研院材化所
計畫名稱工研院創新前瞻技術研究計畫
專利發明人潘益宗 ,楊慕震
核准國家美國
獲證日期105/07/28
證書號碼9,340,875
專利期間起105/05/17
專利期間訖122/12/03
專利性質發明
技術摘要-中文一種用於化學氣相沉積的反應裝置,包括一反應室、一托盤、一進氣管單元以及一排氣管。托盤配置於反應室中。進氣管單元包括多個進料口,此些進料口水平朝向托盤的周圍區域,以輸入至少一反應氣體至反應室,此至少一反應氣體被引導由托盤的周圍區域沿著其表面移動至托盤的中央。排氣管包括一出料口,出料口的位置對應於托盤的中央,以將流動至托盤的中央的反應氣體排出於反應室。
技術摘要-英文(空)
聯絡人員李露蘋
電話03-5917812
傳真03-5917431
電子信箱oralp@itri.org.tw
參考網址(空)
備註(空)
特殊情形(空)
同步更新日期2019-07-24

序號

17811

產出年度

105

領域別

服務創新

專利名稱-中文

用於化學氣相沉積的反應裝置及反應製程

執行單位

工研院院本部

產出單位

工研院材化所

計畫名稱

工研院創新前瞻技術研究計畫

專利發明人

潘益宗 ,楊慕震

核准國家

美國

獲證日期

105/07/28

證書號碼

9,340,875

專利期間起

105/05/17

專利期間訖

122/12/03

專利性質

發明

技術摘要-中文

一種用於化學氣相沉積的反應裝置,包括一反應室、一托盤、一進氣管單元以及一排氣管。托盤配置於反應室中。進氣管單元包括多個進料口,此些進料口水平朝向托盤的周圍區域,以輸入至少一反應氣體至反應室,此至少一反應氣體被引導由托盤的周圍區域沿著其表面移動至托盤的中央。排氣管包括一出料口,出料口的位置對應於托盤的中央,以將流動至托盤的中央的反應氣體排出於反應室。

技術摘要-英文

(空)

聯絡人員

李露蘋

電話

03-5917812

傳真

03-5917431

電子信箱

oralp@itri.org.tw

參考網址

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特殊情形

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同步更新日期

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性感x塑身. 3

作者: あちゅむち作; 蘇奕軒譯 | 出版機構: 青文 | 版次: | 預訂出版日: 112/03 | 適讀對象: 青少年 | 頁數: | 得獎紀錄: | ISBN: 978-626-340-875-3 (EPUB)

@ 臺灣出版新書預告書訊

星際騎士. 4, 逃出火星

作者: 米歇爾.派寇弗(Michael Peinkofer)文; 丹尼爾.恩勒(Daniel Ernie)圖; 葉靖文譯 | 出版機構: 韋伯文化國際 | 版次: | 預訂出版日: 108/11 | 適讀對象: 兒童(6-12) | 頁數: 192 | 得獎紀錄: | ISBN: 978-986-427-340-9 (平裝, NT$250, 192面, 21公分)

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性感x塑身. 3

作者: あちゅむち作; 蘇奕軒譯 | 出版機構: 青文 | 版次: | 預訂出版日: 112/03 | 適讀對象: 青少年 | 頁數: | 得獎紀錄: | ISBN: 978-626-340-875-3 (EPUB)

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星際騎士. 4, 逃出火星

作者: 米歇爾.派寇弗(Michael Peinkofer)文; 丹尼爾.恩勒(Daniel Ernie)圖; 葉靖文譯 | 出版機構: 韋伯文化國際 | 版次: | 預訂出版日: 108/11 | 適讀對象: 兒童(6-12) | 頁數: 192 | 得獎紀錄: | ISBN: 978-986-427-340-9 (平裝, NT$250, 192面, 21公分)

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用於化學氣相沉積的反應裝置及反應製程

核准國家: 中華民國 | 執行單位: 工研院院本部 | 產出年度: 105 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 工研院創新前瞻技術研究計畫 | 專利發明人: 潘益宗 ,楊慕震 | 證書號碼: I502096

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用於化學氣相沉積的反應裝置及反應製程

核准國家: 中華民國 | 執行單位: 工研院院本部 | 產出年度: 105 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 工研院創新前瞻技術研究計畫 | 專利發明人: 潘益宗 ,楊慕震 | 證書號碼: I502096

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用於化學氣相沉積的反應裝置及反應制作工藝

核准國家: 中國大陸 | 執行單位: 工研院院本部 | 產出年度: 105 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 工研院創新前瞻技術研究計畫 | 專利發明人: 潘益宗 ,楊慕震 | 證書號碼: ZL201310292652.2

