工研院材料與化工領域環境建構計畫 @ 政府開放資料
工研院材料與化工領域環境建構計畫 - 搜尋結果總共有 304 筆政府開放資料，以下是 1 - 20 [第 1 頁]。
功能性奈米粉體製造及應用技術先期技術授權 | 執行單位: 工研院材料所 | 產出年度: 93 | 產出單位: | 計畫名稱: 工研院材料與化工領域環境建構計畫 | 領域: | 技術規格: 粉體之平均粒徑可操控在10 ~ 200 nm間，比表面積可高達240 m2/g以上，而粉體形狀可操控為球狀、棒狀或四足錐狀。遮蔽UV(>85%)及IR(>30%)光、可見光照射下抗菌(A>2)、疏水... | 潛力預估: 根據美國SRI Consulting報告，2001年全球使用奈米粉體材料總價值已達31億美元。未來十年，市場規模會隨應用領域之開拓而急劇增加 @ 經濟部產業技術司–可移轉技術資料集 |
電化學法製備導電機能性奈米銀金屬球粉體技術 | 執行單位: 工研院材料所 | 產出年度: 94 | 產出單位: | 計畫名稱: 工研院材料與化工領域環境建構計畫 | 領域: | 技術規格: 奈米銀金屬奈米球粉體粒徑範圍 | 潛力預估: 銀奈米粒子材料被認為對電子零組件的微細化將有卓越的貢獻。奈米化的銀金屬由於具低電阻值導電機能特性加上具低溫燒結特性可降低燒結溫度，可用於導電材料，例如微細配線圖樣的導電線路。配合噴墨等塗佈技術，可在導... @ 經濟部產業技術司–可移轉技術資料集 |
精密塗佈與乾燥技術 | 執行單位: 工研院材料所 | 產出年度: 94 | 產出單位: | 計畫名稱: 工研院材料與化工領域環境建構計畫 | 領域: | 技術規格: 乾膜厚度介於1~100μm之間、厚度均勻度395%、三成分乾燥一維乾燥路徑模擬程式 | 潛力預估: 舉凡各種光學膜，如彩色光阻、廣視角膜、增亮膜、偏光膜、補償膜、擴散片、塑膠基板及電池極板之製作，皆與「精密塗佈與乾燥為核心之關鍵技術互相牽連在一起，如有相關技術之建立,可促成工業供應鏈的齊全 @ 經濟部產業技術司–可移轉技術資料集 |
奈米導電粉體製造技術先期技術授權 | 執行單位: 工研院材料所 | 產出年度: 93 | 產出單位: | 計畫名稱: 工研院材料與化工領域環境建構計畫 | 領域: | 技術規格: 奈米導電/磁性粉體粒徑小於30奈米，其外披覆有機殼層而呈核殼結構 | 潛力預估: 電磁波遮蔽與高頻磁性應用之奈米粉體材料國內市場潛力約在新台幣24億元規模 @ 經濟部產業技術司–可移轉技術資料集 |
奈米氧化鋅可見光觸媒製造及應用技術 | 執行單位: 工研院材料所 | 產出年度: 94 | 產出單位: | 計畫名稱: 工研院材料與化工領域環境建構計畫 | 領域: | 技術規格: 所合成之奈米氧化鋅可見光觸媒(0.2 wt.%)在波長543 nm/強度1500 Lux之可見光照射下，可以在3小時內殺死99.98%的細菌 | 潛力預估: 可支援國內外環保、化工、建築等相關產業 @ 經濟部產業技術司–可移轉技術資料集 |
自組成奈米介面結構在電子元件的應用 | 核准國家: 中華民國 | 執行單位: 工研院材料所 | 產出年度: 93 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 工研院材料與化工領域環境建構計畫 | 專利發明人: 廖聖茹, 盧榮宏, 張懷祿, 陳炯雄, 黃依蘋, 周裕福, 潘浩然 | 證書號碼: 194413 @ 經濟部產業技術司–專利資料集 |
產生偏極化光源之導光模組 | 核准國家: 中華民國 | 執行單位: 工研院材料所 | 產出年度: 93 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 工研院材料與化工領域環境建構計畫 | 專利發明人: 蔡明郎, 溫俊祥, 郭惠隆, 黃國棟, 吳耀庭, 胡應強, 李世光, 余良彬, 陳品誠, 劉安順 | 證書號碼: 201788 @ 經濟部產業技術司–專利資料集 |
