高純吸附劑合成技術 - 經濟部產業技術司–可移轉技術資料集 @ 經濟部 技術名稱-中文高純吸附劑合成技術 的執行單位是工研院化工所 , 產出年度是94 , 計畫名稱是工研院材料與化工領域環境建構計畫 , 技術規格是‧ 孔徑: 5~25nm‧ 孔洞體積: 1.5~0.4cm3/g‧ 表面積: >100m2/g‧ 改質氧化鋁: 可由FT-IR檢測出特徵吸收峰 , 潛力預估是奈米孔隙粉體因其奈米級的孔徑特性，而應用於精密分析或分離程序上。已完成建立高純度精密純化吸附劑之改質實驗技術與檢測技術，可提昇產品的附加價值，使奈米孔徑粉體朝多樣化功能發展預計高純化學品相關技術將可創造新臺幣5億元以上產值。 .
序號 968 產出年度 94 技術名稱-中文 高純吸附劑合成技術 執行單位 工研院化工所 產出單位 (空) 計畫名稱 工研院材料與化工領域環境建構計畫 領域 (空) 已申請專利之國家 (空) 已獲得專利之國家 (空) 技術現況敘述-中文 本計畫針對氧化鋁進行改質，相對於目前的氧化矽改質產品，具有較佳的耐酸鹼特性及尺寸安定性。本技術建立介孔隙氧化鋁合成程序，產品平均孔徑維持在10nm~20nm間，孔洞體積達1.0cm3/g，表面積則高達200m2/g以上。此外，並建立介孔隙氧化鋁改質程序，將有機官能基鍵結至介孔隙氧化鋁表面完成修飾。 技術現況敘述-英文 (空) 技術規格 ‧ 孔徑: 5~25nm‧ 孔洞體積: 1.5~0.4cm3/g‧ 表面積: >100m2/g‧ 改質氧化鋁: 可由FT-IR檢測出特徵吸收峰 技術成熟度 實驗室階段 可應用範圍 奈米結構材料、塑橡膠添加劑、反應性奈米觸媒及載體、精密吸附純化。 潛力預估 奈米孔隙粉體因其奈米級的孔徑特性，而應用於精密分析或分離程序上。已完成建立高純度精密純化吸附劑之改質實驗技術與檢測技術，可提昇產品的附加價值，使奈米孔徑粉體朝多樣化功能發展預計高純化學品相關技術將可創造新臺幣5億元以上產值。 聯絡人員 張學明 電話 03-5732462 傳真 03-5732361 電子信箱 Bills_Jang@itri.org.tw 參考網址 (空) 所須軟硬體設備 化學反應裝置、化工分離設備、高溫爐 需具備之專業人才 化學、化工碩士以上人員 同步更新日期 2023-07-22
序號 968 產出年度 94 技術名稱-中文 高純吸附劑合成技術 執行單位 工研院化工所 產出單位 (空) 計畫名稱 工研院材料與化工領域環境建構計畫 領域 (空) 已申請專利之國家 (空) 已獲得專利之國家 (空) 技術現況敘述-中文 本計畫針對氧化鋁進行改質，相對於目前的氧化矽改質產品，具有較佳的耐酸鹼特性及尺寸安定性。本技術建立介孔隙氧化鋁合成程序，產品平均孔徑維持在10nm~20nm間，孔洞體積達1.0cm3/g，表面積則高達200m2/g以上。此外，並建立介孔隙氧化鋁改質程序，將有機官能基鍵結至介孔隙氧化鋁表面完成修飾。 技術現況敘述-英文 (空) 技術規格 ‧ 孔徑: 5~25nm‧ 孔洞體積: 1.5~0.4cm3/g‧ 表面積: >100m2/g‧ 改質氧化鋁: 可由FT-IR檢測出特徵吸收峰 技術成熟度 實驗室階段 可應用範圍 奈米結構材料、塑橡膠添加劑、反應性奈米觸媒及載體、精密吸附純化。 潛力預估 奈米孔隙粉體因其奈米級的孔徑特性，而應用於精密分析或分離程序上。已完成建立高純度精密純化吸附劑之改質實驗技術與檢測技術，可提昇產品的附加價值，使奈米孔徑粉體朝多樣化功能發展預計高純化學品相關技術將可創造新臺幣5億元以上產值。 聯絡人員 張學明 電話 03-5732462 傳真 03-5732361 電子信箱 Bills_Jang@itri.org.tw 參考網址 (空) 所須軟硬體設備 化學反應裝置、化工分離設備、高溫爐 需具備之專業人才 化學、化工碩士以上人員 同步更新日期 2023-07-22
根據電話 03-5732462 找到的相關資料 (以下顯示 8 筆) (或要:直接搜尋所有 03-5732462 序號 565 產出年度 93 技術名稱-中文 顯示面板用高純度化學品製程技術 執行單位 工研院化工所 產出單位 (空) 計畫名稱 精密與機能性化學技術開發與應用四年計畫 領域 (空) 已申請專利之國家 (空) 已獲得專利之國家 (空) 技術現況敘述-中文 有機發光材料的純度在元件的製作過程中對於發光效率及元件壽命有相當大的影響。本計劃開發顯示器面板用高純度光電化學品純化技術，針對OLED化學品CBP開發實驗室合成及高真空分子昇華純化技術，並完成純化產品品質鑑定。本技術93年並未申請專利。 技術現況敘述-英文 (空) 技術規格 實驗室純化技術及微量不純物分析，各別金屬不純物小於10 ppm。 技術成熟度 實驗室階段 可應用範圍 本技術預期將可應用於有機電激發光平面顯示器元件材料、特化產業使用之高純度化學品、光電產業用之低分子化學品。 潛力預估 本技術預期將可應用於有機電激發光平面顯示器元件材料、市場產品潛力預估可達2億元。 聯絡人員 張學明 電話 03-5732462 傳真 03-5732361 電子信箱 Bills_Jang@itri.org.tw 參考網址 (空) 所須軟硬體設備 精密純化設備、微量分析設備、無塵室 需具備之專業人才 化學、應化、化工系大學以上人員
