焦點
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作品名稱焦點的作者是蔡政維, 縣市是基隆市, 場域是學校, 設置地點是206 基隆市七堵區東新街20號 正心樓後側.
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(以下顯示 8 筆) (或要:直接搜尋所有 焦點 ...)| 序號 | 15767 |
| 產出年度 | 104 |
| 領域別 | 服務創新 |
| 專利名稱-中文 | 非線性動態聚焦控制方法 |
| 執行單位 | 工研院院本部 |
| 產出單位 | 工研院資通所 |
| 計畫名稱 | 工研院創新前瞻技術研究計畫 |
| 專利發明人 | 何從廉 ,陳仁智 |
| 核准國家 | 中華民國 |
| 獲證日期 | 104/01/29 |
| 證書號碼 | I470258 |
| 專利期間起 | 104/01/21 |
| 專利期間訖 | 122/05/06 |
| 專利性質 | 發明 |
| 技術摘要-中文 | 一種非線性動態聚焦控制方法，包括：(1)以具有最小長度與最大長度之掃瞄線中之該最小長度作為初始位置，並於該掃瞄線上配置聚焦點；(2)計算聚焦點之半焦深，將該初始位置加上該聚焦點之半焦深作為該聚焦點位於該掃瞄線上之位置；(3)以該聚焦點位於該掃瞄線上之位置向該最大長度之方向加上該聚焦點之半焦深作為下一聚焦點之計算起始位置；以及(4)判斷該下一聚焦點之計算起始位置是否大於該最大長度，若否，則以該下一聚焦點之計算起始位置取代該初始位置，重複步驟(2)至(3)，若是，則結束計算；其中，該掃瞄線上之該些聚焦點位置係依據點波源擴散函數之位移不變特性而呈非線性分佈。據此，本發明之非線性動態聚焦控制方法能更有效率地配置聚焦點並降低具有陣列換能器之成像系統的運算複雜度。 |
| 技術摘要-英文 | (空) |
| 聯絡人員 | 李露蘋 |
| 電話 | 03-5917812 |
| 傳真 | 03-5917431 |
| 電子信箱 | oralp@itri.org.tw |
| 參考網址 | (空) |
| 備註 | (空) |
| 特殊情形 | (空) |
| 序號: 15767 |
| 產出年度: 104 |
| 領域別: 服務創新 |
| 專利名稱-中文: 非線性動態聚焦控制方法 |
| 執行單位: 工研院院本部 |
| 產出單位: 工研院資通所 |
| 計畫名稱: 工研院創新前瞻技術研究計畫 |
| 專利發明人: 何從廉 ,陳仁智 |
| 核准國家: 中華民國 |
| 獲證日期: 104/01/29 |
| 證書號碼: I470258 |
| 專利期間起: 104/01/21 |
| 專利期間訖: 122/05/06 |
| 專利性質: 發明 |
| 技術摘要-中文: 一種非線性動態聚焦控制方法，包括：(1)以具有最小長度與最大長度之掃瞄線中之該最小長度作為初始位置，並於該掃瞄線上配置聚焦點；(2)計算聚焦點之半焦深，將該初始位置加上該聚焦點之半焦深作為該聚焦點位於該掃瞄線上之位置；(3)以該聚焦點位於該掃瞄線上之位置向該最大長度之方向加上該聚焦點之半焦深作為下一聚焦點之計算起始位置；以及(4)判斷該下一聚焦點之計算起始位置是否大於該最大長度，若否，則以該下一聚焦點之計算起始位置取代該初始位置，重複步驟(2)至(3)，若是，則結束計算；其中，該掃瞄線上之該些聚焦點位置係依據點波源擴散函數之位移不變特性而呈非線性分佈。據此，本發明之非線性動態聚焦控制方法能更有效率地配置聚焦點並降低具有陣列換能器之成像系統的運算複雜度。 |
