圓素
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作品名稱圓素的作者是黃文英, 縣市是新竹市, 場域是園區, 設置地點是新竹.
#圓素的地圖
| 系統編號 | 710 |
| 作品編號 | P086-300-05 |
| 作品名稱 | 圓素 |
| 作者 | 黃文英 |
| 作品尺寸 | 90*400cm、60*400cm、70*400cm |
| 作品材質 | 不繡鋼絲、紅銅色漆包線、照明燈具 |
| 縣市 | 新竹市 |
| 設置地點 | 新竹 |
| 經度 | 121.002371 |
| 緯度 | 24.783828 |
| 場域 | 園區 |
| 經費萬 | 292.2965 |
| 經費說明 | (空) |
| 取得方式 | 公開徵選 |
| 執行小組 | 王維志、林鴻志、李鎮宜、黃世昌、潘冀、蕭耀輝、薛保瑕、洪致美 |
| 徵選小組 | 王維志、林鴻志、李鎮宜、黃世昌、潘冀、蕭耀輝、薛保瑕、洪致美、劉鎮洲、陳建北、王嘉驥 |
| 策劃單位 | (空) |
| 作品說明 | 以三個單純的圓形圖案，各旋轉而不斷組成不同的面貌，用比喻的手法具象呈現在奈米尺度下晶圓的世界。 |
| 主圖 |  |
| 創作年代yyyy | 2005 |
| 來源網站 | https://publicart.moc.gov.tw/home/zh-tw/works/710 |
| 委託單位 | 財團法人國家實驗研究院國家奈米元件實驗室 |
系統編號710 |
作品編號P086-300-05 |
作品名稱圓素 |
作者黃文英 |
作品尺寸90*400cm、60*400cm、70*400cm |
作品材質不繡鋼絲、紅銅色漆包線、照明燈具 |
縣市新竹市 |
設置地點新竹 |
經度121.002371 |
緯度24.783828 |
場域園區 |
經費萬292.2965 |
經費說明(空) |
取得方式公開徵選 |
執行小組王維志、林鴻志、李鎮宜、黃世昌、潘冀、蕭耀輝、薛保瑕、洪致美 |
徵選小組王維志、林鴻志、李鎮宜、黃世昌、潘冀、蕭耀輝、薛保瑕、洪致美、劉鎮洲、陳建北、王嘉驥 |
策劃單位(空) |
作品說明以三個單純的圓形圖案，各旋轉而不斷組成不同的面貌，用比喻的手法具象呈現在奈米尺度下晶圓的世界。 |
主圖 |
創作年代yyyy2005 |
來源網站https://publicart.moc.gov.tw/home/zh-tw/works/710 |
委託單位財團法人國家實驗研究院國家奈米元件實驗室 |
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(以下顯示 8 筆) (或要:直接搜尋所有 圓素 ...)| 序號 | 428 |
| 產出年度 | 93 |
| 技術名稱-中文 | 極低應力超精密拋光及晶圓平坦化技術 |
| 執行單位 | 中科院飛彈所 |
| 產出單位 | (空) |
| 計畫名稱 | 新興產業精密機械系統關鍵技術研究發展三年計畫 |
| 領域 | (空) |
| 已申請專利之國家 | (空) |
| 已獲得專利之國家 | (空) |
| 技術現況敘述-中文 | ．晶圓平坦化整合設計、分析、製造系統技術
．均勻壓力施壓方式及非線性壓力分析
．精密加工
．主軸剛性之分析、設計、材料選用及精密製造
．震動隔離技術
．拋光基礎機制技術及芬析
．機台自動化整合技術
．極低之下壓力( Extremely Low Down Force ) |
| 技術現況敘述-英文 | (空) |
| 技術規格 | 極低之下壓力( Extremely Low Down Force ) 低於0.5Psi壓力達到傳統拋光之研磨率及均勻度 |
| 技術成熟度 | 實驗室階段 |
| 可應用範圍 | 平面顯示器拋光及平坦化、晶圓素材及IC積體電路拋光及平坦化、光學儀器超精密研磨 |
| 潛力預估 | 超精密拋光技術之市場極為龐大，如單以IC晶圓之平坦化設備市場而言，民國92年全世界製程設備市場預估為l3億美元，預估93年達到19億美元，至99年時可達65億美元 |
| 聯絡人員 | 潘文玨 |
| 電話 | 03-4456460 |
| 傳真 | 03-4711605 |