序號: 565 產出年度: 93 技術名稱-中文: 顯示面板用高純度化學品製程技術 執行單位: 工研院化工所 產出單位: (空) 計畫名稱: 精密與機能性化學技術開發與應用四年計畫 領域: (空) 已申請專利之國家: (空) 已獲得專利之國家: (空) 技術現況敘述-中文: 有機發光材料的純度在元件的製作過程中對於發光效率及元件壽命有相當大的影響。本計劃開發顯示器面板用高純度光電化學品純化技術，針對OLED化學品CBP開發實驗室合成及高真空分子昇華純化技術，並完成純化產品品質鑑定。本技術93年並未申請專利。 技術現況敘述-英文: (空) 技術規格: 實驗室純化技術及微量不純物分析，各別金屬不純物小於10 ppm。 技術成熟度: 實驗室階段 可應用範圍: 本技術預期將可應用於有機電激發光平面顯示器元件材料、特化產業使用之高純度化學品、光電產業用之低分子化學品。 潛力預估: 本技術預期將可應用於有機電激發光平面顯示器元件材料、市場產品潛力預估可達2億元。 聯絡人員: 張學明 電話: 03-5732462 傳真: 03-5732361 電子信箱: Bills_Jang@itri.org.tw 參考網址: (空) 所須軟硬體設備: 精密純化設備、微量分析設備、無塵室 需具備之專業人才: 化學、應化、化工系大學以上人員
序號 572 產出年度 93 技術名稱-中文 液晶純化試製技術 執行單位 工研院化工所 產出單位 (空) 計畫名稱 工研院材料與化工領域環境建構計畫 領域 (空) 已申請專利之國家 (空) 已獲得專利之國家 (空) 技術現況敘述-中文 針對薄膜電晶體型液晶顯示器(TFT-LCD)產業使用之液晶，本技術提供可在短時間內將高單價的污染液晶純化至新品規格，純化後阻值> 1.0 x 1013Ωcm，達到再生使用，節省成本的方法。已完成回收TFT液晶純化技術，並建立純化試製程序，處理量達1Kg/day，本純化技術所純化之液晶亦已通過多家面板廠的可靠度測試。 技術現況敘述-英文 (空) 技術規格 純化後阻值> 1.0 x 1013Ωcm 技術成熟度 試量產 可應用範圍 液晶產業、特化業 潛力預估 在液晶顯示器的製作上，對於液晶的純度要求相當高，所以極易因微量的污染而廢棄。然液晶為高單價特用化學品，因此、廢棄液晶的回收純化再利用是液晶產業重要的關鍵技術。工研院化工所目前已建立液晶不純物分析技術與純化技術，以及符合面板廠需求的純化試產設備。經純化後之回收液晶阻值可達1013 W·cm以上，並通過面板廠商實際線上測試。目前已替華映公司與力盛公司回收純化液晶，預計94年將可與奇美電子、廣輝、彩晶合作回收純化液晶，相關產品年產值可達新台幣2億元以上。 聯絡人員 張學明 電話 03-5732462 傳真 03-5732361 電子信箱 Bills_Jang@itri.org.tw 參考網址 (空) 所須軟硬體設備 高純度分析基礎、無塵室 需具備之專業人才 化學、應化、化工系碩士以上人員
序號: 572 產出年度: 93 技術名稱-中文: 液晶純化試製技術 執行單位: 工研院化工所 產出單位: (空) 計畫名稱: 工研院材料與化工領域環境建構計畫 領域: (空) 已申請專利之國家: (空) 已獲得專利之國家: (空) 技術現況敘述-中文: 針對薄膜電晶體型液晶顯示器(TFT-LCD)產業使用之液晶，本技術提供可在短時間內將高單價的污染液晶純化至新品規格，純化後阻值> 1.0 x 1013Ωcm，達到再生使用，節省成本的方法。已完成回收TFT液晶純化技術，並建立純化試製程序，處理量達1Kg/day，本純化技術所純化之液晶亦已通過多家面板廠的可靠度測試。 技術現況敘述-英文: (空) 技術規格: 純化後阻值> 1.0 x 1013Ωcm 技術成熟度: 試量產 可應用範圍: 液晶產業、特化業 潛力預估: 在液晶顯示器的製作上，對於液晶的純度要求相當高，所以極易因微量的污染而廢棄。然液晶為高單價特用化學品，因此、廢棄液晶的回收純化再利用是液晶產業重要的關鍵技術。工研院化工所目前已建立液晶不純物分析技術與純化技術，以及符合面板廠需求的純化試產設備。經純化後之回收液晶阻值可達1013 W·cm以上，並通過面板廠商實際線上測試。目前已替華映公司與力盛公司回收純化液晶，預計94年將可與奇美電子、廣輝、彩晶合作回收純化液晶，相關產品年產值可達新台幣2億元以上。 聯絡人員: 張學明 電話: 03-5732462 傳真: 03-5732361 電子信箱: Bills_Jang@itri.org.tw 參考網址: (空) 所須軟硬體設備: 高純度分析基礎、無塵室 需具備之專業人才: 化學、應化、化工系碩士以上人員