| 技術摘要-英文: (空) |
| 聯絡人員: 李露蘋 |
| 電話: 03-5917812 |
| 傳真: 03-5917431 |
| 電子信箱: oralp@itri.org.tw |
| 參考網址: (空) |
| 備註: (空) |
| 特殊情形: (空) |
| 序號 | 18636 |
| 產出年度 | 105 |
| 領域別 | 製造精進 |
| 專利名稱-中文 | 多焦點聚光生理感測裝置 |
| 執行單位 | 車輛中心 |
| 產出單位 | 車輛中心 |
| 計畫名稱 | 車輛中心創新前瞻技術研究計畫 |
| 專利發明人 | 鄭舜文、施淳耀、許日滔 |
| 核准國家 | 中華民國 |
| 獲證日期 | 105/08/21 |
| 證書號碼 | I546056 |
| 專利期間起 | 105/08/21 |
| 專利期間訖 | 124/08/20 |
| 專利性質 | 發明 |
| 技術摘要-中文 | 本發明係為一種多焦點聚光生理感測裝置，包括至少一多焦點聚光器具有至少一第一橢圓反射件，其一端設有至少一第二橢圓反射件，第一橢圓反射件具有一第一透明平面，其上具有第一焦點，而第二橢圓反射件上則具有一第二透明平面，其上具有至少二第二焦點，第一橢圓反射件及第二橢圓反射件交界處具有第一共焦點；二第二焦點分別放置至少二發光元件以產生光源，使二光源經第二橢圓反射件匯聚光線在第一共焦點，並入射至待測物，以反射該光源回第一共焦點，經第一橢圓反射件反射後由第一焦點射出至感測器，以檢測生理狀態。本發明可增加聚光強度以及收光範圍，更能同時使用多個波長的光源。 |
| 技術摘要-英文 | (空) |
| 聯絡人員 | 陳靜怡 |
| 電話 | 04-7811222#2345 |
| 傳真 | 04-7811456 |
| 電子信箱 | chloe@artc.org.tw |
| 參考網址 | (空) |
| 備註 | (空) |
| 特殊情形 | (空) |
| 序號: 18636 |
| 產出年度: 105 |
| 領域別: 製造精進 |
| 專利名稱-中文: 多焦點聚光生理感測裝置 |
| 執行單位: 車輛中心 |
| 產出單位: 車輛中心 |
| 計畫名稱: 車輛中心創新前瞻技術研究計畫 |
| 專利發明人: 鄭舜文、施淳耀、許日滔 |
| 核准國家: 中華民國 |
| 獲證日期: 105/08/21 |
| 證書號碼: I546056 |
| 專利期間起: 105/08/21 |
| 專利期間訖: 124/08/20 |
| 專利性質: 發明 |
| 技術摘要-中文: 本發明係為一種多焦點聚光生理感測裝置，包括至少一多焦點聚光器具有至少一第一橢圓反射件，其一端設有至少一第二橢圓反射件，第一橢圓反射件具有一第一透明平面，其上具有第一焦點，而第二橢圓反射件上則具有一第二透明平面，其上具有至少二第二焦點，第一橢圓反射件及第二橢圓反射件交界處具有第一共焦點；二第二焦點分別放置至少二發光元件以產生光源，使二光源經第二橢圓反射件匯聚光線在第一共焦點，並入射至待測物，以反射該光源回第一共焦點，經第一橢圓反射件反射後由第一焦點射出至感測器，以檢測生理狀態。本發明可增加聚光強度以及收光範圍，更能同時使用多個波長的光源。 |
| 技術摘要-英文: (空) |
| 聯絡人員: 陳靜怡 |
| 電話: 04-7811222#2345 |
| 傳真: 04-7811456 |
| 電子信箱: chloe@artc.org.tw |
| 參考網址: (空) |
| 備註: (空) |
| 特殊情形: (空) |