| 電子信箱 | (空) |
| 參考網址 | (空) |
| 所須軟硬體設備 | 控制系統 |
| 需具備之專業人才 | 機械、電機、半導體製程、化學 |
| 序號: 428 |
| 產出年度: 93 |
| 技術名稱-中文: 極低應力超精密拋光及晶圓平坦化技術 |
| 執行單位: 中科院飛彈所 |
| 產出單位: (空) |
| 計畫名稱: 新興產業精密機械系統關鍵技術研究發展三年計畫 |
| 領域: (空) |
| 已申請專利之國家: (空) |
| 已獲得專利之國家: (空) |
| 技術現況敘述-中文: ．晶圓平坦化整合設計、分析、製造系統技術
．均勻壓力施壓方式及非線性壓力分析
．精密加工
．主軸剛性之分析、設計、材料選用及精密製造
．震動隔離技術
．拋光基礎機制技術及芬析
．機台自動化整合技術
．極低之下壓力( Extremely Low Down Force ) |
| 技術現況敘述-英文: (空) |
| 技術規格: 極低之下壓力( Extremely Low Down Force ) 低於0.5Psi壓力達到傳統拋光之研磨率及均勻度 |
| 技術成熟度: 實驗室階段 |
| 可應用範圍: 平面顯示器拋光及平坦化、晶圓素材及IC積體電路拋光及平坦化、光學儀器超精密研磨 |
| 潛力預估: 超精密拋光技術之市場極為龐大，如單以IC晶圓之平坦化設備市場而言，民國92年全世界製程設備市場預估為l3億美元，預估93年達到19億美元，至99年時可達65億美元 |
| 聯絡人員: 潘文玨 |
| 電話: 03-4456460 |
| 傳真: 03-4711605 |
| 電子信箱: (空) |
| 參考網址: (空) |
| 所須軟硬體設備: 控制系統 |
| 需具備之專業人才: 機械、電機、半導體製程、化學 |
| 序號 | 734 |
| 產出年度 | 94 |
| 技術名稱-中文 | 極低應力超精密拋光及晶圓平坦化技術 |
| 執行單位 | 中科院飛彈所 |
| 產出單位 | (空) |
| 計畫名稱 | 新興產業精密機械系統關鍵技術研究發展三年計畫 |
| 領域 | (空) |
| 已申請專利之國家 | (空) |
| 已獲得專利之國家 | (空) |
| 技術現況敘述-中文 | 晶圓平坦化整合設計、分析、製造系統技術；均勻壓力施壓方式及非線性壓力分析；精密加工；主軸剛性之分析、設計、材料選用及精密製造；震動隔離技術；拋光基礎機制技術及芬析；機台自動化整合技術；極低之下壓力( Extremely Low Down Force )。 |
| 技術現況敘述-英文 | (空) |
| 技術規格 | 極低之下壓力( Extremely Low Down Force ) 低於0.5Psi壓力達到傳統拋光之研磨率及均勻度 |
| 技術成熟度 | 實驗室階段 |
| 可應用範圍 | 平面顯示器拋光及平坦化、晶圓素材及IC積體電路拋光及平坦化、光學儀器超精密研磨 |
| 潛力預估 | 超精密拋光技術之市場極為龐大，如單以IC晶圓之平坦化設備市場而言，民國92年全世界製程設備市場預估為l3億美元，預估93年達到19億美元，至99年時可達65億美元 |
| 聯絡人員 | 潘文玨 |
| 電話 | 03-4456460 |
| 傳真 | 03-4711605 |
| 電子信箱 | (空) |
| 參考網址 | (空) |
| 所須軟硬體設備 | 控制系統 |
| 需具備之專業人才 | 機械、電機、半導體製程、化學 |
| 序號: 734 |
| 產出年度: 94 |
| 技術名稱-中文: 極低應力超精密拋光及晶圓平坦化技術 |
| 執行單位: 中科院飛彈所 |
| 產出單位: (空) |
| 計畫名稱: 新興產業精密機械系統關鍵技術研究發展三年計畫 |
| 領域: (空) |
| 已申請專利之國家: (空) |
| 已獲得專利之國家: (空) |
| 技術現況敘述-中文: 晶圓平坦化整合設計、分析、製造系統技術；均勻壓力施壓方式及非線性壓力分析；精密加工；主軸剛性之分析、設計、材料選用及精密製造；震動隔離技術；拋光基礎機制技術及芬析；機台自動化整合技術；極低之下壓力( Extremely Low Down Force )。 |
