利用電子迴旋共振與射頻混成電漿化學氣相沉積系統製備氮摻雜類鑽石碳薄膜
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論文名稱利用電子迴旋共振與射頻混成電漿化學氣相沉積系統製備氮摻雜類鑽石碳薄膜的作者是陳柏霖, 指導教授是柯文政, 學位類別是碩士, 畢業學年度是106, 論文名稱(外文)是Growth of nitrogen doped DLC thin-film by ECR/RF hybrid plasma chemical vapor deposition system, 系所名稱是材料科學與工程系, 學校名稱是國立臺灣科技大學.
論文名稱 | 利用電子迴旋共振與射頻混成電漿化學氣相沉積系統製備氮摻雜類鑽石碳薄膜 |
論文名稱(外文) | Growth of nitrogen doped DLC thin-film by ECR/RF hybrid plasma chemical vapor deposition system |
學校名稱 | 國立臺灣科技大學 |
系所名稱 | 材料科學與工程系 |
畢業學年度 | 106 |
學位類別 | 碩士 |
作者 | 陳柏霖 |
指導教授 | 柯文政 |
博碩士論文網址 | https://hdl.handle.net/11296/8zb2sz |
論文名稱利用電子迴旋共振與射頻混成電漿化學氣相沉積系統製備氮摻雜類鑽石碳薄膜 |
論文名稱(外文)Growth of nitrogen doped DLC thin-film by ECR/RF hybrid plasma chemical vapor deposition system |
學校名稱國立臺灣科技大學 |
系所名稱材料科學與工程系 |
畢業學年度106 |
學位類別碩士 |
作者陳柏霖 |
指導教授柯文政 |
博碩士論文網址https://hdl.handle.net/11296/8zb2sz |