微米針頭陣列製造方法及其結構 | 核准國家: 中華民國 | 執行單位: 工研院材料所 | 產出年度: 93 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 工研院材料與化工領域環境建構計畫 | 專利發明人: 陳玄芳, 周淑金, 葉信宏, 楊昀良, 顏佳瑩 | 證書號碼: 194421 @ 經濟部產業技術司–專利資料集 |
超薄型塗佈技術先期技術授權 | 執行單位: 工研院材料所 | 產出年度: 93 | 產出單位: | 計畫名稱: 工研院材料與化工領域環境建構計畫 | 領域: | 技術規格: 乾膜厚度￡0.5μm、厚度均勻度395%, 塗佈寬度3300mm | 潛力預估: 本技術可增進國內廠商建立上游材料的製作技術，建立如觸控面板、增亮膜、廣試角膜、抗反射膜、抗炫膜與其他光學補償膜等等，如果本土材料產業成功的話，可提供下游就近的材料提供與成本競爭力，預期可以有很大的產業... @ 經濟部產業技術司–可移轉技術資料集 |
具有雙金屬層光柵的偏光元件及其製造方法 | 核准國家: 中華民國 | 執行單位: 工研院材料所 | 產出年度: 93 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 工研院材料與化工領域環境建構計畫 | 專利發明人: 丘至和, 郭惠隆, 劉怡君, 陳品誠 | 證書號碼: I223103 @ 經濟部產業技術司–專利資料集 |
奈米模板合成技術 | 執行單位: 工研院材料所 | 產出年度: 94 | 產出單位: | 計畫名稱: 工研院材料與化工領域環境建構計畫 | 領域: | 技術規格: 1. AAO奈米模板的孔洞直徑40nm, 80nm 與150nm, 模板面積最大可以達到A4 size2.各種Au, Ni... 金屬奈米線及Au/Ni 多層奈米線, 直徑從80~300nm, 並結合... | 潛力預估: 預計可以應用於上述產業開發創新性的專利, 幫助國內廠商建立自有的產品與IP, 提升國際競爭力 @ 經濟部產業技術司–可移轉技術資料集 |
場發射源元件的金屬性奈米絲或奈米管的植入方法 | 核准國家: 中華民國 | 執行單位: 工研院材料所 | 產出年度: 93 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 工研院材料與化工領域環境建構計畫 | 專利發明人: 徐文泰, 盧榮宏, 周有偉, 葉國光, 戴椿河, 張志銘 | 證書號碼: I221624 @ 經濟部產業技術司–專利資料集 |
計量式精密塗佈技術 | 執行單位: 工研院材料所 | 產出年度: 93 | 產出單位: | 計畫名稱: 工研院材料與化工領域環境建構計畫 | 領域: | 技術規格: 乾膜厚度介於1~100μm之間、厚度均勻度395% | 潛力預估: 舉凡各種光學膜，如彩色光阻、廣視角膜、增亮膜、偏光膜、補償膜、擴散片、塑膠基板及電池極板之製作，皆與「精密塗佈技術」為核心之關鍵技術互相牽連在一起，如有相關技術之建立,可促成工業供應鏈的齊全 @ 經濟部產業技術司–可移轉技術資料集 |
多元合金細晶及成形技術先期技術授權 | 執行單位: 工研院材料所 | 產出年度: 93 | 產出單位: | 計畫名稱: 工研院材料與化工領域環境建構計畫 | 領域: | 技術規格: 鎂鋁合金材料晶粒尺寸﹤1mm、鎂鋁合金材料伸長率> 300%、多元合金塗層具有﹤5w /m. k之熱傳導率及Hv500以上之硬度 | 潛力預估: 3C產品鎂鋁合金外殼產值目前有80億, 預估每年有20-30%之成長率 @ 經濟部產業技術司–可移轉技術資料集 |
全光域、高密度、高解析度、高倍速及高相容性之可錄式光記錄媒體之膜層 | 核准國家: 美國 | 執行單位: 工研院材料所 | 產出年度: 93 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 電子關鍵性材料與整合模組發展四年計畫 | 專利發明人: 徐文泰, 張育嘉, 鄭竹軒, 周瑞崇, 柯文揚 | 證書號碼: 6811948 @ 經濟部產業技術司–專利資料集 |
