256 x 256 寬波段量子點焦平面紅外線單晶片
- 技術司可移轉技術資料集 @ 經濟部

技術名稱-中文256 x 256 寬波段量子點焦平面紅外線單晶片的執行單位是中科院材料所, 產出年度是97, 計畫名稱是光電輸出入模組與應用技術計畫, 技術規格是量子井紅外線偵測器之元件特性為: 1. 8-12μm : Responsivity > 0.4 A/W,Detectivity > 1010 cm.Hz1/2/W at 10k。 2. 3-5 μm : Responsivity > 0.4 A/W,Detectivity > 1010 cm.Hz..., 潛力預估是若能順利技轉於國內生產並取得國際認證,每年所獲純利>30%.

序號2553
產出年度97
技術名稱-中文256 x 256 寬波段量子點焦平面紅外線單晶片
執行單位中科院材料所
產出單位(空)
計畫名稱光電輸出入模組與應用技術計畫
領域(空)
已申請專利之國家(空)
已獲得專利之國家(空)
技術現況敘述-中文本計畫技術開發乃應用雙波段中長波長紅外線光譜成像光電子技術,並配合先進影像演算法,大大提升早期乳癌診斷的準確度,且由於該診斷系統為一非侵入式、無游離輻射、低功率消耗、快速簡便、以及準確的醫學(紅外線雙光譜)影像分析技術。
技術現況敘述-英文(空)
技術規格量子井紅外線偵測器之元件特性為: 1. 8-12μm : Responsivity > 0.4 A/W,Detectivity > 1010 cm.Hz1/2/W at 10k。 2. 3-5 μm : Responsivity > 0.4 A/W,Detectivity > 1010 cm.Hz1/2/W at 10k。
技術成熟度實驗室階段
可應用範圍乳癌早期診斷、皮膚癌診斷、關節炎診斷
潛力預估若能順利技轉於國內生產並取得國際認證,每年所獲純利>30%
聯絡人員湯相峰先生
電話03-4712201#357106
傳真03-4711024
電子信箱shiangfengtang@yahoo.com.tw
參考網址(空)
所須軟硬體設備NI-imaging acquisition system、電路設計平台與半導體製程實驗室
需具備之專業人才光電、材料、電子、影像處理等相關背景

序號

2553

產出年度

97

技術名稱-中文

256 x 256 寬波段量子點焦平面紅外線單晶片

執行單位

中科院材料所

產出單位

(空)

計畫名稱

光電輸出入模組與應用技術計畫

領域

(空)

已申請專利之國家

(空)

已獲得專利之國家

(空)

技術現況敘述-中文

本計畫技術開發乃應用雙波段中長波長紅外線光譜成像光電子技術,並配合先進影像演算法,大大提升早期乳癌診斷的準確度,且由於該診斷系統為一非侵入式、無游離輻射、低功率消耗、快速簡便、以及準確的醫學(紅外線雙光譜)影像分析技術。

技術現況敘述-英文

(空)

技術規格

量子井紅外線偵測器之元件特性為: 1. 8-12μm : Responsivity > 0.4 A/W,Detectivity > 1010 cm.Hz1/2/W at 10k。 2. 3-5 μm : Responsivity > 0.4 A/W,Detectivity > 1010 cm.Hz1/2/W at 10k。

技術成熟度

實驗室階段

可應用範圍

乳癌早期診斷、皮膚癌診斷、關節炎診斷

潛力預估

若能順利技轉於國內生產並取得國際認證,每年所獲純利>30%

聯絡人員

湯相峰先生

電話

03-4712201#357106

傳真

03-4711024

電子信箱

shiangfengtang@yahoo.com.tw

參考網址

(空)

所須軟硬體設備

NI-imaging acquisition system、電路設計平台與半導體製程實驗室

需具備之專業人才

光電、材料、電子、影像處理等相關背景

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紅外線熱影像製程技術

執行單位: 中科院材料所 | 產出年度: 96 | 產出單位: | 計畫名稱: 光電輸出入模組與應用技術計畫 | 領域: | 技術規格: 1.256x256低溫熱影像測試平台。_x000D_2.4吋量子型砷化鎵偵檢磊晶片驗證技術。 | 潛力預估: 紅外線熱影像技術之相關應用已漸在市場受到重視,預估未來在安全及醫療上的市場將會更為廣泛,將可提升國內廠商產品的品質及附加價值。