序號 948 產出年度 94 技術名稱-中文 液晶純化回收技術 執行單位 工研院化工所 產出單位 (空) 計畫名稱 特化與奈米化工技術開發四年計畫 領域 (空) 已申請專利之國家 (空) 已獲得專利之國家 (空) 技術現況敘述-中文 目前適用之TFT液晶，其阻值範圍相當窄小，可容許離子濃度約為10ppb以下。因此，只要在製造過程中受到少量離子汙染，往往使得整批液晶皆不可使用，相對地也增加了生產的成本。本純化技術針對此一問題加以解決，使高單價之液晶能被充分的回收再利用，製程成本可以有效降低。 技術現況敘述-英文 (空) 技術規格 ‧ 比阻值:>1013 W Cm‧ 水份:95% 技術成熟度 試量產 可應用範圍 TFT-LCD及STN 液晶 潛力預估 本技術用於TFT-LCD液晶回收純化之產值預估可達新台幣5~10億元。 聯絡人員 張學明 電話 03-5732462 傳真 03-5732361 電子信箱 Bills_Jang@itri.org.tw 參考網址 (空) 所須軟硬體設備 無塵室、GC-MS、阻值計、水份滴定儀、精密純化設備 需具備之專業人才 化學、化工碩士以上人員
序號: 948 產出年度: 94 技術名稱-中文: 液晶純化回收技術 執行單位: 工研院化工所 產出單位: (空) 計畫名稱: 特化與奈米化工技術開發四年計畫 領域: (空) 已申請專利之國家: (空) 已獲得專利之國家: (空) 技術現況敘述-中文: 目前適用之TFT液晶，其阻值範圍相當窄小，可容許離子濃度約為10ppb以下。因此，只要在製造過程中受到少量離子汙染，往往使得整批液晶皆不可使用，相對地也增加了生產的成本。本純化技術針對此一問題加以解決，使高單價之液晶能被充分的回收再利用，製程成本可以有效降低。 技術現況敘述-英文: (空) 技術規格: ‧ 比阻值:>1013 W Cm‧ 水份:95% 技術成熟度: 試量產 可應用範圍: TFT-LCD及STN 液晶 潛力預估: 本技術用於TFT-LCD液晶回收純化之產值預估可達新台幣5~10億元。 聯絡人員: 張學明 電話: 03-5732462 傳真: 03-5732361 電子信箱: Bills_Jang@itri.org.tw 參考網址: (空) 所須軟硬體設備: 無塵室、GC-MS、阻值計、水份滴定儀、精密純化設備 需具備之專業人才: 化學、化工碩士以上人員
序號 966 產出年度 94 技術名稱-中文 螢光組合配方材料 執行單位 工研院化工所 產出單位 (空) 計畫名稱 工研院材料與化工領域環境建構計畫 領域 (空) 已申請專利之國家 (空) 已獲得專利之國家 (空) 技術現況敘述-中文 本計畫篩選多種螢光組合配方材料，再以此配方製成螢光材料並調控各種參數(如燒結溫度控制、不同主體與活化劑之比例等)，並配合檢測篩選技術，如：波長、發光強度等量測，螢光材料燒結溫度溫度範圍介於700~1300℃。篩選合顯示器用螢光粉組成元素，使產品的效能達到最佳化並有效縮短產品開發時間。 技術現況敘述-英文 (空) 技術規格 摻雜型螢光粉可以紫外光激發而放射出特定波長的可見光。放射波長調控範圍:400~ 700nm。 技術成熟度 實驗室階段 可應用範圍 本技術將可應用於真空紫外光螢光材料、PDP顯示器用螢光材料、冷陰極管螢光材料、UVU照明用螢光材料等。 潛力預估 未來預估相關應用產品產值將達新台幣10億元。 聯絡人員 張學明 電話 03-5732462 傳真 03-5732361 電子信箱 Bills_Jang@itri.org.tw 參考網址 (空) 所須軟硬體設備 技術移轉廠商以具有螢光材料合成高溫反應設備與相關分析設備之特用化學廠商為主。 需具備之專業人才 技術移轉廠商以具有螢光材料合成經驗與能力之特用化學廠商為主。
序號: 966 產出年度: 94 技術名稱-中文: 螢光組合配方材料 執行單位: 工研院化工所 產出單位: (空) 計畫名稱: 工研院材料與化工領域環境建構計畫 領域: (空) 已申請專利之國家: (空) 已獲得專利之國家: (空) 技術現況敘述-中文: 本計畫篩選多種螢光組合配方材料，再以此配方製成螢光材料並調控各種參數(如燒結溫度控制、不同主體與活化劑之比例等)，並配合檢測篩選技術，如：波長、發光強度等量測，螢光材料燒結溫度溫度範圍介於700~1300℃。篩選合顯示器用螢光粉組成元素，使產品的效能達到最佳化並有效縮短產品開發時間。 技術現況敘述-英文: (空) 技術規格: 摻雜型螢光粉可以紫外光激發而放射出特定波長的可見光。放射波長調控範圍:400~ 700nm。 技術成熟度: 實驗室階段 可應用範圍: 本技術將可應用於真空紫外光螢光材料、PDP顯示器用螢光材料、冷陰極管螢光材料、UVU照明用螢光材料等。 潛力預估: 未來預估相關應用產品產值將達新台幣10億元。 聯絡人員: 張學明 電話: 03-5732462 傳真: 03-5732361 電子信箱: Bills_Jang@itri.org.tw 參考網址: (空) 所須軟硬體設備: 技術移轉廠商以具有螢光材料合成高溫反應設備與相關分析設備之特用化學廠商為主。 需具備之專業人才: 技術移轉廠商以具有螢光材料合成經驗與能力之特用化學廠商為主。