| 序號 | 10627 |
| 產出年度 | 101 |
| 領域別 | 機械運輸 |
| 專利名稱-中文 | 自動聚焦裝置與方法 |
| 執行單位 | 工研院南分院 |
| 產出單位 | 工研院南分院 |
| 計畫名稱 | 飛秒雷射創新應用技術關鍵計畫 |
| 專利發明人 | 王雍行,胡平浩,蔡孟哲,柯順升,林央正 |
| 核准國家 | 中華民國 |
| 獲證日期 | 101/12/06 |
| 證書號碼 | I378005 |
| 專利期間起 | 101/12/01 |
| 專利期間訖 | 118/12/20 |
| 專利性質 | 發明 |
| 技術摘要-中文 | 一種自動聚焦裝置，其包括一光源、一聚焦鏡、一光感測器、一第一聚焦元件與一第二聚焦元件。光源用以產生一偵測光束。聚焦鏡具有一焦點，並用以將該偵測光束聚焦為一聚焦光束，其中，聚焦光束入射至一待測物後，係被待測物反射以形成一反射光束。光感測器用以感測光訊號。第一聚焦元件具有一第一焦距，並用以將反射光束之一部份聚焦並在光感測器上形成一第一光點。第二聚焦元件具有一第二焦距，並用以將反射光束之另一部份聚焦在光感測器上以形成一第二光點。光感測器係根據第一光點之尺寸變化與第二光點之尺寸變化以判斷待測物之一離焦距離與一離焦方向。 |
| 技術摘要-英文 | (空) |
| 聯絡人員 | 李露蘋 |
| 電話 | 03-5917812 |
| 傳真 | 03-5917431 |
| 電子信箱 | oralp@itri.org.tw |
| 參考網址 | http://www.patentportfolio.itri.org.tw |
| 備註 | (空) |
| 特殊情形 | (空) |
| 序號: 10627 |
| 產出年度: 101 |
| 領域別: 機械運輸 |
| 專利名稱-中文: 自動聚焦裝置與方法 |
| 執行單位: 工研院南分院 |
| 產出單位: 工研院南分院 |
| 計畫名稱: 飛秒雷射創新應用技術關鍵計畫 |
| 專利發明人: 王雍行,胡平浩,蔡孟哲,柯順升,林央正 |
| 核准國家: 中華民國 |
| 獲證日期: 101/12/06 |
| 證書號碼: I378005 |
| 專利期間起: 101/12/01 |
| 專利期間訖: 118/12/20 |
| 專利性質: 發明 |
| 技術摘要-中文: 一種自動聚焦裝置，其包括一光源、一聚焦鏡、一光感測器、一第一聚焦元件與一第二聚焦元件。光源用以產生一偵測光束。聚焦鏡具有一焦點，並用以將該偵測光束聚焦為一聚焦光束，其中，聚焦光束入射至一待測物後，係被待測物反射以形成一反射光束。光感測器用以感測光訊號。第一聚焦元件具有一第一焦距，並用以將反射光束之一部份聚焦並在光感測器上形成一第一光點。第二聚焦元件具有一第二焦距，並用以將反射光束之另一部份聚焦在光感測器上以形成一第二光點。光感測器係根據第一光點之尺寸變化與第二光點之尺寸變化以判斷待測物之一離焦距離與一離焦方向。 |
| 技術摘要-英文: (空) |
| 聯絡人員: 李露蘋 |
| 電話: 03-5917812 |
| 傳真: 03-5917431 |
| 電子信箱: oralp@itri.org.tw |
| 參考網址: http://www.patentportfolio.itri.org.tw |
| 備註: (空) |
| 特殊情形: (空) |
| 序號 | 5245 |
| 產出年度 | 100 |
| 技術名稱-中文 | 自動尋焦模組 |
| 執行單位 | 工研院機械所 |
| 產出單位 | (空) |
| 計畫名稱 | 機械與系統領域環境建構計畫 |