@ 技術司可移轉技術資料集

雙波段紅外線熱影像模組關鍵技術

執行單位: 中科院材料所 | 產出年度: 100 | 產出單位: | 計畫名稱: 光電感測辨識模組與應用技術計畫 | 領域: | 技術規格: 1.RDU雙頻熱像模組畫素: 320×256 陣列畫素 2.陣列畫素間距: 50mm×50mm 3.畫面更新率= 30fs/sec@Tint = 32ms | 潛力預估: 運用本技術進行熱像陣列模組測試,協助建立熱影像測試技術,希望在一年內開發醫學手術紅外線影像監控平台原型架構,實際將本技術研發成果協助國內業界建立熱像測試與醫學監控應用技術,5年內預估可創造新台幣5億以...

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共振穿隧量子點元件裝置

核准國家: 中華民國 | 證書號碼: 發明第I 315585號 | 專利期間起: | 專利期間訖: | 專利性質: 發明 | 執行單位: 中科院材料所 | 產出年度: 98 | 計畫名稱: 光電感測辨識模組與應用技術計畫 | 專利發明人: 湯相峰 | 江建德 | 楊三德 | 羅俊傑 | 顏順隆

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紅外線熱影像陣列模組驗證架構與製造方法

核准國家: 中華民國 | 證書號碼: US 7,462.920B2 | 專利期間起: | 專利期間訖: | 專利性質: 發明 | 執行單位: 中科院材料所 | 產出年度: 97 | 計畫名稱: 光電輸出入模組與應用技術計畫 | 專利發明人: 湯相峰 | 江建德 | 翁炳國 | 施志昌 | 高耀堂 | 羅俊傑 | 楊三德

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室溫紅外線熱影像模組關鍵技術

執行單位: 中科院材料暨光電研究所─固態元件組 | 產出年度: 102 | 產出單位: | 計畫名稱: 光電半導體元件與系統應用關鍵計畫 | 領域: 綠能科技 | 技術規格: (1)解析度:160*120 (2)NEDT小於100mK (3)觀測波段:8~12um | 潛力預估:

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65K/0.75W 史特靈致冷器關鍵技術開發與影像系統硬體整合市場應用

執行單位: 中科院材料暨光電研究所─固態元件組 | 產出年度: 102 | 產出單位: | 計畫名稱: 光電半導體元件與系統應用關鍵計畫 | 領域: 綠能科技 | 技術規格: 全載致冷能力:57K | 潛力預估:

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QDIP 元件磊晶製程與量測分析

執行單位: 中科院材料所 | 產出年度: 93 | 產出單位: | 計畫名稱: 個人端光訊傳感與顯示技術四年計畫 | 領域: | 技術規格: 建立完整奈米光電偵檢元件製程驗證平台。 | 潛力預估: 可提供實驗室等級分析服務

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256×256紅外線寬波段量子點/量子井焦平面偵檢晶元

執行單位: 中科院材料所 | 產出年度: 98 | 產出單位: | 計畫名稱: 光電感測辨識模組與應用技術計畫 | 領域: | 技術規格: 256x256 感測畫素 | 潛力預估: 技術成熟量產後20億/年之產值

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紅外線熱影像製程技術

執行單位: 中科院材料所 | 產出年度: 96 | 產出單位: | 計畫名稱: 光電輸出入模組與應用技術計畫 | 領域: | 技術規格: 1.256x256低溫熱影像測試平台。_x000D_2.4吋量子型砷化鎵偵檢磊晶片驗證技術。 | 潛力預估: 紅外線熱影像技術之相關應用已漸在市場受到重視,預估未來在安全及醫療上的市場將會更為廣泛,將可提升國內廠商產品的品質及附加價值。

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雙波段紅外線熱影像模組關鍵技術

執行單位: 中科院材料所 | 產出年度: 100 | 產出單位: | 計畫名稱: 光電感測辨識模組與應用技術計畫 | 領域: | 技術規格: 1.RDU雙頻熱像模組畫素: 320×256 陣列畫素 2.陣列畫素間距: 50mm×50mm 3.畫面更新率= 30fs/sec@Tint = 32ms | 潛力預估: 運用本技術進行熱像陣列模組測試,協助建立熱影像測試技術,希望在一年內開發醫學手術紅外線影像監控平台原型架構,實際將本技術研發成果協助國內業界建立熱像測試與醫學監控應用技術,5年內預估可創造新台幣5億以...

