多晶矽薄膜的形成方法
- 技術司專利資料集 @ 經濟部

專利名稱-中文多晶矽薄膜的形成方法的核准國家是美國, 證書號碼是7939434, 專利期間起是100/05/10, 專利期間訖是117/09/26, 專利性質是發明, 執行單位是工研院顯示中心, 產出年度是100, 計畫名稱是新世代捲軸軟性顯示關鍵技術發展計畫, 專利發明人是曾志遠,彭逸軒,葉永輝,黃俊杰,蔡政儒,.

序號	8681
產出年度	100
領域別	電資通光
專利名稱-中文	多晶矽薄膜的形成方法
執行單位	工研院顯示中心
產出單位	工研院顯示中心
計畫名稱	新世代捲軸軟性顯示關鍵技術發展計畫
專利發明人	曾志遠 \| 彭逸軒 \| 葉永輝 \| 黃俊杰 \| 蔡政儒
核准國家	美國
獲證日期	100/06/14
證書號碼	7939434
專利期間起	100/05/10
專利期間訖	117/09/26
專利性質	發明
技術摘要-中文	新世代捲軸軟性顯示關鍵技術發展計畫
技術摘要-英文	(空)
聯絡人員	廖素珍
電話	03-5916501
傳真	03-5920467
電子信箱	suchenliao@itri.org.tw
參考網址	(空)
備註	(空)
特殊情形	(空)

序號

8681

產出年度

100

領域別

電資通光

專利名稱-中文

多晶矽薄膜的形成方法

執行單位

工研院顯示中心

產出單位

工研院顯示中心

計畫名稱

新世代捲軸軟性顯示關鍵技術發展計畫

專利發明人

曾志遠 | 彭逸軒 | 葉永輝 | 黃俊杰 | 蔡政儒

核准國家

美國

獲證日期

100/06/14

證書號碼

7939434

專利期間起

100/05/10

專利期間訖

117/09/26

專利性質

發明

技術摘要-中文

新世代捲軸軟性顯示關鍵技術發展計畫

技術摘要-英文

(空)

聯絡人員

廖素珍

電話

03-5916501

傳真

03-5920467

電子信箱

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多晶矽薄膜的形成方法	核准國家: 中華民國 \| 證書號碼: I348730 \| 專利期間起: 100/09/11 \| 專利期間訖: 116/07/16 \| 專利性質: 發明 \| 執行單位: 工研院顯示中心 \| 產出年度: 100 \| 計畫名稱: 新世代捲軸軟性顯示關鍵技術發展計畫 \| 專利發明人: 曾志遠,彭逸軒,葉永輝,黃俊杰,蔡政儒, @ 技術司專利資料集
多晶矽薄膜的形成方法	核准國家: 美國 \| 證書號碼: 7,939,434 \| 專利期間起: 100/05/10 \| 專利期間訖: 117/09/26 \| 專利性質: 發明 \| 執行單位: 工研院顯示中心 \| 產出年度: 100 \| 計畫名稱: 新世代捲軸軟性顯示關鍵技術發展計畫 \| 專利發明人: 曾志遠,彭逸軒,葉永輝,黃俊杰,蔡政儒, @ 技術司專利資料集

