導電金屬氧化物技術
- 經濟部產業技術司–可移轉技術資料集 @ 經濟部

技術名稱-中文導電金屬氧化物技術的執行單位是工研院院本部, 產出年度是98, 計畫名稱是工研院創新前瞻技術研究計畫, 技術規格是開發電阻率為6x10-4 Ω-cm與可見光穿透率達85%(含玻璃基板)，尺寸為15公分見方的高透明導電氧化物材料技術，完成高溫可靠度試驗：450oC-100hr光電特性衰減率小於1%, 潛力預估是目前常用於隔熱玻璃中之金屬膜層，可以金屬氧化物薄膜替代.

序號	3470
產出年度	98
技術名稱-中文	導電金屬氧化物技術
執行單位	工研院院本部
產出單位	(空)
計畫名稱	工研院創新前瞻技術研究計畫
領域	(空)
已申請專利之國家	(空)
已獲得專利之國家	(空)
技術現況敘述-中文	透明導電材料應用於電子元件上常因材料本身之基本性質限制，導致透明性與導電特性受到影響,在高透明的導電材料應用上，如能在材料結構上做組成的設計，將可以大幅提升光學特性，本計劃將開發具有高穩定性的明導電氧化物技術。
技術現況敘述-英文	(空)
技術規格	開發電阻率為6x10-4 Ω-cm與可見光穿透率達85%(含玻璃基板)，尺寸為15公分見方的高透明導電氧化物材料技術，完成高溫可靠度試驗：450oC-100hr光電特性衰減率小於1%
技術成熟度	實驗室階段
可應用範圍	顯示產業、能源產業，如太陽電池導電基板、節能產業如隔熱玻璃或電熱板
潛力預估	目前常用於隔熱玻璃中之金屬膜層，可以金屬氧化物薄膜替代
聯絡人員	林晉慶
電話	03-5918751
傳真	03-5918751
電子信箱	chinchinglin@itri.org.tw
參考網址	http://www.itri.org.tw/chi/tech-transfer/01.asp?RootNodeId=040&NodeId=041&NavRootNodeId=040
所須軟硬體設備	大氣噴鍍系統，熱風式烘箱
需具備之專業人才	材料、化學、化工相關背景
同步更新日期	2023-07-22

序號

3470

產出年度

技術名稱-中文

導電金屬氧化物技術

執行單位

工研院院本部

產出單位

(空)

計畫名稱

工研院創新前瞻技術研究計畫

領域

(空)

已申請專利之國家

(空)

已獲得專利之國家

(空)

技術現況敘述-中文

透明導電材料應用於電子元件上常因材料本身之基本性質限制，導致透明性與導電特性受到影響,在高透明的導電材料應用上，如能在材料結構上做組成的設計，將可以大幅提升光學特性，本計劃將開發具有高穩定性的明導電氧化物技術。

技術現況敘述-英文

(空)

技術規格

開發電阻率為6x10-4 Ω-cm與可見光穿透率達85%(含玻璃基板)，尺寸為15公分見方的高透明導電氧化物材料技術，完成高溫可靠度試驗：450oC-100hr光電特性衰減率小於1%

技術成熟度

實驗室階段

可應用範圍

顯示產業、能源產業，如太陽電池導電基板、節能產業如隔熱玻璃或電熱板

潛力預估

目前常用於隔熱玻璃中之金屬膜層，可以金屬氧化物薄膜替代

聯絡人員

林晉慶

電話

03-5918751

傳真

03-5918751

電子信箱

chinchinglin@itri.org.tw

參考網址

http://www.itri.org.tw/chi/tech-transfer/01.asp?RootNodeId=040&NodeId=041&NavRootNodeId=040

所須軟硬體設備

大氣噴鍍系統，熱風式烘箱

需具備之專業人才

材料、化學、化工相關背景

同步更新日期

2023-07-22

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# 03-5918751 於經濟部產業技術司–可移轉技術資料集 - 1

序號	4425
產出年度	99
技術名稱-中文	大氣噴鍍氧化物技術
執行單位	工研院材化所
產出單位	(空)
計畫名稱	行動智慧系統電子材料及應用技術開發計畫
領域	(空)
已申請專利之國家	(空)
已獲得專利之國家	(空)
技術現況敘述-中文	氧化物大氣噴印薄膜技術，利用化學合成水系氧化物溶液配合非真空大氣噴印技術，開發出具有高度應用性的透明功能性氧化物薄膜噴印技術，在透明導電材料領域可以取代目前ITO材料技術大幅降材料與製程成本，並且透過材料的功能調整可將應用領域擴充至顯示、節能與能源領域。
技術現況敘述-英文	(空)
技術規格	本技術開發之透明導電氧化物薄膜，薄膜片電阻值可達50/?且可見光穿透率為85%，將可以應用於觸控面板產業；如將材料組成進一步做調整將可以應用在節能玻璃技術上，其紅外線反射率可達85%以上，節能效果超越真空濺鍍的紅外線隔絕薄膜。
技術成熟度	試量產
可應用範圍	將大氣噴度氧化物技術應用於觸控面板產業的ITO替代材料上，將可以達到ITO減量或替代的效果，而目前研製的材料系統與ITO在光電特性上極為相近，對於觸控面板產業具有將材料與製程成本下降，並且達到提升產能的效果。
潛力預估	本技術可廣泛的應用於觸控面板、顯示、太陽電池與節能玻璃產業，在顯示與觸控面板產業可促進ITO替代的演進時程，並大幅降低廠商的製造成本與提升產能的優勢，而在節能玻璃產業可以替換目前昂貴且製程效率差的金屬濺鍍製程，大幅降低製作門檻同時提升產能與品質，對於節能產業具有極為重要的影響。
聯絡人員	林晉慶
電話	03-5918751
傳真	03-5820217
電子信箱	chinchinglin@itri.org.tw
參考網址	-
所須軟硬體設備	大氣鍍膜噴鍍系統、光學穿透率與膜厚測量儀、四點探針、霍爾量測儀、SEM、XRD。
需具備之專業人才	材料工程、化學化工相關科系、具備奈米陶瓷粉體之製備與濕式塗佈薄膜技術..等專長。