| 領域 | (空) |
| 已申請專利之國家 | (空) |
| 已獲得專利之國家 | (空) |
| 技術現況敘述-中文 | ?本技術利用光學軸向色散原理，不同波長光之光點聚焦至不同深度位置，待測物進入軸向色散範圍內後，不需要垂直掃描即可瞬間取得高度位置訊號，再將高度位置訊號透過焦點分析演算軟體解析，回授給模組移動裝置進行對焦。 ?本模組包含對焦光學鏡組、對焦解析組件、焦點分析演算軟體組件。 ?已進行專利申請。 |
| 技術現況敘述-英文 | (空) |
| 技術規格 | ?尋焦範圍：±1 mm (@10X物鏡) ?尋焦速度：0.2 sec (@±1 mm色散範圍) ?尋焦重複性 (1σ)：1 μm (@10X物鏡) ?尋焦精度：3 μm (@10X物鏡) ?具備對焦監控功能(Tracking) ?2D視野範圍：1040 μm × 780 μm (@10X物鏡) |
| 技術成熟度 | 試量產 |
| 可應用範圍 | ?本對焦模組與光學顯微影像系統整合，可快速自動對焦，分析顯微2D關鍵尺寸、表面三維輪廓及透明材料厚度。 ?應用產業包括： 1.平面顯示器製程與關鍵尺寸量測。 2.光電、半導體與軟性電子製程與關鍵尺寸量測。 3.精密機械、雷射加工與微機電元件形貌與表面粗糙度量測。 4.玻璃缺陷及厚度量測。 |
| 潛力預估 | 可取代現有外國進口昂貴的自動對焦模組，並可與顯微影像系統整合，對焦位置即為量測位置，提高量測效率。 |
| 聯絡人員 | 郭世炫，賴皇文 |
| 電話 | 03-5743811, 03-5732224 |
| 傳真 | 03-5722383 |
| 電子信箱 | kevinkuo@itri.org.tw，HuangWenLai@itri.org.tw |
| 參考網址 | 無 |
| 所須軟硬體設備 | 光學實驗室 |
| 需具備之專業人才 | 光學設計人員、程式設計人員、電控整合人員、機構設計人員 |
| 序號: 5245 |
| 產出年度: 100 |
| 技術名稱-中文: 自動尋焦模組 |
| 執行單位: 工研院機械所 |
| 產出單位: (空) |
| 計畫名稱: 機械與系統領域環境建構計畫 |
| 領域: (空) |
| 已申請專利之國家: (空) |
| 已獲得專利之國家: (空) |
| 技術現況敘述-中文: ?本技術利用光學軸向色散原理，不同波長光之光點聚焦至不同深度位置，待測物進入軸向色散範圍內後，不需要垂直掃描即可瞬間取得高度位置訊號，再將高度位置訊號透過焦點分析演算軟體解析，回授給模組移動裝置進行對焦。 ?本模組包含對焦光學鏡組、對焦解析組件、焦點分析演算軟體組件。 ?已進行專利申請。 |
| 技術現況敘述-英文: (空) |
| 技術規格: ?尋焦範圍：±1 mm (@10X物鏡) ?尋焦速度：0.2 sec (@±1 mm色散範圍) ?尋焦重複性 (1σ)：1 μm (@10X物鏡) ?尋焦精度：3 μm (@10X物鏡) ?具備對焦監控功能(Tracking) ?2D視野範圍：1040 μm × 780 μm (@10X物鏡) |
| 技術成熟度: 試量產 |
| 可應用範圍: ?本對焦模組與光學顯微影像系統整合，可快速自動對焦，分析顯微2D關鍵尺寸、表面三維輪廓及透明材料厚度。 ?應用產業包括： 1.平面顯示器製程與關鍵尺寸量測。 2.光電、半導體與軟性電子製程與關鍵尺寸量測。 3.精密機械、雷射加工與微機電元件形貌與表面粗糙度量測。 4.玻璃缺陷及厚度量測。 |
| 潛力預估: 可取代現有外國進口昂貴的自動對焦模組，並可與顯微影像系統整合，對焦位置即為量測位置，提高量測效率。 |