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氣體分佈裝置

核准國家: 中華民國 | 執行單位: 工研院機械所 | 產出年度: 105 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 機械與系統領域工業基礎技術研究計畫 | 專利發明人: 王慶鈞 ,蔡陳德 ,潘益宗 ,林義鈞 ,黃智勇 ,楊慕震 ,林龔樑 ,陳冠州 | 證書號碼: I548773

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核准國家: 中國大陸 | 執行單位: 工研院院本部 | 產出年度: 105 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 工研院創新前瞻技術研究計畫 | 專利發明人: 潘益宗 ,楊慕震 | 證書號碼: ZL201310292652.2

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核准國家: 中華民國 | 執行單位: 工研院機械所 | 產出年度: 105 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 機械與系統領域工業基礎技術研究計畫 | 專利發明人: 王慶鈞 ,蔡陳德 ,潘益宗 ,林義鈞 ,黃智勇 ,楊慕震 ,林龔樑 ,陳冠州 | 證書號碼: I548773

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揚聲器單體結構

核准國家: 中國大陸 | 執行單位: 工研院電光所 | 產出年度: 102 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 軟性電子模組與應用技術發展計畫 | 專利發明人: 陳明道 ,劉昌和 , | 證書號碼: ZL200810211084.8

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晶圓級模封接合結構及其製造方法

核准國家: 美國 | 執行單位: 工研院電光所 | 產出年度: 102 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 軟性電子模組與應用技術發展計畫 | 專利發明人: 陸蘇財 ,莊敬業 ,林育民 | 證書號碼: 8,384,215

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感測裝置及其掃描驅動方法

核准國家: 美國 | 執行單位: 工研院南分院 | 產出年度: 102 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 軟性電子模組與應用技術發展計畫 | 專利發明人: 沈煜棠 ,葉紹興 | 證書號碼: 8,416,213

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揚聲器單體結構

核准國家: 中國大陸 | 執行單位: 工研院電光所 | 產出年度: 102 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 軟性電子模組與應用技術發展計畫 | 專利發明人: 劉昌和 ,陳明道 | 證書號碼: ZL200710184913.3

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平面揚聲器單體與揚聲器裝置

核准國家: 中國大陸 | 執行單位: 工研院電光所 | 產出年度: 102 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 軟性電子模組與應用技術發展計畫 | 專利發明人: 劉昌和 ,陳明道 | 證書號碼: ZL200910202828.4

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平面揚聲器單體與揚聲器裝置

核准國家: 美國 | 執行單位: 工研院電光所 | 產出年度: 102 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 軟性電子模組與應用技術發展計畫 | 專利發明人: 劉昌和 ,陳明道 | 證書號碼: 8,391,520

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照明裝置

核准國家: 中華民國 | 執行單位: 工研院電光所 | 產出年度: 102 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 軟性電子模組與應用技術發展計畫 | 專利發明人: 黃承揚 ,許詔開 | 證書號碼: I402456

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Amphiphilic block copolymers and nanoparticles comprising the same

核准國家: 美國 | 執行單位: 工研院生醫所 | 產出年度: 104 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 智慧標靶藥物傳輸技術及應用開發計畫 | 專利發明人: 謝明發, 張學曾, 陳進富, 張原嘉, 甘霈, 林才祐 | 證書號碼: 8,940,333

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揚聲器單體結構

核准國家: 中國大陸 | 執行單位: 工研院電光所 | 產出年度: 102 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 軟性電子模組與應用技術發展計畫 | 專利發明人: 陳明道 ,劉昌和 , | 證書號碼: ZL200810211084.8

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晶圓級模封接合結構及其製造方法

核准國家: 美國 | 執行單位: 工研院電光所 | 產出年度: 102 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 軟性電子模組與應用技術發展計畫 | 專利發明人: 陸蘇財 ,莊敬業 ,林育民 | 證書號碼: 8,384,215

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感測裝置及其掃描驅動方法

核准國家: 美國 | 執行單位: 工研院南分院 | 產出年度: 102 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 軟性電子模組與應用技術發展計畫 | 專利發明人: 沈煜棠 ,葉紹興 | 證書號碼: 8,416,213

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揚聲器單體結構

核准國家: 中國大陸 | 執行單位: 工研院電光所 | 產出年度: 102 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 軟性電子模組與應用技術發展計畫 | 專利發明人: 劉昌和 ,陳明道 | 證書號碼: ZL200710184913.3

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平面揚聲器單體與揚聲器裝置

核准國家: 中國大陸 | 執行單位: 工研院電光所 | 產出年度: 102 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 軟性電子模組與應用技術發展計畫 | 專利發明人: 劉昌和 ,陳明道 | 證書號碼: ZL200910202828.4

@ 經濟部產業技術司–專利資料集

平面揚聲器單體與揚聲器裝置

核准國家: 美國 | 執行單位: 工研院電光所 | 產出年度: 102 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 軟性電子模組與應用技術發展計畫 | 專利發明人: 劉昌和 ,陳明道 | 證書號碼: 8,391,520