序號 1670 產出年度 95 技術名稱-中文 液晶純化回收技術 執行單位 工研院材化所 產出單位 (空) 計畫名稱 特化與奈米化工技術開發四年計畫 領域 (空) 已申請專利之國家 (空) 已獲得專利之國家 (空) 技術現況敘述-中文 針對薄膜電晶體型液晶顯示器(TFT-LCD)產業使用之液晶，本技術提供可在短時間內將污染液晶純化至規格範圍，達到再生使用，節省成本的目的。技術特色：1. 高純度液晶化學品快速純化製程設備之放大與 建立，達量產規模。2.高純度液晶化學品純化生產流程建立，提昇純化生產效能。 技術現況敘述-英文 (空) 技術規格 純化時間1公斤，純化後產品金屬不純物小於5ppb，純化後液晶阻值大於5 x 1013Ωcm。 技術成熟度 試量產 可應用範圍 TFT-LCD面板產業、液晶產業、特化業。 潛力預估 本技術具有純化效率高、產品收率高、產品純度高及操作簡單等優勢，本技術除了目前已推廣的成果外，未來在國內外仍具極高的市場潛力 。 聯絡人員 張學明 電話 03-5732462 傳真 03-5732361 電子信箱 Bills_Jang@itri.org.tw 參考網址 無 所須軟硬體設備 無塵室、GC-MS、阻值計、水份滴定儀、精密純化設備。 需具備之專業人才 化學、化工、材料或機械、理工背景。
序號: 1670 產出年度: 95 技術名稱-中文: 液晶純化回收技術 執行單位: 工研院材化所 產出單位: (空) 計畫名稱: 特化與奈米化工技術開發四年計畫 領域: (空) 已申請專利之國家: (空) 已獲得專利之國家: (空) 技術現況敘述-中文: 針對薄膜電晶體型液晶顯示器(TFT-LCD)產業使用之液晶，本技術提供可在短時間內將污染液晶純化至規格範圍，達到再生使用，節省成本的目的。技術特色：1. 高純度液晶化學品快速純化製程設備之放大與 建立，達量產規模。2.高純度液晶化學品純化生產流程建立，提昇純化生產效能。 技術現況敘述-英文: (空) 技術規格: 純化時間1公斤，純化後產品金屬不純物小於5ppb，純化後液晶阻值大於5 x 1013Ωcm。 技術成熟度: 試量產 可應用範圍: TFT-LCD面板產業、液晶產業、特化業。 潛力預估: 本技術具有純化效率高、產品收率高、產品純度高及操作簡單等優勢，本技術除了目前已推廣的成果外，未來在國內外仍具極高的市場潛力 。 聯絡人員: 張學明 電話: 03-5732462 傳真: 03-5732361 電子信箱: Bills_Jang@itri.org.tw 參考網址: 無 所須軟硬體設備: 無塵室、GC-MS、阻值計、水份滴定儀、精密純化設備。 需具備之專業人才: 化學、化工、材料或機械、理工背景。
序號 1963 產出年度 96 技術名稱-中文 高純度高分子純化技術 執行單位 工研院材化所 產出單位 (空) 計畫名稱 精密化學材料技術及應用開發四年計畫 領域 (空) 已申請專利之國家 (空) 已獲得專利之國家 (空) 技術現況敘述-中文 高純度低雜質之聚酯塑料可用於光學基材、高透明度膜材、高潔淨食品容器包裝材與醫療器材等，應用範圍含蓋光電、生醫、食品等領域。本技術為聚酯高分子材料純化技術，經純化後可降低高分子原料中的金屬雜質，未來可應用於高附加價值的光電產業與食品/醫材產業。 技術現況敘述-英文 (空) 技術規格 高分子不純物分析與純化技術:雜質分離效率≧90% ,揮發性雜質濃度£0.5%吸附劑回收再生率≧95% 技術成熟度 實驗室階段 可應用範圍 技術可應用範圍:光電、生醫、食品等領域。 潛力預估 可用於光學基材、高透明度膜材、高潔淨食品容器包裝材與醫療器材等。 聯絡人員 張學明 電話 03-5732462 傳真 03-5732361 電子信箱 Bills_Jang@itri.org.tw 參考網址 (空) 所須軟硬體設備 分析設備、純化系統、應用評估設備 需具備之專業人才 化工相關背景
序號: 1963 產出年度: 96 技術名稱-中文: 高純度高分子純化技術 執行單位: 工研院材化所 產出單位: (空) 計畫名稱: 精密化學材料技術及應用開發四年計畫 領域: (空) 已申請專利之國家: (空) 已獲得專利之國家: (空) 技術現況敘述-中文: 高純度低雜質之聚酯塑料可用於光學基材、高透明度膜材、高潔淨食品容器包裝材與醫療器材等，應用範圍含蓋光電、生醫、食品等領域。本技術為聚酯高分子材料純化技術，經純化後可降低高分子原料中的金屬雜質，未來可應用於高附加價值的光電產業與食品/醫材產業。 技術現況敘述-英文: (空) 技術規格: 高分子不純物分析與純化技術:雜質分離效率≧90% ,揮發性雜質濃度£0.5%吸附劑回收再生率≧95% 技術成熟度: 實驗室階段 可應用範圍: 技術可應用範圍:光電、生醫、食品等領域。 潛力預估: 可用於光學基材、高透明度膜材、高潔淨食品容器包裝材與醫療器材等。 聯絡人員: 張學明 電話: 03-5732462 傳真: 03-5732361 電子信箱: Bills_Jang@itri.org.tw 參考網址: (空) 所須軟硬體設備: 分析設備、純化系統、應用評估設備 需具備之專業人才: 化工相關背景