| 聯絡人員: 郭世炫，賴皇文 |
| 電話: 03-5743811, 03-5732224 |
| 傳真: 03-5722383 |
| 電子信箱: kevinkuo@itri.org.tw，HuangWenLai@itri.org.tw |
| 參考網址: 無 |
| 所須軟硬體設備: 光學實驗室 |
| 需具備之專業人才: 光學設計人員、程式設計人員、電控整合人員、機構設計人員 |
| 序號 | 3551 |
| 產出年度 | 99 |
| 技術名稱-中文 | 自動尋焦模組 |
| 執行單位 | 工研院機械所 |
| 產出單位 | (空) |
| 計畫名稱 | 機械與系統領域環境建構計畫 |
| 領域 | (空) |
| 已申請專利之國家 | (空) |
| 已獲得專利之國家 | (空) |
| 技術現況敘述-中文 | ?本技術係利用軸向色散原理，以複合波長光在表面上掃描，不同波長光的焦點位置不同來判別表面高低，不需要垂直掃描，可瞬間取得高度位置訊號，再將高度位置訊號透過焦點分析演算軟體解析，回授給模組移動裝置進行對焦。 ?本模組包含對焦光學鏡組、對焦解析組件、焦點分析演算軟體組件。 ?已申請專利中。 |
| 技術現況敘述-英文 | (空) |
| 技術規格 | ?尋焦範圍: ±1 mm ?尋焦速度: 0.2 sec ?尋焦重複性(3σ)：2 μm ?尋焦解析度：0.3 μm ?尋焦精度：±3 μm |
| 技術成熟度 | 雛形 |
| 可應用範圍 | ?與顯微鏡整合，可自動對焦待測樣品，量測2D尺寸、表面三維形貌及透明材料厚度。 ?應用產業包括： 1.平面顯示器製程與關鍵尺寸量測。 2.光電、半導體與軟性電子製程與關鍵尺寸量測。 3.精密機械、雷射加工與微機電元件形貌與表面粗糙度量測。 4.食品產業之玻璃瓶缺陷及玻璃厚度量測。 |
| 潛力預估 | 可取代現有外國進口昂貴的自動對焦模組，並可與顯微鏡整合，對焦位置即為量測位置，提高量測效率。 |
| 聯絡人員 | 郭世炫 |
| 電話 | 03-5732242 |
| 傳真 | 03-5722383 |
| 電子信箱 | kevinkuo@itri.org.tw |
| 參考網址 | 無 |
| 所須軟硬體設備 | 光學實驗室 |
| 需具備之專業人才 | 光學設計人員、程式設計人員、電控整合人員、機構設計人員 |
| 序號: 3551 |
| 產出年度: 99 |
| 技術名稱-中文: 自動尋焦模組 |
| 執行單位: 工研院機械所 |
| 產出單位: (空) |
| 計畫名稱: 機械與系統領域環境建構計畫 |
| 領域: (空) |
| 已申請專利之國家: (空) |
| 已獲得專利之國家: (空) |
| 技術現況敘述-中文: ?本技術係利用軸向色散原理，以複合波長光在表面上掃描，不同波長光的焦點位置不同來判別表面高低，不需要垂直掃描，可瞬間取得高度位置訊號，再將高度位置訊號透過焦點分析演算軟體解析，回授給模組移動裝置進行對焦。 ?本模組包含對焦光學鏡組、對焦解析組件、焦點分析演算軟體組件。 ?已申請專利中。 |
| 技術現況敘述-英文: (空) |
| 技術規格: ?尋焦範圍: ±1 mm ?尋焦速度: 0.2 sec ?尋焦重複性(3σ)：2 μm ?尋焦解析度：0.3 μm ?尋焦精度：±3 μm |
| 技術成熟度: 雛形 |
| 可應用範圍: ?與顯微鏡整合，可自動對焦待測樣品，量測2D尺寸、表面三維形貌及透明材料厚度。 ?應用產業包括： 1.平面顯示器製程與關鍵尺寸量測。 2.光電、半導體與軟性電子製程與關鍵尺寸量測。 3.精密機械、雷射加工與微機電元件形貌與表面粗糙度量測。 4.食品產業之玻璃瓶缺陷及玻璃厚度量測。 |