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照明裝置

核准國家: 中華民國 | 執行單位: 工研院電光所 | 產出年度: 102 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 軟性電子模組與應用技術發展計畫 | 專利發明人: 黃承揚 ,許詔開 | 證書號碼: I402456

@ 經濟部產業技術司–專利資料集

Amphiphilic block copolymers and nanoparticles comprising the same

核准國家: 美國 | 執行單位: 工研院生醫所 | 產出年度: 104 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 智慧標靶藥物傳輸技術及應用開發計畫 | 專利發明人: 謝明發, 張學曾, 陳進富, 張原嘉, 甘霈, 林才祐 | 證書號碼: 8,940,333

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懸臂式測試卡及其製造方法

核准國家: 中華民國 | 執行單位: 工研院電子所 | 產出年度: 93 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 工研院精密機械與微機電領域環境建構計畫 | 專利發明人: 李政鴻, 李新立, 陳宜孝 | 證書號碼: 184677

懸臂式測試卡及其製造方法

核准國家: 美國 | 執行單位: 工研院電子所 | 產出年度: 93 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 工研院精密機械與微機電領域環境建構計畫 | 專利發明人: 李政鴻, 李新立, 陳宜孝 | 證書號碼: 6651325

矽深蝕刻反應離子蝕刻延遲的解決方法

核准國家: 中華民國 | 執行單位: 工研院電子所 | 產出年度: 93 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 微奈米系統應用技術四年計畫 | 專利發明人: 鍾震桂, 盧慧娟 | 證書號碼: 184681

3D堆疊封裝散熱模組

核准國家: 美國 | 執行單位: 工研院電子所 | 產出年度: 93 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 電子關鍵性材料與整合模組發展四年計畫 | 專利發明人: 劉君愷, 姜信騰 | 證書號碼: 6700783

應用奈米管增加半導體元件電容之方法

核准國家: 美國 | 執行單位: 工研院電子所 | 產出年度: 93 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 下世代平面顯示關鍵技術發展四年計畫 | 專利發明人: 李鈞道, 崔秉鉞, 李正中 | 證書號碼: 6759305

改進之場發射型顯示器驅動方法

核准國家: 美國 | 執行單位: 工研院電子所 | 產出年度: 93 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 下世代平面顯示關鍵技術發展四年計畫 | 專利發明人: 李鈞道, 李正中, 許志榮, 張悠揚 | 證書號碼: 6741039

氣體吸附式晶圓保護裝置及其方法

核准國家: 中華民國 | 執行單位: 工研院電子所 | 產出年度: 93 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 工研院精密機械與微機電領域環境建構計畫 | 專利發明人: 蘇慧琪, 江松燦 | 證書號碼: 188211

形成薄膜電晶體於透明基板上之方法

核准國家: 美國 | 執行單位: 工研院電子所 | 產出年度: 93 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 下世代平面顯示關鍵技術發展四年計畫 | 專利發明人: 戴遠東 | 證書號碼: 6764887

利用灰階曝光法製作傾斜散射式反射板之方法

核准國家: 中華民國 | 執行單位: 工研院電子所 | 產出年度: 93 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 下世代平面顯示關鍵技術發展四年計畫 | 專利發明人: 賴志明, 翁逸君, 廖奇璋 | 證書號碼: 187289

利用灰階曝光法製作傾斜散射式反射板之方法

核准國家: 美國 | 執行單位: 工研院電子所 | 產出年度: 93 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 下世代平面顯示關鍵技術發展四年計畫 | 專利發明人: 賴志明, 翁逸君, 廖奇璋 | 證書號碼: 6773870

電流驅動元件主動陣列的畫素電路

核准國家: 中華民國 | 執行單位: 工研院電子所 | 產出年度: 93 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 下世代平面顯示關鍵技術發展四年計畫 | 專利發明人: 陳建儒, 陳尚立, 施俊任 | 證書號碼: 197219

高密度資料讀寫器及其讀寫方法

核准國家: 中華民國 | 執行單位: 工研院電子所 | 產出年度: 93 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 工研院精密機械與微機電領域環境建構計畫 | 專利發明人: 李裕文, 蔡晴翔, 吳清沂 | 證書號碼: 200381

半穿透反射式液晶顯示器

核准國家: 中華民國 | 執行單位: 工研院電子所 | 產出年度: 93 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 下世代平面顯示關鍵技術發展四年計畫 | 專利發明人: 陳慶逸, 沈毓仁 | 證書號碼: 206462

半穿透反射式液晶顯示器

核准國家: 美國 | 執行單位: 工研院電子所 | 產出年度: 93 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 下世代平面顯示關鍵技術發展四年計畫 | 專利發明人: 陳慶逸, 沈毓仁 | 證書號碼: 6806929