IC封裝基板PBGA微區表面分析 | 執行單位: 工研院材料所 | 產出年度: 94 | 產出單位: | 計畫名稱: 工研院材料與化工領域環境建構計畫 | 領域: | 技術規格: 以微區ESCA技術分析如PBGA、PCB..基板表面/薄膜深度範圍0~10000 nm，微區分析解析度~3 um | 潛力預估: 由於微區表面分析可協助開發finger/trace pitch的基板，使尺寸縮小，構裝密度增加，確立了IC封裝基板製程技術領先的地位 @ 經濟部產業技術司–可移轉技術資料集 |
奈米模板合成技術先期技術授權 | 執行單位: 工研院材料所 | 產出年度: 93 | 產出單位: | 計畫名稱: 工研院材料與化工領域環境建構計畫 | 領域: | 技術規格: AAO模板的均勻孔洞直徑為最小可達50 nm，最大可達120nm, 模板厚度10 mm以上；AAO模板的面積可以達到200 mm x 200 mm | 潛力預估: LCD、OLED、LED產業 @ 經濟部產業技術司–可移轉技術資料集 |
OES光譜分析 | 執行單位: 工研院材料所 | 產出年度: 94 | 產出單位: | 計畫名稱: 工研院材料與化工領域環境建構計畫 | 領域: | 技術規格: 光放射光譜波長範圍200~850nm | 潛力預估: ??????????自行開發即時材料成份檢測分析儀器-「雷射誘發電漿光譜(Laser-Induced Plasma Spectroscopy, LIPS)」設備以及即時電漿製程監測「光放射光譜(Opt... @ 經濟部產業技術司–可移轉技術資料集 |
奈米檢測技術-表面分析檢測技術應用先期技術授權 | 執行單位: 工研院材料所 | 產出年度: 93 | 產出單位: | 計畫名稱: 工研院材料與化工領域環境建構計畫 | 領域: | 技術規格: 以微區ESCA技術分析表面/薄膜深度可 | 潛力預估: 可應用在DLED開發高亮度、高發光效率 @ 經濟部產業技術司–可移轉技術資料集 |
Fabry-Perot Open Resonator | 執行單位: 工研院材料所 | 產出年度: 94 | 產出單位: | 計畫名稱: 工研院材料與化工領域環境建構計畫 | 領域: | 技術規格: 85GHz以下材料介電參數測試,誤差￡±5% | 潛力預估: 本技術對試片較無尺度上之要求，可進行非破壞性量測，故陶瓷或複合材料均可量測，亦可on-line測試，為高頻基板材料開發及線上品管之重要工具 @ 經濟部產業技術司–可移轉技術資料集 |
功能性奈米粉體製造及應用技術先期技術授權執行單位: 工研院材料所 | 產出年度: 93 | 產出單位: | 計畫名稱: 工研院材料與化工領域環境建構計畫 | 領域: | 技術規格: 粉體之平均粒徑可操控在10 ~ 200 nm間，比表面積可高達240 m2/g以上，而粉體形狀可操控為球狀、棒狀或四足錐狀。遮蔽UV(>85%)及IR(>30%)光、可見光照射下抗菌(A>2)、疏水... | 潛力預估: 根據美國SRI Consulting報告，2001年全球使用奈米粉體材料總價值已達31億美元。未來十年，市場規模會隨應用領域之開拓而急劇增加 @ 經濟部產業技術司–可移轉技術資料集 |
電化學法製備導電機能性奈米銀金屬球粉體技術執行單位: 工研院材料所 | 產出年度: 94 | 產出單位: | 計畫名稱: 工研院材料與化工領域環境建構計畫 | 領域: | 技術規格: 奈米銀金屬奈米球粉體粒徑範圍 | 潛力預估: 銀奈米粒子材料被認為對電子零組件的微細化將有卓越的貢獻。奈米化的銀金屬由於具低電阻值導電機能特性加上具低溫燒結特性可降低燒結溫度，可用於導電材料，例如微細配線圖樣的導電線路。配合噴墨等塗佈技術，可在導... @ 經濟部產業技術司–可移轉技術資料集 |
精密塗佈與乾燥技術執行單位: 工研院材料所 | 產出年度: 94 | 產出單位: | 計畫名稱: 工研院材料與化工領域環境建構計畫 | 領域: | 技術規格: 乾膜厚度介於1~100μm之間、厚度均勻度395%、三成分乾燥一維乾燥路徑模擬程式 | 潛力預估: 舉凡各種光學膜，如彩色光阻、廣視角膜、增亮膜、偏光膜、補償膜、擴散片、塑膠基板及電池極板之製作，皆與「精密塗佈與乾燥為核心之關鍵技術互相牽連在一起，如有相關技術之建立,可促成工業供應鏈的齊全 @ 經濟部產業技術司–可移轉技術資料集 |