| 潛力預估: 可取代現有外國進口昂貴的自動對焦模組，並可與顯微鏡整合，對焦位置即為量測位置，提高量測效率。 |
| 聯絡人員: 郭世炫 |
| 電話: 03-5732242 |
| 傳真: 03-5722383 |
| 電子信箱: kevinkuo@itri.org.tw |
| 參考網址: 無 |
| 所須軟硬體設備: 光學實驗室 |
| 需具備之專業人才: 光學設計人員、程式設計人員、電控整合人員、機構設計人員 |
| 序號 | 2721 |
| 產出年度 | 97 |
| 技術名稱-中文 | 光路與自動聚焦技術 |
| 執行單位 | 工研院南分院 |
| 產出單位 | (空) |
| 計畫名稱 | 雷射創新應用技術關鍵計畫 |
| 領域 | (空) |
| 已申請專利之國家 | (空) |
| 已獲得專利之國家 | (空) |
| 技術現況敘述-中文 | 光路與自動聚焦技術藉由光路設計可將雷射光點聚焦至3 mm以下，並達到光束平頂整型效果；此技術並利用創新之橢圓反射原理開發自動聚焦模組裝置，可即時偵測待測物之離焦狀態並迅速修正至焦點處。 |
| 技術現況敘述-英文 | (空) |
| 技術規格 | (精密加工自動聚焦模組) ＊ 自動聚焦時間 ≦ 0.1sec （@±200m ) ＊ 自動聚焦精度 ≦ ±2 m ＊ 雷射聚焦光點 ≦ 3m ＊ 聚焦行程 ≧ 400 m |
| 技術成熟度 | 雛型 |
| 可應用範圍 | 本技術可運用於雷射精密加工、修補及AOI製程，本技術具精度高、聚焦速度快之優勢，相關技術可應用於太陽能光電、半導體 、平面顯示器面板、精密模具及微型相機等產業之雷射精密加工、修補與AOI製程，用以提升產品之性能及其價值。 |
| 潛力預估 | 預計可應用於平面顯示器面板、半導體晶圓、及太陽能電池等產業。 |
| 聯絡人員 | 廖金二 |
| 電話 | 06-6939109; 03-5918607 |
| 傳真 | 06-6939056 |
| 電子信箱 | artliao@itri.org.tw |
| 參考網址 | (空) |
| 所須軟硬體設備 | 需使用南分院雷射應用科技中心所研發設計之橢圓反射式離焦偵測模組，及所研發設計的自動聚焦架構。 |
| 需具備之專業人才 | 需了解雷射相關專業知識者 |
| 序號: 2721 |
| 產出年度: 97 |
| 技術名稱-中文: 光路與自動聚焦技術 |
| 執行單位: 工研院南分院 |
| 產出單位: (空) |
| 計畫名稱: 雷射創新應用技術關鍵計畫 |
| 領域: (空) |
| 已申請專利之國家: (空) |
| 已獲得專利之國家: (空) |
| 技術現況敘述-中文: 光路與自動聚焦技術藉由光路設計可將雷射光點聚焦至3 mm以下，並達到光束平頂整型效果；此技術並利用創新之橢圓反射原理開發自動聚焦模組裝置，可即時偵測待測物之離焦狀態並迅速修正至焦點處。 |
| 技術現況敘述-英文: (空) |
| 技術規格: (精密加工自動聚焦模組) ＊ 自動聚焦時間 ≦ 0.1sec （@±200m ) ＊ 自動聚焦精度 ≦ ±2 m ＊ 雷射聚焦光點 ≦ 3m ＊ 聚焦行程 ≧ 400 m |
| 技術成熟度: 雛型 |
| 可應用範圍: 本技術可運用於雷射精密加工、修補及AOI製程，本技術具精度高、聚焦速度快之優勢，相關技術可應用於太陽能光電、半導體 、平面顯示器面板、精密模具及微型相機等產業之雷射精密加工、修補與AOI製程，用以提升產品之性能及其價值。 |