序號 1991 產出年度 96 技術名稱-中文 光電材料純化設計技術 執行單位 工研院材化所 產出單位 (空) 計畫名稱 材料與化工領域環境建構計畫 領域 (空) 已申請專利之國家 (空) 已獲得專利之國家 (空) 技術現況敘述-中文 在高純度化學材料純化系統中,需要高潔淨度環境,因此需利用無塵室環境操作化學材料之純化程序,且利用精密分析設備量測產品中的微量雜質,經由本技術之轉移可提升廠商在高純度化學材料合成及純化方面之技術(祥德、巴斯夫等2家廠商參與技術授權)。 技術現況敘述-英文 (空) 技術規格 化學純度>98%,離子含量 技術成熟度 試量產 可應用範圍 平面顯示器材料、半導體材料、特用化學品等應用。 潛力預估 光電材料如高純度溶劑,螢光化學品等 聯絡人員 張學明 電話 03-5732462 傳真 03-5732361 電子信箱 Bills_Jang@itri.org.tw 參考網址 (空) 所須軟硬體設備 無塵室、反應器、分離純化分析設備 需具備之專業人才 化工相關背景
序號: 1991 產出年度: 96 技術名稱-中文: 光電材料純化設計技術 執行單位: 工研院材化所 產出單位: (空) 計畫名稱: 材料與化工領域環境建構計畫 領域: (空) 已申請專利之國家: (空) 已獲得專利之國家: (空) 技術現況敘述-中文: 在高純度化學材料純化系統中,需要高潔淨度環境,因此需利用無塵室環境操作化學材料之純化程序,且利用精密分析設備量測產品中的微量雜質,經由本技術之轉移可提升廠商在高純度化學材料合成及純化方面之技術(祥德、巴斯夫等2家廠商參與技術授權)。 技術現況敘述-英文: (空) 技術規格: 化學純度>98%,離子含量 技術成熟度: 試量產 可應用範圍: 平面顯示器材料、半導體材料、特用化學品等應用。 潛力預估: 光電材料如高純度溶劑,螢光化學品等 聯絡人員: 張學明 電話: 03-5732462 傳真: 03-5732361 電子信箱: Bills_Jang@itri.org.tw 參考網址: (空) 所須軟硬體設備: 無塵室、反應器、分離純化分析設備 需具備之專業人才: 化工相關背景
序號 2945 產出年度 97 技術名稱-中文 光電高分子材料純化技術 執行單位 工研院材化所 產出單位 (空) 計畫名稱 材料與化工領域環境建構計畫 領域 (空) 已申請專利之國家 (空) 已獲得專利之國家 (空) 技術現況敘述-中文 隨著軟電及光電產業的發展，光電高分子純度上的需求也隨之提昇，而高分子純度卻是影響高分子性質的主要因素。因此建立光電高分子相關純化應用之技術，有助於提昇材料附加價值，並可促進光電產業發展。 技術現況敘述-英文 (空) 技術規格 開發光電級高分子材料之研製技術，包含純化系統設計、不純物鑑定及光電性能評估等，藉以拓展國內化工材料產業與光電產業發展空間。 評估高黏系統下，游離性雜質與殘餘溶劑或單體之去除效率，並對應材料品質與性能之關聯。 技術成熟度 試量產 可應用範圍 游離性雜質與殘餘溶劑或單體純化模組 微量雜質檢測 應用端特性評估 潛力預估 光電高分子純化技術可應用於多種類型的高分子純化，主要用於光電產業。本技術可提昇光電材料之特性，並可提高其附加價值及產業競爭力 聯絡人員 張學明 電話 03-5732462 傳真 03-5732361 電子信箱 ills_jang@itri.org.tw 參考網址 (空) 所須軟硬體設備 具有高純度光電材料純化經驗與設備 需具備之專業人才 具有高純度光電材料純化經驗與設備
序號: 2945 產出年度: 97 技術名稱-中文: 光電高分子材料純化技術 執行單位: 工研院材化所 產出單位: (空) 計畫名稱: 材料與化工領域環境建構計畫 領域: (空) 已申請專利之國家: (空) 已獲得專利之國家: (空) 技術現況敘述-中文: 隨著軟電及光電產業的發展，光電高分子純度上的需求也隨之提昇，而高分子純度卻是影響高分子性質的主要因素。因此建立光電高分子相關純化應用之技術，有助於提昇材料附加價值，並可促進光電產業發展。 技術現況敘述-英文: (空) 技術規格: 開發光電級高分子材料之研製技術，包含純化系統設計、不純物鑑定及光電性能評估等，藉以拓展國內化工材料產業與光電產業發展空間。 評估高黏系統下，游離性雜質與殘餘溶劑或單體之去除效率，並對應材料品質與性能之關聯。 技術成熟度: 試量產 可應用範圍: 游離性雜質與殘餘溶劑或單體純化模組 微量雜質檢測 應用端特性評估 潛力預估: 光電高分子純化技術可應用於多種類型的高分子純化，主要用於光電產業。本技術可提昇光電材料之特性，並可提高其附加價值及產業競爭力 聯絡人員: 張學明 電話: 03-5732462 傳真: 03-5732361 電子信箱: ills_jang@itri.org.tw 參考網址: (空) 所須軟硬體設備: 具有高純度光電材料純化經驗與設備 需具備之專業人才: 具有高純度光電材料純化經驗與設備