奈米導電粉體製造技術先期技術授權執行單位: 工研院材料所 | 產出年度: 93 | 產出單位: | 計畫名稱: 工研院材料與化工領域環境建構計畫 | 領域: | 技術規格: 奈米導電/磁性粉體粒徑小於30奈米，其外披覆有機殼層而呈核殼結構 | 潛力預估: 電磁波遮蔽與高頻磁性應用之奈米粉體材料國內市場潛力約在新台幣24億元規模 @ 經濟部產業技術司–可移轉技術資料集 |
奈米氧化鋅可見光觸媒製造及應用技術執行單位: 工研院材料所 | 產出年度: 94 | 產出單位: | 計畫名稱: 工研院材料與化工領域環境建構計畫 | 領域: | 技術規格: 所合成之奈米氧化鋅可見光觸媒(0.2 wt.%)在波長543 nm/強度1500 Lux之可見光照射下，可以在3小時內殺死99.98%的細菌 | 潛力預估: 可支援國內外環保、化工、建築等相關產業 @ 經濟部產業技術司–可移轉技術資料集 |
自組成奈米介面結構在電子元件的應用核准國家: 中華民國 | 執行單位: 工研院材料所 | 產出年度: 93 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 工研院材料與化工領域環境建構計畫 | 專利發明人: 廖聖茹, 盧榮宏, 張懷祿, 陳炯雄, 黃依蘋, 周裕福, 潘浩然 | 證書號碼: 194413 @ 經濟部產業技術司–專利資料集 |
產生偏極化光源之導光模組核准國家: 中華民國 | 執行單位: 工研院材料所 | 產出年度: 93 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 工研院材料與化工領域環境建構計畫 | 專利發明人: 蔡明郎, 溫俊祥, 郭惠隆, 黃國棟, 吳耀庭, 胡應強, 李世光, 余良彬, 陳品誠, 劉安順 | 證書號碼: 201788 @ 經濟部產業技術司–專利資料集 |
微米針頭陣列製造方法及其結構核准國家: 中華民國 | 執行單位: 工研院材料所 | 產出年度: 93 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 工研院材料與化工領域環境建構計畫 | 專利發明人: 陳玄芳, 周淑金, 葉信宏, 楊昀良, 顏佳瑩 | 證書號碼: 194421 @ 經濟部產業技術司–專利資料集 |
超薄型塗佈技術先期技術授權執行單位: 工研院材料所 | 產出年度: 93 | 產出單位: | 計畫名稱: 工研院材料與化工領域環境建構計畫 | 領域: | 技術規格: 乾膜厚度￡0.5μm、厚度均勻度395%, 塗佈寬度3300mm | 潛力預估: 本技術可增進國內廠商建立上游材料的製作技術，建立如觸控面板、增亮膜、廣試角膜、抗反射膜、抗炫膜與其他光學補償膜等等，如果本土材料產業成功的話，可提供下游就近的材料提供與成本競爭力，預期可以有很大的產業... @ 經濟部產業技術司–可移轉技術資料集 |
具有雙金屬層光柵的偏光元件及其製造方法核准國家: 中華民國 | 執行單位: 工研院材料所 | 產出年度: 93 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 工研院材料與化工領域環境建構計畫 | 專利發明人: 丘至和, 郭惠隆, 劉怡君, 陳品誠 | 證書號碼: I223103 @ 經濟部產業技術司–專利資料集 |
奈米模板合成技術執行單位: 工研院材料所 | 產出年度: 94 | 產出單位: | 計畫名稱: 工研院材料與化工領域環境建構計畫 | 領域: | 技術規格: 1. AAO奈米模板的孔洞直徑40nm, 80nm 與150nm, 模板面積最大可以達到A4 size2.各種Au, Ni... 金屬奈米線及Au/Ni 多層奈米線, 直徑從80~300nm, 並結合... | 潛力預估: 預計可以應用於上述產業開發創新性的專利, 幫助國內廠商建立自有的產品與IP, 提升國際競爭力 @ 經濟部產業技術司–可移轉技術資料集 |
場發射源元件的金屬性奈米絲或奈米管的植入方法核准國家: 中華民國 | 執行單位: 工研院材料所 | 產出年度: 93 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 工研院材料與化工領域環境建構計畫 | 專利發明人: 徐文泰, 盧榮宏, 周有偉, 葉國光, 戴椿河, 張志銘 | 證書號碼: I221624 @ 經濟部產業技術司–專利資料集 |
