深次微米IC製程特用化學品與應用技術開發
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計畫名稱深次微米IC製程特用化學品與應用技術開發的公司名稱是台灣永光化學工業股份有限公司, 計畫起訖時間是88年7月1日至91年6月30日(共36個月), 計畫總經費是236260, 計畫補助款是44800, 計畫自籌款是191460, 計畫摘要是(一)公司簡介創立日期：民國61年。負責人：陳定川。主要營業項目：染料及色料製造、紫外光吸收劑、醫藥原料藥、電子化學品及特用化學品等。(二)政府補助原因說明本計畫以建立我國特化產業開發超微量分析技術與電子及特化品技術能力，達成ＩＣ產業關鍵原料，與技術自主性，增強ＩＣ產業整體競爭力。(三)計畫概述....

公司名稱	台灣永光化學工業股份有限公司
計畫名稱	深次微米IC製程特用化學品與應用技術開發
計畫起訖時間	88年7月1日至91年6月30日(共36個月)
計畫總經費	236260
計畫補助款	44800
計畫自籌款	191460
計畫摘要	(一)公司簡介創立日期：民國61年。負責人：陳定川。主要營業項目：染料及色料製造、紫外光吸收劑、醫藥原料藥、電子化學品及特用化學品等。(二)政府補助原因說明本計畫以建立我國特化產業開發超微量分析技術與電子及特化品技術能力，達成ＩＣ產業關鍵原料，與技術自主性，增強ＩＣ產業整體競爭力。(三)計畫概述本計畫的主要目的在開發深次微米IC製程之關鍵材料，其中包括深紫外光光阻劑、高效能化學機械研磨漿料及其應用技術。希望藉由在這兩個領域的技術開發與突破，提昇我國特用化學品在下一世代電子工業應用上的層次，並強化我國產業體質及國際之競爭力。 1.深紫外光光阻劑主要包括四大項目： (1)248 nm深紫外光光阻劑與應用技術開發。 (2)193 nm深紫外光光阻劑與應用技術開發。 (3)建立空氣媒介分子污染(AMC)鑑定分析技術。 (4)建立離子之分析技術及去離子技術。 2.高效能化學機械研磨漿料包含： (1)鋁合金化學機械研磨漿料開發。 (2)銅導線化學機械研磨漿料開發。 (3)低介電常數介質膜化學機械研磨漿料開發。 (4)粉體特性研究與檢測技術。 (5)研磨漿料應用技術開發。在技術基礎上，以本公司自有的人力、物力、相關資源、以及既有之深厚研發基礎，配合文獻分析及專利管理研究，再透過與國內外相關學術機構及工業團體的合作交流形成一個全方位的研究能量，進行系統性的分析及探討研究，以達成既定之目標。在研發時程上，經由高效率的時間管理及擬定之計劃架構，逐步完成深紫外光光阻劑及化學機械研磨漿料階段性的核心技術。(四)預期效益（包括對產業之貢獻）1.建立國內電子產業所需之高純度及高性能特化品之合成、改質、純化、配料及製程等關鍵技術。 2.開發深紫外光光阻劑，應用於0.18 um以下深次微米IC製程。 3.開發0.35 um(含)以下IC平坦化技術化學機械研磨所使用之研磨液。

公司名稱

台灣永光化學工業股份有限公司

計畫名稱

深次微米IC製程特用化學品與應用技術開發

計畫起訖時間

88年7月1日至91年6月30日(共36個月)

計畫總經費

236260

計畫補助款

44800

計畫自籌款

191460

計畫摘要

(一)公司簡介創立日期：民國61年。負責人：陳定川。主要營業項目：染料及色料製造、紫外光吸收劑、醫藥原料藥、電子化學品及特用化學品等。(二)政府補助原因說明本計畫以建立我國特化產業開發超微量分析技術與電子及特化品技術能力，達成ＩＣ產業關鍵原料，與技術自主性，增強ＩＣ產業整體競爭力。(三)計畫概述本計畫的主要目的在開發深次微米IC製程之關鍵材料，其中包括深紫外光光阻劑、高效能化學機械研磨漿料及其應用技術。希望藉由在這兩個領域的技術開發與突破，提昇我國特用化學品在下一世代電子工業應用上的層次，並強化我國產業體質及國際之競爭力。 1.深紫外光光阻劑主要包括四大項目： (1)248 nm深紫外光光阻劑與應用技術開發。 (2)193 nm深紫外光光阻劑與應用技術開發。 (3)建立空氣媒介分子污染(AMC)鑑定分析技術。 (4)建立離子之分析技術及去離子技術。 2.高效能化學機械研磨漿料包含： (1)鋁合金化學機械研磨漿料開發。 (2)銅導線化學機械研磨漿料開發。 (3)低介電常數介質膜化學機械研磨漿料開發。 (4)粉體特性研究與檢測技術。 (5)研磨漿料應用技術開發。在技術基礎上，以本公司自有的人力、物力、相關資源、以及既有之深厚研發基礎，配合文獻分析及專利管理研究，再透過與國內外相關學術機構及工業團體的合作交流形成一個全方位的研究能量，進行系統性的分析及探討研究，以達成既定之目標。在研發時程上，經由高效率的時間管理及擬定之計劃架構，逐步完成深紫外光光阻劑及化學機械研磨漿料階段性的核心技術。(四)預期效益（包括對產業之貢獻）1.建立國內電子產業所需之高純度及高性能特化品之合成、改質、純化、配料及製程等關鍵技術。 2.開發深紫外光光阻劑，應用於0.18 um以下深次微米IC製程。 3.開發0.35 um(含)以下IC平坦化技術化學機械研磨所使用之研磨液。

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平面顯示前瞻材料與元件技術整合性計畫

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綠色背光模組及材料技術先期研究開發計畫

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苯磺酸貝托斯汀"臺灣永光"

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防曬隔離潤色乳 SPF50+/★★★、光采無暇隔離防曬乳 SPF50+/★★★、創新安護清爽防曬乳(白透色)SPF50+/★★★、創新全護清爽防曬乳(亮膚色)SPF50+/★★★、光采無暇隔離防曬乳S...

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台灣永光化學工業的黃頁資料

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台灣永光化學工業股份有限公司 | 地址: 台南市安南區工業二路31號707室研2館 | 電話: 06-384-2730

台灣永光化學工業股份有限公司 | 地址: 桃園市觀音區工業三路12號 | 電話: 03-483-8088

台灣永光化學工業股份有限公司 | 地址: 彰化縣彰化市平和十一街5號 | 電話: 04-761-6343

台灣永光化學工業股份有限公司 | 地址: 台北市大安區敦化南路二段77號6樓 | 電話: 02-2703-1144

台灣永光化學工業股份有限公司 | 地址: 台北市大安區敦化南路二段77號6樓 | 電話: 02-2706-6006

台灣永光化學工業股份有限公司 | 地址: 台南市安平區慶平路203號 | 電話: 06-297-9989

台灣永光化學工業股份有限公司 | 地址: 桃園市大園區中山北路271號 | 電話: 03-386-8081

台灣永光化學工業股份有限公司 | 地址: 桃園市觀音區成功路二段937號 | 電話: 03-483-7682

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