異因分析與校正方法與系統
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專利名稱-中文異因分析與校正方法與系統的核准國家是中華民國, 證書號碼是I543102, 專利期間起是105/07/21, 專利期間訖是123/10/21, 專利性質是發明, 執行單位是工研院機械所, 產出年度是105, 計畫名稱是關鍵製造業製程高值化拔尖計畫, 專利發明人是鄭光宏 ,夏啟峻 ,林順傑 ,蔡煥文.

序號	18361
產出年度	105
領域別	製造精進
專利名稱-中文	異因分析與校正方法與系統
執行單位	工研院機械所
產出單位	工研院資通所
計畫名稱	關鍵製造業製程高值化拔尖計畫
專利發明人	鄭光宏 \| 夏啟峻 \| 林順傑 \| 蔡煥文
核准國家	中華民國
獲證日期	105/08/22
證書號碼	I543102
專利期間起	105/07/21
專利期間訖	123/10/21
專利性質	發明
技術摘要-中文	一種異因分析與校正方法與系統，根據多筆歷史製程資料，建立異常分類規則及正常分類規則
技術摘要-英文	比對目前的一單筆製程資料與異常分類規則，識別此單筆製程資料符合的異常規則及所屬的異常類別
聯絡人員	比對此單筆製程資料與正常分類規則，決定一校正規則，並且決定此單筆製程資料所包含的多個製程參數中至少一製程參數的校正值
電話	從與此單筆製程資料符合相同條件的歷史製程資料，擷取異常特徵，並且從符合此校正規則的所有歷史製程資料，擷取正常特徵
傳真	以及根據這些異常特徵與正常特徵，評估此多個製程參數對於此製程資料的異因貢獻度。
電子信箱	(空)
參考網址	http://李露蘋
備註	03-5917812
特殊情形	.

序號

18361

產出年度

105

領域別

製造精進

專利名稱-中文

異因分析與校正方法與系統

執行單位

工研院機械所

產出單位

工研院資通所

計畫名稱

關鍵製造業製程高值化拔尖計畫

專利發明人

鄭光宏 | 夏啟峻 | 林順傑 | 蔡煥文

核准國家

中華民國

獲證日期

105/08/22

證書號碼

I543102

專利期間起

105/07/21

專利期間訖

123/10/21

專利性質

發明

技術摘要-中文

一種異因分析與校正方法與系統，根據多筆歷史製程資料，建立異常分類規則及正常分類規則

技術摘要-英文

比對目前的一單筆製程資料與異常分類規則，識別此單筆製程資料符合的異常規則及所屬的異常類別

聯絡人員

比對此單筆製程資料與正常分類規則，決定一校正規則，並且決定此單筆製程資料所包含的多個製程參數中至少一製程參數的校正值

電話

從與此單筆製程資料符合相同條件的歷史製程資料，擷取異常特徵，並且從符合此校正規則的所有歷史製程資料，擷取正常特徵

傳真

以及根據這些異常特徵與正常特徵，評估此多個製程參數對於此製程資料的異因貢獻度。

電子信箱

(空)

參考網址

http://李露蘋

備註

03-5917812

特殊情形

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液晶顯示器之製作方法

核准國家: 中華民國 | 證書號碼: 206803 | 專利期間起: | 專利期間訖: | 專利性質: 發明 | 執行單位: 工研院電子所 | 產出年度: 93 | 計畫名稱: 工研院通訊與光電領域環境建構計畫 | 專利發明人: 范揚宜 | 江欣峻 | 林英哲 | 翁逸君 | 何璨佑 | 辛隆賓 | 劉康弘 | 吳仲文 | 沙益安