計量式精密塗佈技術執行單位: 工研院材料所 | 產出年度: 93 | 產出單位: | 計畫名稱: 工研院材料與化工領域環境建構計畫 | 領域: | 技術規格: 乾膜厚度介於1~100μm之間、厚度均勻度395% | 潛力預估: 舉凡各種光學膜，如彩色光阻、廣視角膜、增亮膜、偏光膜、補償膜、擴散片、塑膠基板及電池極板之製作，皆與「精密塗佈技術」為核心之關鍵技術互相牽連在一起，如有相關技術之建立,可促成工業供應鏈的齊全 @ 經濟部產業技術司–可移轉技術資料集 |
多元合金細晶及成形技術先期技術授權執行單位: 工研院材料所 | 產出年度: 93 | 產出單位: | 計畫名稱: 工研院材料與化工領域環境建構計畫 | 領域: | 技術規格: 鎂鋁合金材料晶粒尺寸﹤1mm、鎂鋁合金材料伸長率> 300%、多元合金塗層具有﹤5w /m. k之熱傳導率及Hv500以上之硬度 | 潛力預估: 3C產品鎂鋁合金外殼產值目前有80億, 預估每年有20-30%之成長率 @ 經濟部產業技術司–可移轉技術資料集 |
全光域、高密度、高解析度、高倍速及高相容性之可錄式光記錄媒體之膜層核准國家: 美國 | 執行單位: 工研院材料所 | 產出年度: 93 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 電子關鍵性材料與整合模組發展四年計畫 | 專利發明人: 徐文泰, 張育嘉, 鄭竹軒, 周瑞崇, 柯文揚 | 證書號碼: 6811948 @ 經濟部產業技術司–專利資料集 |
IC封裝基板PBGA微區表面分析執行單位: 工研院材料所 | 產出年度: 94 | 產出單位: | 計畫名稱: 工研院材料與化工領域環境建構計畫 | 領域: | 技術規格: 以微區ESCA技術分析如PBGA、PCB..基板表面/薄膜深度範圍0~10000 nm，微區分析解析度~3 um | 潛力預估: 由於微區表面分析可協助開發finger/trace pitch的基板，使尺寸縮小，構裝密度增加，確立了IC封裝基板製程技術領先的地位 @ 經濟部產業技術司–可移轉技術資料集 |
奈米模板合成技術先期技術授權執行單位: 工研院材料所 | 產出年度: 93 | 產出單位: | 計畫名稱: 工研院材料與化工領域環境建構計畫 | 領域: | 技術規格: AAO模板的均勻孔洞直徑為最小可達50 nm，最大可達120nm, 模板厚度10 mm以上；AAO模板的面積可以達到200 mm x 200 mm | 潛力預估: LCD、OLED、LED產業 @ 經濟部產業技術司–可移轉技術資料集 |
OES光譜分析執行單位: 工研院材料所 | 產出年度: 94 | 產出單位: | 計畫名稱: 工研院材料與化工領域環境建構計畫 | 領域: | 技術規格: 光放射光譜波長範圍200~850nm | 潛力預估: ??????????自行開發即時材料成份檢測分析儀器-「雷射誘發電漿光譜(Laser-Induced Plasma Spectroscopy, LIPS)」設備以及即時電漿製程監測「光放射光譜(Opt... @ 經濟部產業技術司–可移轉技術資料集 |
奈米檢測技術-表面分析檢測技術應用先期技術授權執行單位: 工研院材料所 | 產出年度: 93 | 產出單位: | 計畫名稱: 工研院材料與化工領域環境建構計畫 | 領域: | 技術規格: 以微區ESCA技術分析表面/薄膜深度可 | 潛力預估: 可應用在DLED開發高亮度、高發光效率 @ 經濟部產業技術司–可移轉技術資料集 |
Fabry-Perot Open Resonator執行單位: 工研院材料所 | 產出年度: 94 | 產出單位: | 計畫名稱: 工研院材料與化工領域環境建構計畫 | 領域: | 技術規格: 85GHz以下材料介電參數測試,誤差￡±5% | 潛力預估: 本技術對試片較無尺度上之要求，可進行非破壞性量測，故陶瓷或複合材料均可量測，亦可on-line測試，為高頻基板材料開發及線上品管之重要工具 @ 經濟部產業技術司–可移轉技術資料集 |