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共振穿隧量子點元件裝置

核准國家: 中華民國 | 證書號碼: 發明第I 315585號 | 專利期間起: | 專利期間訖: | 專利性質: 發明 | 執行單位: 中科院材料所 | 產出年度: 98 | 計畫名稱: 光電感測辨識模組與應用技術計畫 | 專利發明人: 湯相峰 | 江建德 | 楊三德 | 羅俊傑 | 顏順隆

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紅外線熱影像陣列模組驗證架構與製造方法

核准國家: 中華民國 | 證書號碼: US 7,462.920B2 | 專利期間起: | 專利期間訖: | 專利性質: 發明 | 執行單位: 中科院材料所 | 產出年度: 97 | 計畫名稱: 光電輸出入模組與應用技術計畫 | 專利發明人: 湯相峰 | 江建德 | 翁炳國 | 施志昌 | 高耀堂 | 羅俊傑 | 楊三德

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室溫紅外線熱影像模組關鍵技術

執行單位: 中科院材料暨光電研究所─固態元件組 | 產出年度: 102 | 產出單位: | 計畫名稱: 光電半導體元件與系統應用關鍵計畫 | 領域: 綠能科技 | 技術規格: (1)解析度:160*120 (2)NEDT小於100mK (3)觀測波段:8~12um | 潛力預估:

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65K/0.75W 史特靈致冷器關鍵技術開發與影像系統硬體整合市場應用

執行單位: 中科院材料暨光電研究所─固態元件組 | 產出年度: 102 | 產出單位: | 計畫名稱: 光電半導體元件與系統應用關鍵計畫 | 領域: 綠能科技 | 技術規格: 全載致冷能力:57K | 潛力預估:

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QDIP 元件磊晶製程與量測分析

執行單位: 中科院材料所 | 產出年度: 93 | 產出單位: | 計畫名稱: 個人端光訊傳感與顯示技術四年計畫 | 領域: | 技術規格: 建立完整奈米光電偵檢元件製程驗證平台。 | 潛力預估: 可提供實驗室等級分析服務

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256×256紅外線寬波段量子點/量子井焦平面偵檢晶元

執行單位: 中科院材料所 | 產出年度: 98 | 產出單位: | 計畫名稱: 光電感測辨識模組與應用技術計畫 | 領域: | 技術規格: 256x256 感測畫素 | 潛力預估: 技術成熟量產後20億/年之產值

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中草藥安全性評估模式之建立

執行單位: 藥技中心 | 產出年度: 94 | 產出單位: | 計畫名稱: 呼吸道及抗關節炎植物藥與科學技術開發四年計畫 | 領域: | 技術規格: | 潛力預估: 可協助廠商進行藥物案全性評估,節省廠商之開發成本增加成功機率。

藥材化學品管技術開發

執行單位: 藥技中心 | 產出年度: 94 | 產出單位: | 計畫名稱: 呼吸道及抗關節炎植物藥與科學技術開發四年計畫 | 領域: | 技術規格: | 潛力預估: 可協助業者建立符合國際級之品管規格,以利日國產品之外銷。

中草藥國際形象網

執行單位: 藥技中心 | 產出年度: 94 | 產出單位: | 計畫名稱: 呼吸道及抗關節炎植物藥與科學技術開發四年計畫 | 領域: | 技術規格: | 潛力預估: 可協助業者建立符合國際級之品管規格,以利日國產品之外銷。

顯示器塑膠基材高硬度薄膜處理技術

執行單位: 工研院化工所 | 產出年度: 94 | 產出單位: | 計畫名稱: 高分子奈米材料與光電應用四年計畫 | 領域: | 技術規格: 光學薄膜其表面硬度≧3H‧ 穿透度≧90%。 接著強度符合JIS K5400 | 潛力預估: 顯示器用塑膠基材所需之光學塗裝其相關研究成果與專利於1980陸續被提出,且其全球市場產值預估於2005達到36億元新台幣,且預計至2008年市場產值將達到100億元新台幣。

高分子奈微米結構光學膜板加工應用技術

執行單位: 工研院化工所 | 產出年度: 94 | 產出單位: | 計畫名稱: 高分子奈米材料與光電應用四年計畫 | 領域: | 技術規格: ‧ feature size between 100-300nm,‧ deviation | 潛力預估: 高分子微光學膜片佔顯示器成本10-15%,隨著平面顯示器的需求,其產值不斷攀升,每年有數百億的市場規模