| 潛力預估: 預計可應用於平面顯示器面板、半導體晶圓、及太陽能電池等產業。 |
| 聯絡人員: 廖金二 |
| 電話: 06-6939109; 03-5918607 |
| 傳真: 06-6939056 |
| 電子信箱: artliao@itri.org.tw |
| 參考網址: (空) |
| 所須軟硬體設備: 需使用南分院雷射應用科技中心所研發設計之橢圓反射式離焦偵測模組，及所研發設計的自動聚焦架構。 |
| 需具備之專業人才: 需了解雷射相關專業知識者 |
| 序號 | 10622 |
| 產出年度 | 101 |
| 領域別 | 機械運輸 |
| 專利名稱-中文 | 聚焦方法與自動聚焦裝置及其偵測模塊 |
| 執行單位 | 工研院南分院 |
| 產出單位 | 工研院南分院 |
| 計畫名稱 | 飛秒雷射創新應用技術關鍵計畫 |
| 專利發明人 | 王雍行,林昆蔚,胡平浩,鍾佳詔,劉裕升 |
| 核准國家 | 中國大陸 |
| 獲證日期 | 101/03/12 |
| 證書號碼 | ZL200810184184.6 |
| 專利期間起 | 100/12/21 |
| 專利期間訖 | 117/12/18 |
| 專利性質 | 發明 |
| 技術摘要-中文 | 一種判斷聚焦的方法與自動聚焦裝置及其偵測模組。此偵測模組包括橢圓曲面反射元件、光感測元件。橢圓曲面反射元件具有光束缺口、第一焦點及第二焦點。光束經由光聚焦元件聚焦後，透過光束缺口投射在待測物表面。橢圓曲面反射元件反射光束投射待測物表面後反射或散射的光線。光感測元件配置於第二焦點，用以接收橢圓曲面反射元件反射的光束，並產生偵測結果，以便調整光聚焦元件與待測物表面的距離，以便讓光束聚焦的位置正確地落在待測物的表面。 |
| 技術摘要-英文 | (空) |
| 聯絡人員 | 李露蘋 |
| 電話 | 03-5917812 |
| 傳真 | 03-5917431 |
| 電子信箱 | oralp@itri.org.tw |
| 參考網址 | http://www.patentportfolio.itri.org.tw |
| 備註 | (空) |
| 特殊情形 | (空) |
| 序號: 10622 |
| 產出年度: 101 |
| 領域別: 機械運輸 |
| 專利名稱-中文: 聚焦方法與自動聚焦裝置及其偵測模塊 |
| 執行單位: 工研院南分院 |
| 產出單位: 工研院南分院 |
| 計畫名稱: 飛秒雷射創新應用技術關鍵計畫 |
| 專利發明人: 王雍行,林昆蔚,胡平浩,鍾佳詔,劉裕升 |
| 核准國家: 中國大陸 |
| 獲證日期: 101/03/12 |
| 證書號碼: ZL200810184184.6 |
| 專利期間起: 100/12/21 |
| 專利期間訖: 117/12/18 |
| 專利性質: 發明 |
| 技術摘要-中文: 一種判斷聚焦的方法與自動聚焦裝置及其偵測模組。此偵測模組包括橢圓曲面反射元件、光感測元件。橢圓曲面反射元件具有光束缺口、第一焦點及第二焦點。光束經由光聚焦元件聚焦後，透過光束缺口投射在待測物表面。橢圓曲面反射元件反射光束投射待測物表面後反射或散射的光線。光感測元件配置於第二焦點，用以接收橢圓曲面反射元件反射的光束，並產生偵測結果，以便調整光聚焦元件與待測物表面的距離，以便讓光束聚焦的位置正確地落在待測物的表面。 |
| 技術摘要-英文: (空) |
| 聯絡人員: 李露蘋 |
| 電話: 03-5917812 |
| 傳真: 03-5917431 |