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執行單位: 工研院機械所 | 產出年度: 93 | 產出單位: 精密機械技術研究發展四年計畫 | 領域: ‧ 成型位置潔淨度：Class 1,000 (U.S. Federal Standard) 、最大射速1000mm/sec、鎖模力200噸 | 潛力預估: 替代全潔淨室的局部潔淨艙設計、大功率、高射速的電氣驅動射出成型、WinCE視窗系統的PC-Based控制器設計
執行單位: 工研院機械所 | 產出年度: 93 | 產出單位: 工研院創新前瞻技術研究計畫 | 領域: 1. Mold size: 4 and 6 inches
2. Mold material: metal, silicon and glass
3. Minimum line width≦20nm
4... | 潛力預估: 奈米技術被喻為第四波的工業革命，其重要性不言而喻。其中，奈米模仁的製造技術對於是否能將產品商業化扮演一重要角色。而電子束微影技術與乾蝕刻是奈米模仁最重要的加工技術之一。舉凡電子、光電、生醫等領域都有其...
執行單位: 工研院機械所 | 產出年度: 93 | 產出單位: 工研院創新前瞻技術研究計畫 | 領域: H.E./UV Module； Imprinting size：6”； Max. pressure：60 Bar；
Max. temperature：250℃； Microwave rapid hea... | 潛力預估: 奈米轉印技術應用領域相當廣泛，包括生醫元件、光電顯示器、資料儲存媒體以及奈米電子等領域；國際半導體技術藍圖（ITRS）已於2003年正式將轉印微影技術（Imprint Lithography）列為下...
執行單位: 工研院機械所 | 產出年度: 93 | 產出單位: 微奈米系統應用技術四年計畫 | 領域: 自由度：3維
解析度：400CPI | 潛力預估: 若能達成高解析度的滑鼠開發，將有機會成為電腦輸入裝置的另一種選擇。
執行單位: 工研院機械所 | 產出年度: 93 | 產出單位: 微奈米系統應用技術四年計畫 | 領域: 霧化粒徑SMD | 潛力預估: 本技術的研發，將有助於國內吸入式藥物傳輸系統的發展，同時也促使國內在微機電相關產業之週邊技術的建立，以提高我國在生技與醫療器材領域的競爭力。
執行單位: 工研院機械所 | 產出年度: 93 | 產出單位: 微奈米系統應用技術四年計畫 | 領域: 均熱片尺寸：30x30x2 mm
可耐熱通密度：100w/cm2
可耐熱功率：>50W | 潛力預估: 製造技術可完全自行掌握，規格達國際水準，具市場競爭力。
執行單位: 工研院機械所 | 產出年度: 93 | 產出單位: 電腦整合自動化系統技術研究發展四年計畫 | 領域: 定位精度：±20mm | 潛力預估: 未來若完成電極圖案新製程設備，可大幅節省設備投資，市場需求大。
執行單位: 工研院機械所 | 產出年度: 93 | 產出單位: 電腦整合自動化系統技術研究發展四年計畫 | 領域: ‧電漿源： 500mm ‧ 錨定能 ： >10-5 J/m2 | 潛力預估: 非接觸式配向製程及設備為未來發展趨勢，在國外亦正研發中，市場需求殷切。
執行單位: 工研院機械所 | 產出年度: 93 | 產出單位: 電腦整合自動化系統技術研究發展四年計畫 | 領域: ‧ 捲繞速度：15~30m/min ‧ 張力誤差： ± 10％ ‧ 速度誤差：± 10％ | 潛力預估: 軟性顯示器是未來顯示器發展之趨勢，本技術可整合應用於軟板製程設備中，未來市場應用範圍極為廣泛。
執行單位: 工研院機械所 | 產出年度: 93 | 產出單位: 電腦整合自動化系統技術研究發展四年計畫 | 領域: 1. 檢測物： TFT-LCD彩色濾光片、素玻璃 2. 元件大小： 680 mm X 880 mm 3. 檢測速率： 15000 mm2／秒 4. 最小瑕疵： 20μm | 潛力預估: 技術應用領域可擴大至LCD其他元件的瑕疵檢測
執行單位: 工研院機械所 | 產出年度: 93 | 產出單位: 電腦整合自動化系統技術研究發展四年計畫 | 領域: 旋轉軸同步控制應用技術加工，為利用XYUV與旋轉軸同步控制移動，配合放電切削形成曲面無屑加工方式。 | 潛力預估: 協助國內WEDM廠商發展智慧型控制器與放電技術，2004年國產CNC 放電加工機產量將達900台，年產值達18億元以上，在市佔率方面逐年成長。本計畫開發具複合化與精度加工性能之線切割放電加工機，並且...