顯示器用封裝材料技術

執行單位: 工研院化工所 | 產出年度: 94 | 產出單位: | 計畫名稱: 高分子奈米材料與光電應用四年計畫 | 領域: | 技術規格: ‧ 硬度(shore D) ≧50‧ 接著強度(Lap-Shear) ≧40kgf/cm2‧ 透光率 (製樣厚度1mm) ≧90% | 潛力預估: 10億新台幣

軟板用高性能接著劑技術

執行單位: 工研院化工所 | 產出年度: 94 | 產出單位: | 計畫名稱: 高分子奈米材料與光電應用四年計畫 | 領域: | 技術規格: 可進行大面積Roll to Roll塗佈 | 潛力預估:

紅外線遮蔽奈米粉體與膠體製程技術

執行單位: 工研院化工所 | 產出年度: 94 | 產出單位: | 計畫名稱: 特化與奈米化工技術開發四年計畫 | 領域: | 技術規格: ‧ Sb/Sn = 5~15%‧ 晶粒大小 < 10nm‧ 膠體固含量: 30%‧ 粒徑大小D50 | 潛力預估: 在亞熱帶地區越來越多大樓的玻璃窗與汽車玻璃都會加裝一層具有阻絕紫外線與紅外線射進室內的透明薄層濾光物質,以便達到抗UV與隔熱效果。台灣地區的汽車數量已超過2千萬五千輛,而其中會在車窗玻璃加裝隔熱紙的車...

液晶純化回收技術

執行單位: 工研院化工所 | 產出年度: 94 | 產出單位: | 計畫名稱: 特化與奈米化工技術開發四年計畫 | 領域: | 技術規格: ‧ 比阻值:>1013 W Cm‧ 水份:95% | 潛力預估: 本技術用於TFT-LCD液晶回收純化之產值預估可達新台幣5~10億元。

UV交聯型顏料微粒化分散技術

執行單位: 工研院化工所 | 產出年度: 94 | 產出單位: | 計畫名稱: 特化與奈米化工技術開發四年計畫 | 領域: | 技術規格: ‧ 顏料分散液顏料平均粒徑(D50):洋紅、黃色、藍色≦100 nm,黑色≦120 nm‧ 顏料分散液顏料含量≧15 wt%‧ 顏料分散液黏度≦70 cps‧ 經40℃、30天後,顏料粒徑變化小於30... | 潛力預估: Non-Volatile UV curable 顏料分散沒含溶劑,黏度低、高安定分散,微粒化分散粒徑

奈米混成高硬度塗料

執行單位: 工研院化工所 | 產出年度: 94 | 產出單位: | 計畫名稱: 特化與奈米化工技術開發四年計畫 | 領域: | 技術規格: ‧ 通過百格試驗、‧ 耐酒精擦拭、‧ 鉛筆硬度達3H、‧ 透光度>90%、Haze | 潛力預估: 應 用在光電薄膜、塑膠地磚、地板、木器、金屬及3C產業的耐磨高硬度塗料市場,估計超過50億元。

R.G.B. 菲系電激發光高分子聚合與純化技術

執行單位: 工研院化工所 | 產出年度: 94 | 產出單位: | 計畫名稱: 特化與奈米化工技術開發四年計畫 | 領域: | 技術規格: 紅藍綠三色菲系電激發光高分子:‧ 分子量 > 100 K‧ 溶解度 > 1 wt.%/ml ﹙甲苯溶劑﹚‧ 藍光 EL & PL :420 ~ 450 nm‧ 綠光 EL & PL : 520 ~ 5... | 潛力預估: 本產品可應用於低成本FPD與平面光源,相關材料技術亦可應用於一般有機光電元件,如:太陽能電池、塑膠IC、感測元件…等。預估技術衍生之相關應用產品產值可達新台幣 50 億以上。

膠囊化液晶技術

執行單位: 工研院化工所 | 產出年度: 94 | 產出單位: | 計畫名稱: 特化與奈米化工技術開發四年計畫 | 領域: | 技術規格: ‧ 粒徑2-10 um ± 2um‧ 阻值≧ 1013‧ 膜厚15um,‧ 對比>6‧ 驅動電壓:≦25 V‧ 反射率>35% | 潛力預估: 本計劃建立光調控分子結構設計與應用之技術基礎開發,此項技術可用於顯示器產業。預估技術衍生之應用產品,未來3年可增加新台幣20億以上之產值。