光電模組模封裝

核准國家: 中華民國 | 執行單位: 工研院電子所 | 產出年度: 93 | 專利性質: 新型 | 計畫名稱: 電子關鍵性材料與整合模組發展四年計畫 | 專利發明人: 陳文彥, 范榮昌, 劉君愷 | 證書號碼: 220733

懸臂式測試卡及其製造方法

核准國家: 中華民國 | 執行單位: 工研院電子所 | 產出年度: 93 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 工研院精密機械與微機電領域環境建構計畫 | 專利發明人: 李政鴻, 李新立, 陳宜孝 | 證書號碼: 184677

懸臂式測試卡及其製造方法

核准國家: 美國 | 執行單位: 工研院電子所 | 產出年度: 93 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 工研院精密機械與微機電領域環境建構計畫 | 專利發明人: 李政鴻, 李新立, 陳宜孝 | 證書號碼: 6651325

矽深蝕刻反應離子蝕刻延遲的解決方法

核准國家: 中華民國 | 執行單位: 工研院電子所 | 產出年度: 93 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 微奈米系統應用技術四年計畫 | 專利發明人: 鍾震桂, 盧慧娟 | 證書號碼: 184681

3D堆疊封裝散熱模組

核准國家: 美國 | 執行單位: 工研院電子所 | 產出年度: 93 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 電子關鍵性材料與整合模組發展四年計畫 | 專利發明人: 劉君愷, 姜信騰 | 證書號碼: 6700783

應用奈米管增加半導體元件電容之方法

核准國家: 美國 | 執行單位: 工研院電子所 | 產出年度: 93 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 下世代平面顯示關鍵技術發展四年計畫 | 專利發明人: 李鈞道, 崔秉鉞, 李正中 | 證書號碼: 6759305

改進之場發射型顯示器驅動方法

核准國家: 美國 | 執行單位: 工研院電子所 | 產出年度: 93 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 下世代平面顯示關鍵技術發展四年計畫 | 專利發明人: 李鈞道, 李正中, 許志榮, 張悠揚 | 證書號碼: 6741039

氣體吸附式晶圓保護裝置及其方法

核准國家: 中華民國 | 執行單位: 工研院電子所 | 產出年度: 93 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 工研院精密機械與微機電領域環境建構計畫 | 專利發明人: 蘇慧琪, 江松燦 | 證書號碼: 188211

形成薄膜電晶體於透明基板上之方法

核准國家: 美國 | 執行單位: 工研院電子所 | 產出年度: 93 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 下世代平面顯示關鍵技術發展四年計畫 | 專利發明人: 戴遠東 | 證書號碼: 6764887

利用灰階曝光法製作傾斜散射式反射板之方法

核准國家: 中華民國 | 執行單位: 工研院電子所 | 產出年度: 93 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 下世代平面顯示關鍵技術發展四年計畫 | 專利發明人: 賴志明, 翁逸君, 廖奇璋 | 證書號碼: 187289

利用灰階曝光法製作傾斜散射式反射板之方法

核准國家: 美國 | 執行單位: 工研院電子所 | 產出年度: 93 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 下世代平面顯示關鍵技術發展四年計畫 | 專利發明人: 賴志明, 翁逸君, 廖奇璋 | 證書號碼: 6773870

電流驅動元件主動陣列的畫素電路

核准國家: 中華民國 | 執行單位: 工研院電子所 | 產出年度: 93 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 下世代平面顯示關鍵技術發展四年計畫 | 專利發明人: 陳建儒, 陳尚立, 施俊任 | 證書號碼: 197219

高密度資料讀寫器及其讀寫方法

核准國家: 中華民國 | 執行單位: 工研院電子所 | 產出年度: 93 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 工研院精密機械與微機電領域環境建構計畫 | 專利發明人: 李裕文, 蔡晴翔, 吳清沂 | 證書號碼: 200381

半穿透反射式液晶顯示器

核准國家: 中華民國 | 執行單位: 工研院電子所 | 產出年度: 93 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 下世代平面顯示關鍵技術發展四年計畫 | 專利發明人: 陳慶逸, 沈毓仁 | 證書號碼: 206462

半穿透反射式液晶顯示器

核准國家: 美國 | 執行單位: 工研院電子所 | 產出年度: 93 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 下世代平面顯示關鍵技術發展四年計畫 | 專利發明人: 陳慶逸, 沈毓仁 | 證書號碼: 6806929

光電模組模封裝

核准國家: 中華民國 | 執行單位: 工研院電子所 | 產出年度: 93 | 專利性質: 新型 | 計畫名稱: 電子關鍵性材料與整合模組發展四年計畫 | 專利發明人: 陳文彥, 范榮昌, 劉君愷 | 證書號碼: 220733

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