執行單位: 工研院機械所 | 產出年度: 93 | 產出單位: 電腦整合自動化系統技術研究發展四年計畫 | 領域: 創成放電加工技術間隙伺服控制、放電軌跡路徑加工控制、3D曲面放電加工控制、自動換電極功能、電極尺寸偵測及補償功能及創成放電電源(ON Time=500ns、Ip=0.5A、9段電容選擇)。 | 潛力預估: 創成放電加工控制技術便提供3D微細放電加工一種技術解決方案，應用於奈米科技、光電通訊、生醫科技在微細加工零組件或模具的需求，使得整機單價可由80萬元提昇至250萬元。
執行單位: 工研院機械所 | 產出年度: 93 | 產出單位: 電腦整合自動化系統技術研究發展四年計畫 | 領域: 晶片堆疊控制，底部充填自動校正控制 | 潛力預估: 1.晶片堆疊控制增加設備性能及提高設備附加價值。2.底部充填自動校正控制，適用於覆晶製程點膠製程設備。
執行單位: 工研院機械所 | 產出年度: 93 | 產出單位: 電腦整合自動化系統技術研究發展四年計畫 | 領域: ‧ 鑽孔速度：400孔/分鐘 ‧ 檔案管理 ‧ 座標顯示 ‧ 加工路徑顯示 ‧ 翻、排版指令 ‧ 多次鑽孔功能 ‧ 擴鑽圓孔/長槽擴鑽指令 ‧ 運轉/切削時間顯示 ‧ 從中斷點重新啟動功能 ‧ 斷針... | 潛力預估: 具備畫面瀏覽器功能，可由機器製造商自由編輯設定顯示畫面以增加系統專有特色功能，提高市場競爭力。
執行單位: 工研院機械所 | 產出年度: 93 | 產出單位: 電腦整合自動化系統技術研究發展四年計畫 | 領域: Windows CE 作業平台，具6軸脈波輸出，6軸硬體閉迴路控制，384點輸入/384點輸出，9軸32位元(Bits)位置計數器，8 CHANNEL串列式A/D 界面，8 CHANNEL串列式D/A... | 潛力預估: 本技術可應用於九成以上之產業控制器，CNC控制器，半導體設備控制器等。
執行單位: 工研院機械所 | 產出年度: 93 | 產出單位: 精密機械技術研究發展四年計畫 | 領域: ‧ 成型位置潔淨度：Class 1,000 (U.S. Federal Standard) 、最大射速1000mm/sec、鎖模力200噸 | 潛力預估: 替代全潔淨室的局部潔淨艙設計、大功率、高射速的電氣驅動射出成型、WinCE視窗系統的PC-Based控制器設計
執行單位: 工研院機械所 | 產出年度: 93 | 產出單位: 工研院創新前瞻技術研究計畫 | 領域: 1. Mold size: 4 and 6 inches
2. Mold material: metal, silicon and glass
3. Minimum line width≦20nm
4... | 潛力預估: 奈米技術被喻為第四波的工業革命，其重要性不言而喻。其中，奈米模仁的製造技術對於是否能將產品商業化扮演一重要角色。而電子束微影技術與乾蝕刻是奈米模仁最重要的加工技術之一。舉凡電子、光電、生醫等領域都有其...
執行單位: 工研院機械所 | 產出年度: 93 | 產出單位: 工研院創新前瞻技術研究計畫 | 領域: H.E./UV Module； Imprinting size：6”； Max. pressure：60 Bar；
Max. temperature：250℃； Microwave rapid hea... | 潛力預估: 奈米轉印技術應用領域相當廣泛，包括生醫元件、光電顯示器、資料儲存媒體以及奈米電子等領域；國際半導體技術藍圖（ITRS）已於2003年正式將轉印微影技術（Imprint Lithography）列為下...