高倍數DVDR染料

執行單位: 工研院化工所 | 產出年度: 94 | 產出單位: | 計畫名稱: 特化與奈米化工技術開發四年計畫 | 領域: | 技術規格: ‧ λmax = 570-580nm‧ 染料純度 >99 %‧ ε> 1x105‧ 溶解度≧2%‧ Td (TGA) > 150℃‧ mp >150℃ | 潛力預估: 台灣光碟廠延續CD-R光碟片之製造,DVDR光碟總產能之市佔率可望佔全球7成以上。日本Fujiwara預估2005年DVDR碟片市場需求較2004年成長近一倍,由2004年約20-22億片向上突破至逾...

顯示器用奈米級機能性光學薄膜-低抗反射膜

執行單位: 工研院化工所 | 產出年度: 94 | 產出單位: | 計畫名稱: 特化與奈米化工技術開發四年計畫 | 領域: | 技術規格: ‧ 基材: 188μm. PET Film‧ 鉛筆硬度:2H‧ 穿透率>93﹪‧ 反射率 | 潛力預估: 可藉由塗料配方調整,可增加眩光、抗靜電、防污等功能,提高產品之附加價值。

中草藥安全性評估模式之建立

執行單位: 藥技中心 | 產出年度: 94 | 產出單位: | 計畫名稱: 呼吸道及抗關節炎植物藥與科學技術開發四年計畫 | 領域: | 技術規格: | 潛力預估: 可協助廠商進行藥物案全性評估,節省廠商之開發成本增加成功機率。

藥材化學品管技術開發

執行單位: 藥技中心 | 產出年度: 94 | 產出單位: | 計畫名稱: 呼吸道及抗關節炎植物藥與科學技術開發四年計畫 | 領域: | 技術規格: | 潛力預估: 可協助業者建立符合國際級之品管規格,以利日國產品之外銷。

中草藥國際形象網

執行單位: 藥技中心 | 產出年度: 94 | 產出單位: | 計畫名稱: 呼吸道及抗關節炎植物藥與科學技術開發四年計畫 | 領域: | 技術規格: | 潛力預估: 可協助業者建立符合國際級之品管規格,以利日國產品之外銷。

顯示器塑膠基材高硬度薄膜處理技術

執行單位: 工研院化工所 | 產出年度: 94 | 產出單位: | 計畫名稱: 高分子奈米材料與光電應用四年計畫 | 領域: | 技術規格: 光學薄膜其表面硬度≧3H‧ 穿透度≧90%。 接著強度符合JIS K5400 | 潛力預估: 顯示器用塑膠基材所需之光學塗裝其相關研究成果與專利於1980陸續被提出,且其全球市場產值預估於2005達到36億元新台幣,且預計至2008年市場產值將達到100億元新台幣。

高分子奈微米結構光學膜板加工應用技術

執行單位: 工研院化工所 | 產出年度: 94 | 產出單位: | 計畫名稱: 高分子奈米材料與光電應用四年計畫 | 領域: | 技術規格: ‧ feature size between 100-300nm,‧ deviation | 潛力預估: 高分子微光學膜片佔顯示器成本10-15%,隨著平面顯示器的需求,其產值不斷攀升,每年有數百億的市場規模

顯示器用封裝材料技術

執行單位: 工研院化工所 | 產出年度: 94 | 產出單位: | 計畫名稱: 高分子奈米材料與光電應用四年計畫 | 領域: | 技術規格: ‧ 硬度(shore D) ≧50‧ 接著強度(Lap-Shear) ≧40kgf/cm2‧ 透光率 (製樣厚度1mm) ≧90% | 潛力預估: 10億新台幣

軟板用高性能接著劑技術

執行單位: 工研院化工所 | 產出年度: 94 | 產出單位: | 計畫名稱: 高分子奈米材料與光電應用四年計畫 | 領域: | 技術規格: 可進行大面積Roll to Roll塗佈 | 潛力預估:

紅外線遮蔽奈米粉體與膠體製程技術

執行單位: 工研院化工所 | 產出年度: 94 | 產出單位: | 計畫名稱: 特化與奈米化工技術開發四年計畫 | 領域: | 技術規格: ‧ Sb/Sn = 5~15%‧ 晶粒大小 < 10nm‧ 膠體固含量: 30%‧ 粒徑大小D50 | 潛力預估: 在亞熱帶地區越來越多大樓的玻璃窗與汽車玻璃都會加裝一層具有阻絕紫外線與紅外線射進室內的透明薄層濾光物質,以便達到抗UV與隔熱效果。台灣地區的汽車數量已超過2千萬五千輛,而其中會在車窗玻璃加裝隔熱紙的車...