| 技術現況敘述-英文: (空) |
| 技術規格: 極低之下壓力( Extremely Low Down Force ) 低於0.5Psi壓力達到傳統拋光之研磨率及均勻度 |
| 技術成熟度: 實驗室階段 |
| 可應用範圍: 平面顯示器拋光及平坦化、晶圓素材及IC積體電路拋光及平坦化、光學儀器超精密研磨 |
| 潛力預估: 超精密拋光技術之市場極為龐大，如單以IC晶圓之平坦化設備市場而言，民國92年全世界製程設備市場預估為l3億美元，預估93年達到19億美元，至99年時可達65億美元 |
| 聯絡人員: 潘文玨 |
| 電話: 03-4456460 |
| 傳真: 03-4711605 |
| 電子信箱: (空) |
| 參考網址: (空) |
| 所須軟硬體設備: 控制系統 |
| 需具備之專業人才: 機械、電機、半導體製程、化學 |
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| 邱裕盛 | 高雄市 | 場域: 學校 | 高雄市立鼎金國民中學活動中心 |
| 賴新龍 | 高雄市 | 場域: 學校 | 高雄市立楠梓高級中學 |
| 賴新龍 | 高雄市 | 場域: 學校 | 高雄市立楠梓高級中學 |
| 陳麗杏 | 高雄市 | 場域: 學校 | 國立高雄大學 |
| 姜憲明 | 高雄市 | 場域: 學校 | 國立高雄大學 |
| 姜憲明 | 高雄市 | 場域: 學校 | 國立高雄大學 |
| 陳麗杏 | 高雄市 | 場域: 學校 | 國立高雄大學 |
| 江龍 | 高雄市 | 場域: 學校 | 國立高雄大學 |
| 姜憲明 | 高雄市 | 場域: 其他 | 台灣高雄少年法院 |
| 黃裕智 | 高雄市 | 場域: 其他 | 台灣高雄少年法院 |
| 黃靜怡、施育廷 Ching-Yi Huang, Yu-Ting Shih | 臺北市 | 場域: 學校 | 106臺北市大安區和平東路二段94號 各教室及辦公室門口 |
| 雷驤 Xiang Lei | 臺北市 | 場域: 學校 | 106臺北市大安區臥龍街170號 室外電梯車廂 |
| 林勝正 Sheng-Zen Li | 臺北市 | 場域: 其他 | 106臺北市大安區復興南路二段92號 建築物正面外側二樓鋼構雨庇上 |
| 林書民 Shu-Min Li | 臺北市 | 場域: 廣場 | 111臺北市士林區士商路189號 國立臺灣科學教育館 |
| 保羅·布瑞 Pol Bury | 臺北市 | 場域: 廣場 | 111臺北市士林區士商路189號國立臺灣科學教育館 |
邱裕盛 | 高雄市 | 場域: 學校 | 高雄市立鼎金國民中學活動中心 |
賴新龍 | 高雄市 | 場域: 學校 | 高雄市立楠梓高級中學 |
賴新龍 | 高雄市 | 場域: 學校 | 高雄市立楠梓高級中學 |
陳麗杏 | 高雄市 | 場域: 學校 | 國立高雄大學 |
姜憲明 | 高雄市 | 場域: 學校 | 國立高雄大學 |
姜憲明 | 高雄市 | 場域: 學校 | 國立高雄大學 |
陳麗杏 | 高雄市 | 場域: 學校 | 國立高雄大學 |
江龍 | 高雄市 | 場域: 學校 | 國立高雄大學 |
姜憲明 | 高雄市 | 場域: 其他 | 台灣高雄少年法院 |
黃裕智 | 高雄市 | 場域: 其他 | 台灣高雄少年法院 |
黃靜怡、施育廷 Ching-Yi Huang, Yu-Ting Shih | 臺北市 | 場域: 學校 | 106臺北市大安區和平東路二段94號 各教室及辦公室門口 |
雷驤 Xiang Lei | 臺北市 | 場域: 學校 | 106臺北市大安區臥龍街170號 室外電梯車廂 |
林勝正 Sheng-Zen Li | 臺北市 | 場域: 其他 | 106臺北市大安區復興南路二段92號 建築物正面外側二樓鋼構雨庇上 |
林書民 Shu-Min Li | 臺北市 | 場域: 廣場 | 111臺北市士林區士商路189號 國立臺灣科學教育館 |
保羅·布瑞 Pol Bury | 臺北市 | 場域: 廣場 | 111臺北市士林區士商路189號國立臺灣科學教育館 |
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