執行單位: 工研院機械所 | 產出年度: 93 | 產出單位: 微奈米系統應用技術四年計畫 | 領域: 自由度：3維
解析度：400CPI | 潛力預估: 若能達成高解析度的滑鼠開發，將有機會成為電腦輸入裝置的另一種選擇。
執行單位: 工研院機械所 | 產出年度: 93 | 產出單位: 微奈米系統應用技術四年計畫 | 領域: 霧化粒徑SMD | 潛力預估: 本技術的研發，將有助於國內吸入式藥物傳輸系統的發展，同時也促使國內在微機電相關產業之週邊技術的建立，以提高我國在生技與醫療器材領域的競爭力。
執行單位: 工研院機械所 | 產出年度: 93 | 產出單位: 微奈米系統應用技術四年計畫 | 領域: 均熱片尺寸：30x30x2 mm
可耐熱通密度：100w/cm2
可耐熱功率：>50W | 潛力預估: 製造技術可完全自行掌握，規格達國際水準，具市場競爭力。
執行單位: 工研院機械所 | 產出年度: 93 | 產出單位: 電腦整合自動化系統技術研究發展四年計畫 | 領域: 定位精度：±20mm | 潛力預估: 未來若完成電極圖案新製程設備，可大幅節省設備投資，市場需求大。
執行單位: 工研院機械所 | 產出年度: 93 | 產出單位: 電腦整合自動化系統技術研究發展四年計畫 | 領域: ‧電漿源： 500mm ‧ 錨定能 ： >10-5 J/m2 | 潛力預估: 非接觸式配向製程及設備為未來發展趨勢，在國外亦正研發中，市場需求殷切。
執行單位: 工研院機械所 | 產出年度: 93 | 產出單位: 電腦整合自動化系統技術研究發展四年計畫 | 領域: ‧ 捲繞速度：15~30m/min ‧ 張力誤差： ± 10％ ‧ 速度誤差：± 10％ | 潛力預估: 軟性顯示器是未來顯示器發展之趨勢，本技術可整合應用於軟板製程設備中，未來市場應用範圍極為廣泛。
執行單位: 工研院機械所 | 產出年度: 93 | 產出單位: 電腦整合自動化系統技術研究發展四年計畫 | 領域: 1. 檢測物： TFT-LCD彩色濾光片、素玻璃 2. 元件大小： 680 mm X 880 mm 3. 檢測速率： 15000 mm2／秒 4. 最小瑕疵： 20μm | 潛力預估: 技術應用領域可擴大至LCD其他元件的瑕疵檢測
執行單位: 工研院機械所 | 產出年度: 93 | 產出單位: 電腦整合自動化系統技術研究發展四年計畫 | 領域: 旋轉軸同步控制應用技術加工，為利用XYUV與旋轉軸同步控制移動，配合放電切削形成曲面無屑加工方式。 | 潛力預估: 協助國內WEDM廠商發展智慧型控制器與放電技術，2004年國產CNC 放電加工機產量將達900台，年產值達18億元以上，在市佔率方面逐年成長。本計畫開發具複合化與精度加工性能之線切割放電加工機，並且...
執行單位: 工研院機械所 | 產出年度: 93 | 產出單位: 電腦整合自動化系統技術研究發展四年計畫 | 領域: 創成放電加工技術間隙伺服控制、放電軌跡路徑加工控制、3D曲面放電加工控制、自動換電極功能、電極尺寸偵測及補償功能及創成放電電源(ON Time=500ns、Ip=0.5A、9段電容選擇)。 | 潛力預估: 創成放電加工控制技術便提供3D微細放電加工一種技術解決方案，應用於奈米科技、光電通訊、生醫科技在微細加工零組件或模具的需求，使得整機單價可由80萬元提昇至250萬元。
執行單位: 工研院機械所 | 產出年度: 93 | 產出單位: 電腦整合自動化系統技術研究發展四年計畫 | 領域: 晶片堆疊控制，底部充填自動校正控制 | 潛力預估: 1.晶片堆疊控制增加設備性能及提高設備附加價值。2.底部充填自動校正控制，適用於覆晶製程點膠製程設備。
執行單位: 工研院機械所 | 產出年度: 93 | 產出單位: 電腦整合自動化系統技術研究發展四年計畫 | 領域: ‧ 鑽孔速度：400孔/分鐘 ‧ 檔案管理 ‧ 座標顯示 ‧ 加工路徑顯示 ‧ 翻、排版指令 ‧ 多次鑽孔功能 ‧ 擴鑽圓孔/長槽擴鑽指令 ‧ 運轉/切削時間顯示 ‧ 從中斷點重新啟動功能 ‧ 斷針... | 潛力預估: 具備畫面瀏覽器功能，可由機器製造商自由編輯設定顯示畫面以增加系統專有特色功能，提高市場競爭力。
執行單位: 工研院機械所 | 產出年度: 93 | 產出單位: 電腦整合自動化系統技術研究發展四年計畫 | 領域: Windows CE 作業平台，具6軸脈波輸出，6軸硬體閉迴路控制，384點輸入/384點輸出，9軸32位元(Bits)位置計數器，8 CHANNEL串列式A/D 界面，8 CHANNEL串列式D/A... | 潛力預估: 本技術可應用於九成以上之產業控制器，CNC控制器，半導體設備控制器等。