序號: 4425

產出年度: 99

技術名稱-中文: 大氣噴鍍氧化物技術

執行單位: 工研院材化所

產出單位: (空)

計畫名稱: 行動智慧系統電子材料及應用技術開發計畫

領域: (空)

已申請專利之國家: (空)

已獲得專利之國家: (空)

技術現況敘述-中文: 氧化物大氣噴印薄膜技術，利用化學合成水系氧化物溶液配合非真空大氣噴印技術，開發出具有高度應用性的透明功能性氧化物薄膜噴印技術，在透明導電材料領域可以取代目前ITO材料技術大幅降材料與製程成本，並且透過材料的功能調整可將應用領域擴充至顯示、節能與能源領域。

技術現況敘述-英文: (空)

技術規格: 本技術開發之透明導電氧化物薄膜，薄膜片電阻值可達50/?且可見光穿透率為85%，將可以應用於觸控面板產業；如將材料組成進一步做調整將可以應用在節能玻璃技術上，其紅外線反射率可達85%以上，節能效果超越真空濺鍍的紅外線隔絕薄膜。

技術成熟度: 試量產

可應用範圍: 將大氣噴度氧化物技術應用於觸控面板產業的ITO替代材料上，將可以達到ITO減量或替代的效果，而目前研製的材料系統與ITO在光電特性上極為相近，對於觸控面板產業具有將材料與製程成本下降，並且達到提升產能的效果。

潛力預估: 本技術可廣泛的應用於觸控面板、顯示、太陽電池與節能玻璃產業，在顯示與觸控面板產業可促進ITO替代的演進時程，並大幅降低廠商的製造成本與提升產能的優勢，而在節能玻璃產業可以替換目前昂貴且製程效率差的金屬濺鍍製程，大幅降低製作門檻同時提升產能與品質，對於節能產業具有極為重要的影響。

聯絡人員: 林晉慶

電話: 03-5918751

傳真: 03-5820217

電子信箱: chinchinglin@itri.org.tw

參考網址: -

所須軟硬體設備: 大氣鍍膜噴鍍系統、光學穿透率與膜厚測量儀、四點探針、霍爾量測儀、SEM、XRD。

需具備之專業人才: 材料工程、化學化工相關科系、具備奈米陶瓷粉體之製備與濕式塗佈薄膜技術..等專長。

# 03-5918751 於經濟部產業技術司–可移轉技術資料集 - 2

序號	5177
產出年度	100
技術名稱-中文	新型透明導電膜LFTO材料開發及圖案化技術
執行單位	工研院材化所
產出單位	(空)
計畫名稱	行動智慧系統電子材料及應用技術開發計畫
領域	(空)
已申請專利之國家	(空)
已獲得專利之國家	(空)
技術現況敘述-中文	以創新性非銦系透明導電氧化物材料作為主體，配合非真空大氣噴鍍製程，開發出新型透明導電薄膜(LFTO)，並且在製程技術開發上整合材料、製程、設備與系統各關鍵技術，研發出可圖案化且光學結構可調整的透明導電薄膜製程。目前已完成噴印式LFTO薄膜光電特性量測，片電阻可達
技術現況敘述-英文	(空)
技術規格	1. LFTO薄膜電性可達100W/□，薄膜厚度100nm，電阻率~1x10-3W-cm。 2. LFTO薄膜可見光穿透率可達89%，亮度90%，b*=0.8~-1.5(偏藍色)。 3. LFTO薄膜非真空大氣噴鍍製程溫度
技術成熟度	試量產
可應用範圍	開發新型透明導電材料替代傳統ITO材料，並搭配全印式製程替換昂貴且效率較差的真空製程，對於顯示與觸控面板產業的導電玻璃元件在材料與製程技術自有化有明顯的助益。 衍生技術可以應用於節能智慧建材產業，本技術節能特性已超越歐盟與美國法令規範，對於國內相關的傳統玻璃產業可以達到技術升級並一次到位的效果，可協助玻璃建材產業創造千億台幣的新商機。
潛力預估	本技術未來可移轉國內光電產業，強化廠商在新型透明導電膜之關鍵材料與噴鍍製程之技術能力，將可大幅降低國內產業對稀有金屬銦的依賴進，並且替代目前真空濺鍍製程氧化銦錫薄膜，整合材料、製程、設備與系統各關鍵技術，以達到提高獲利的目標。初期可先從國內廠商為主的投射電容式觸控面本領域做切入，之後再朝軟性電子、顯示器、節能、太陽電池等領域產品進攻，預期將帶動國內產業因應軟電時代來臨與印刷式電子產品的龐大商機，進入高階產品市場。
聯絡人員	林晉慶
電話	03-5918751
傳真	03-5820217
電子信箱	chinchinglin@itri.org.tw
參考網址	-
所須軟硬體設備	大面積大氣壓噴塗設備、細線化氣懸膠噴印設備、光學穿透率與膜厚測量儀、四點探針、霍爾量測儀、光學顯微鏡、掃描式電子顯微鏡。
需具備之專業人才	材料工程、化學化工相關科系、具備奈米陶瓷粉體之製備與濕式塗佈薄膜技術..等專長。