| 電子信箱: oralp@itri.org.tw |
| 參考網址: http://www.patentportfolio.itri.org.tw |
| 備註: (空) |
| 特殊情形: (空) |
| 序號 | 10623 |
| 產出年度 | 101 |
| 領域別 | 機械運輸 |
| 專利名稱-中文 | 聚焦方法與自動聚焦裝置及其偵測模組 |
| 執行單位 | 工研院南分院 |
| 產出單位 | 工研院南分院 |
| 計畫名稱 | 飛秒雷射創新應用技術關鍵計畫 |
| 專利發明人 | 王雍行,林昆蔚,胡平浩,鍾佳詔,劉裕升 |
| 核准國家 | 中華民國 |
| 獲證日期 | 101/01/10 |
| 證書號碼 | I353280 |
| 專利期間起 | 100/12/01 |
| 專利期間訖 | 117/11/11 |
| 專利性質 | 發明 |
| 技術摘要-中文 | 一種判斷聚焦的方法與自動聚焦裝置及其偵測模組。此偵測模組包括橢圓曲面反射元件、光感測元件。橢圓曲面反射元件具有光束缺口、第一焦點及第二焦點。光束經由光聚焦元件聚焦後，透過光束缺口投射在待測物表面。橢圓曲面反射元件反射光束投射待測物表面後反射或散射的光線。光感測元件配置於第二焦點，用以接收橢圓曲面反射元件反射的光束，並產生偵測結果，以便調整光聚焦元件與待測物表面的距離，以便讓光束聚焦的位置正確地落在待測物的表面。 |
| 技術摘要-英文 | (空) |
| 聯絡人員 | 李露蘋 |
| 電話 | 03-5917812 |
| 傳真 | 03-5917431 |
| 電子信箱 | oralp@itri.org.tw |
| 參考網址 | http://www.patentportfolio.itri.org.tw |
| 備註 | (空) |
| 特殊情形 | (空) |
| 序號: 10623 |
| 產出年度: 101 |
| 領域別: 機械運輸 |
| 專利名稱-中文: 聚焦方法與自動聚焦裝置及其偵測模組 |
| 執行單位: 工研院南分院 |
| 產出單位: 工研院南分院 |
| 計畫名稱: 飛秒雷射創新應用技術關鍵計畫 |
| 專利發明人: 王雍行,林昆蔚,胡平浩,鍾佳詔,劉裕升 |
| 核准國家: 中華民國 |
| 獲證日期: 101/01/10 |
| 證書號碼: I353280 |
| 專利期間起: 100/12/01 |
| 專利期間訖: 117/11/11 |
| 專利性質: 發明 |
| 技術摘要-中文: 一種判斷聚焦的方法與自動聚焦裝置及其偵測模組。此偵測模組包括橢圓曲面反射元件、光感測元件。橢圓曲面反射元件具有光束缺口、第一焦點及第二焦點。光束經由光聚焦元件聚焦後，透過光束缺口投射在待測物表面。橢圓曲面反射元件反射光束投射待測物表面後反射或散射的光線。光感測元件配置於第二焦點，用以接收橢圓曲面反射元件反射的光束，並產生偵測結果，以便調整光聚焦元件與待測物表面的距離，以便讓光束聚焦的位置正確地落在待測物的表面。 |
| 技術摘要-英文: (空) |
| 聯絡人員: 李露蘋 |
| 電話: 03-5917812 |
| 傳真: 03-5917431 |
| 電子信箱: oralp@itri.org.tw |
| 參考網址: http://www.patentportfolio.itri.org.tw |
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| 特殊情形: (空) |
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