液晶純化回收技術

執行單位: 工研院化工所 | 產出年度: 94 | 產出單位: | 計畫名稱: 特化與奈米化工技術開發四年計畫 | 領域: | 技術規格: ‧ 比阻值:>1013 W Cm‧ 水份:95% | 潛力預估: 本技術用於TFT-LCD液晶回收純化之產值預估可達新台幣5~10億元。

UV交聯型顏料微粒化分散技術

執行單位: 工研院化工所 | 產出年度: 94 | 產出單位: | 計畫名稱: 特化與奈米化工技術開發四年計畫 | 領域: | 技術規格: ‧ 顏料分散液顏料平均粒徑(D50):洋紅、黃色、藍色≦100 nm,黑色≦120 nm‧ 顏料分散液顏料含量≧15 wt%‧ 顏料分散液黏度≦70 cps‧ 經40℃、30天後,顏料粒徑變化小於30... | 潛力預估: Non-Volatile UV curable 顏料分散沒含溶劑,黏度低、高安定分散,微粒化分散粒徑

奈米混成高硬度塗料

執行單位: 工研院化工所 | 產出年度: 94 | 產出單位: | 計畫名稱: 特化與奈米化工技術開發四年計畫 | 領域: | 技術規格: ‧ 通過百格試驗、‧ 耐酒精擦拭、‧ 鉛筆硬度達3H、‧ 透光度>90%、Haze | 潛力預估: 應 用在光電薄膜、塑膠地磚、地板、木器、金屬及3C產業的耐磨高硬度塗料市場,估計超過50億元。

R.G.B. 菲系電激發光高分子聚合與純化技術

執行單位: 工研院化工所 | 產出年度: 94 | 產出單位: | 計畫名稱: 特化與奈米化工技術開發四年計畫 | 領域: | 技術規格: 紅藍綠三色菲系電激發光高分子:‧ 分子量 > 100 K‧ 溶解度 > 1 wt.%/ml ﹙甲苯溶劑﹚‧ 藍光 EL & PL :420 ~ 450 nm‧ 綠光 EL & PL : 520 ~ 5... | 潛力預估: 本產品可應用於低成本FPD與平面光源,相關材料技術亦可應用於一般有機光電元件,如:太陽能電池、塑膠IC、感測元件…等。預估技術衍生之相關應用產品產值可達新台幣 50 億以上。

膠囊化液晶技術

執行單位: 工研院化工所 | 產出年度: 94 | 產出單位: | 計畫名稱: 特化與奈米化工技術開發四年計畫 | 領域: | 技術規格: ‧ 粒徑2-10 um ± 2um‧ 阻值≧ 1013‧ 膜厚15um,‧ 對比>6‧ 驅動電壓:≦25 V‧ 反射率>35% | 潛力預估: 本計劃建立光調控分子結構設計與應用之技術基礎開發,此項技術可用於顯示器產業。預估技術衍生之應用產品,未來3年可增加新台幣20億以上之產值。

高倍數DVDR染料

執行單位: 工研院化工所 | 產出年度: 94 | 產出單位: | 計畫名稱: 特化與奈米化工技術開發四年計畫 | 領域: | 技術規格: ‧ λmax = 570-580nm‧ 染料純度 >99 %‧ ε> 1x105‧ 溶解度≧2%‧ Td (TGA) > 150℃‧ mp >150℃ | 潛力預估: 台灣光碟廠延續CD-R光碟片之製造,DVDR光碟總產能之市佔率可望佔全球7成以上。日本Fujiwara預估2005年DVDR碟片市場需求較2004年成長近一倍,由2004年約20-22億片向上突破至逾...

顯示器用奈米級機能性光學薄膜-低抗反射膜

執行單位: 工研院化工所 | 產出年度: 94 | 產出單位: | 計畫名稱: 特化與奈米化工技術開發四年計畫 | 領域: | 技術規格: ‧ 基材: 188μm. PET Film‧ 鉛筆硬度:2H‧ 穿透率>93﹪‧ 反射率 | 潛力預估: 可藉由塗料配方調整,可增加眩光、抗靜電、防污等功能,提高產品之附加價值。

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