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三極場發射顯示器	核准國家: 美國 \| 證書號碼: 7,683,531 \| 專利期間起: 99/03/23 \| 專利期間訖: 116/07/03 \| 專利性質: 發明 \| 執行單位: 工研院顯示中心 \| 產出年度: 99 \| 計畫名稱: 新世代捲軸軟性顯示關鍵技術發展計畫 \| 專利發明人: 林炳南 ,李正中 ,張悠揚 ,林偉義 , @ 技術司專利資料集
列印資料處理裝置及其方法	核准國家: 美國 \| 證書號碼: 7,637,578 \| 專利期間起: 98/12/29 \| 專利期間訖: 117/07/07 \| 專利性質: 發明 \| 執行單位: 工研院顯示中心 \| 產出年度: 99 \| 計畫名稱: 新世代捲軸軟性顯示關鍵技術發展計畫 \| 專利發明人: 張家銘 ,鄭兆凱 ,林智堅 ,邱至軒 , @ 技術司專利資料集
步階式充放電之低功率液晶顯示器的驅動電路及其驅動方法	核准國家: 日本 \| 證書號碼: 4702725 \| 專利期間起: 100/03/18 \| 專利期間訖: 109/08/03 \| 專利性質: 發明 \| 執行單位: 工研院電光所 \| 產出年度: 100 \| 計畫名稱: 新世代捲軸軟性顯示關鍵技術發展計畫 \| 專利發明人: 陳尚立,易建宇, @ 技術司專利資料集
半反射半穿透液晶顯示器及其製造方法	核准國家: 美國 \| 證書號碼: 8,089,595 \| 專利期間起: 101/01/03 \| 專利期間訖: 119/01/03 \| 專利性質: 發明 \| 執行單位: 工研院電光所 \| 產出年度: 101 \| 計畫名稱: 先進互動與3D顯示系統技術關鍵計畫 \| 專利發明人: 陳中豪,廖奇璋,沙益安, @ 技術司專利資料集
彩色膽固醇液晶顯示器裝置以及其驅動方法	核准國家: 中華民國 \| 證書號碼: I368077 \| 專利期間起: 101/07/11 \| 專利期間訖: 117/03/03 \| 專利性質: 發明 \| 執行單位: 工研院顯示中心 \| 產出年度: 101 \| 計畫名稱: 先進互動與3D顯示系統技術關鍵計畫 \| 專利發明人: 李達為,胥智文,沙益安,張郁培, @ 技術司專利資料集
電子元件裝置及其製造方法	核准國家: 中華民國 \| 證書號碼: I370933 \| 專利期間起: 101/08/21 \| 專利期間訖: 117/03/30 \| 專利性質: 發明 \| 執行單位: 工研院顯示中心 \| 產出年度: 101 \| 計畫名稱: 先進互動與3D顯示系統技術關鍵計畫 \| 專利發明人: 廖貞慧,詹立雄,彭智平,賴詩文, @ 技術司專利資料集
電晶體陣列下板	核准國家: 中華民國 \| 證書號碼: I360011 \| 專利期間起: 101/03/11 \| 專利期間訖: 117/10/08 \| 專利性質: 發明 \| 執行單位: 工研院顯示中心 \| 產出年度: 101 \| 計畫名稱: 先進互動與3D顯示系統技術關鍵計畫 \| 專利發明人: 林政偉,何金原,黃彥士 @ 技術司專利資料集
半反射半穿透液晶顯示器及其製造方法	核准國家: 美國 \| 證書號碼: 8089595 \| 專利期間起: 101/01/03 \| 專利期間訖: 119/01/03 \| 專利性質: 發明 \| 執行單位: 工研院電光所 \| 產出年度: 101 \| 計畫名稱: 先進互動與3D顯示系統技術關鍵計畫 \| 專利發明人: 陳中豪,廖奇璋,沙益安, @ 技術司專利資料集

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與多晶矽薄膜的形成方法同分類的技術司專利資料集

壓制電流分配的充放電路	核准國家: 美國 \| 證書號碼: 6,794,911 \| 專利期間起: \| 專利期間訖: \| 專利性質: 發明 \| 執行單位: 工研院晶片中心 \| 產出年度: 93 \| 計畫名稱: 晶片系統關鍵技術發展四年計畫 \| 專利發明人: 張毓仁
電力控制電路	核准國家: 中華民國 \| 證書號碼: 214743 \| 專利期間起: \| 專利期間訖: \| 專利性質: 新型 \| 執行單位: 工研院量測中心 \| 產出年度: 93 \| 計畫名稱: 自動光學顯微檢測設備技術三年計畫 \| 專利發明人: 陳盛仁, 楊景榮, 林俊宏, 陳燦林
提高掃頻電路頻率解析與準確度之系統	核准國家: 中華民國 \| 證書號碼: 184318 \| 專利期間起: \| 專利期間訖: \| 專利性質: 發明 \| 執行單位: 工研院量測中心 \| 產出年度: 93 \| 計畫名稱: 自動光學顯微檢測設備技術三年計畫 \| 專利發明人: 郭晉榮,黃俊雄
低頻率漂移數位頻率調制裝置	核准國家: 中華民國 \| 證書號碼: 195328 \| 專利期間起: \| 專利期間訖: \| 專利性質: 發明 \| 執行單位: 工研院量測中心 \| 產出年度: 93 \| 計畫名稱: 自動光學顯微檢測設備技術三年計畫 \| 專利發明人: 高炳文, 謝賜山, 紀秋棉
光學編碼器定位裝置	核准國家: 中華民國 \| 證書號碼: 193120 \| 專利期間起: \| 專利期間訖: \| 專利性質: 發明 \| 執行單位: 工研院量測中心 \| 產出年度: 93 \| 計畫名稱: 自動光學顯微檢測設備技術三年計畫 \| 專利發明人: 林慶芳
影像偵測元件與其與待測物件相對移動方向之垂直偏移度量測方法	核准國家: 中華民國 \| 證書號碼: 200068 \| 專利期間起: \| 專利期間訖: \| 專利性質: 發明 \| 執行單位: 工研院量測中心 \| 產出年度: 93 \| 計畫名稱: 自動光學顯微檢測設備技術三年計畫 \| 專利發明人: 林俊育, 宋新岳, 羅偕益
熱釋電型感測器信號轉換電路	核准國家: 中華民國 \| 證書號碼: 197821 \| 專利期間起: \| 專利期間訖: \| 專利性質: 發明 \| 執行單位: 工研院量測中心 \| 產出年度: 93 \| 計畫名稱: 自動光學顯微檢測設備技術三年計畫 \| 專利發明人: 涂鐘範, 林耀明
顯示裝置之檢測系統及方法	核准國家: 中華民國 \| 證書號碼: 220689 \| 專利期間起: \| 專利期間訖: \| 專利性質: 發明 \| 執行單位: 工研院量測中心 \| 產出年度: 93 \| 計畫名稱: 自動光學顯微檢測設備技術三年計畫 \| 專利發明人: 田立芬, 葉峻毅, 楊福祥
寬頻掃頻電路架構	核准國家: 中華民國 \| 證書號碼: 198444 \| 專利期間起: \| 專利期間訖: \| 專利性質: 發明 \| 執行單位: 工研院量測中心 \| 產出年度: 93 \| 計畫名稱: 自動光學顯微檢測設備技術三年計畫 \| 專利發明人: 郭晉榮, 謝賜山
光源產生裝置及方法	核准國家: 中華民國 \| 證書號碼: 200164 \| 專利期間起: \| 專利期間訖: \| 專利性質: 發明 \| 執行單位: 工研院量測中心 \| 產出年度: 93 \| 計畫名稱: 自動光學顯微檢測設備技術三年計畫 \| 專利發明人: 林勝雄, 江敏華, 郭葉琮
相位差調整裝置及方法以及應用該相位差調整裝置之感測裝置	核准國家: 中華民國 \| 證書號碼: 206753 \| 專利期間起: \| 專利期間訖: \| 專利性質: 發明 \| 執行單位: 工研院量測中心 \| 產出年度: 93 \| 計畫名稱: 自動光學顯微檢測設備技術三年計畫 \| 專利發明人: 楊景榮, 高清芬, 陳譽元
新型窄長平直薄型基材專用浸泡塗佈裝置	核准國家: 中華民國 \| 證書號碼: 206450 \| 專利期間起: \| 專利期間訖: \| 專利性質: 發明 \| 執行單位: 工研院量測中心 \| 產出年度: 93 \| 計畫名稱: 自動光學顯微檢測設備技術三年計畫 \| 專利發明人: 葉清銘, 陳燦林, 陳譽元
反射尺讀頭裝置	核准國家: 中華民國 \| 證書號碼: 201496 \| 專利期間起: \| 專利期間訖: \| 專利性質: 發明 \| 執行單位: 工研院量測中心 \| 產出年度: 93 \| 計畫名稱: 自動光學顯微檢測設備技術三年計畫 \| 專利發明人: 林慶芳, 高清芬, 陳燦林, 陳譽元
物體表面三維形貌量測方法和系統	核准國家: 中華民國 \| 證書號碼: 200161 \| 專利期間起: \| 專利期間訖: \| 專利性質: 發明 \| 執行單位: 工研院量測中心 \| 產出年度: 93 \| 計畫名稱: 自動光學顯微檢測設備技術三年計畫 \| 專利發明人: 宋新岳, 田立芬
利用共軛光路量測二維位移量之方法	核准國家: 美國 \| 證書號碼: 6,744,520 \| 專利期間起: \| 專利期間訖: \| 專利性質: 發明 \| 執行單位: 工研院量測中心 \| 產出年度: 93 \| 計畫名稱: 工研院創新前瞻技術研究計畫 \| 專利發明人: 張中柱, 高清芬, 李世光

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