序號: 5177

產出年度: 100

技術名稱-中文: 新型透明導電膜LFTO材料開發及圖案化技術

執行單位: 工研院材化所

產出單位: (空)

計畫名稱: 行動智慧系統電子材料及應用技術開發計畫

領域: (空)

已申請專利之國家: (空)

已獲得專利之國家: (空)

技術現況敘述-中文: 以創新性非銦系透明導電氧化物材料作為主體，配合非真空大氣噴鍍製程，開發出新型透明導電薄膜(LFTO)，並且在製程技術開發上整合材料、製程、設備與系統各關鍵技術，研發出可圖案化且光學結構可調整的透明導電薄膜製程。目前已完成噴印式LFTO薄膜光電特性量測，片電阻可達

技術現況敘述-英文: (空)

技術規格: 1. LFTO薄膜電性可達100W/□，薄膜厚度100nm，電阻率~1x10-3W-cm。 2. LFTO薄膜可見光穿透率可達89%，亮度90%，b*=0.8~-1.5(偏藍色)。 3. LFTO薄膜非真空大氣噴鍍製程溫度

技術成熟度: 試量產

可應用範圍: 開發新型透明導電材料替代傳統ITO材料，並搭配全印式製程替換昂貴且效率較差的真空製程，對於顯示與觸控面板產業的導電玻璃元件在材料與製程技術自有化有明顯的助益。 衍生技術可以應用於節能智慧建材產業，本技術節能特性已超越歐盟與美國法令規範，對於國內相關的傳統玻璃產業可以達到技術升級並一次到位的效果，可協助玻璃建材產業創造千億台幣的新商機。

潛力預估: 本技術未來可移轉國內光電產業，強化廠商在新型透明導電膜之關鍵材料與噴鍍製程之技術能力，將可大幅降低國內產業對稀有金屬銦的依賴進，並且替代目前真空濺鍍製程氧化銦錫薄膜，整合材料、製程、設備與系統各關鍵技術，以達到提高獲利的目標。初期可先從國內廠商為主的投射電容式觸控面本領域做切入，之後再朝軟性電子、顯示器、節能、太陽電池等領域產品進攻，預期將帶動國內產業因應軟電時代來臨與印刷式電子產品的龐大商機，進入高階產品市場。

聯絡人員: 林晉慶

電話: 03-5918751

傳真: 03-5820217

電子信箱: chinchinglin@itri.org.tw

參考網址: -

所須軟硬體設備: 大面積大氣壓噴塗設備、細線化氣懸膠噴印設備、光學穿透率與膜厚測量儀、四點探針、霍爾量測儀、光學顯微鏡、掃描式電子顯微鏡。

需具備之專業人才: 材料工程、化學化工相關科系、具備奈米陶瓷粉體之製備與濕式塗佈薄膜技術..等專長。

# 03-5918751 於經濟部產業技術司–可移轉技術資料集 - 3

序號	6319
產出年度	102
技術名稱-中文	低溫化大氣印製型金屬氧化物材料技術
執行單位	工研院材化所
產出單位	(空)
計畫名稱	行動智慧系統電子材料及應用技術開發計畫
領域	(空)
已申請專利之國家	(空)
已獲得專利之國家	(空)
技術現況敘述-中文	藉由新材料設計開發克服氧化物解離效率差、鍍膜效率不佳上的問題，建立低溫化大氣印製型金屬氧化物材料技術，並以金屬粒子與導電氧化物混合系統，完成薄膜特性。
技術現況敘述-英文	(空)
技術規格	於180℃製程溫度下，薄膜片電阻可達50Ω/□，可見光穿透率~85%。
技術成熟度	實驗室階段
可應用範圍	觸控面板、太陽能導電玻璃或其他軟性光電產業，另外亦可應用於節能建材產品上。
潛力預估	低溫化大氣印製型金屬氧化物材料技術建立，進一步衍生應用於光電顯示元件之表面功能性光學薄膜加工應用，以擴大材料平台應用範疇及發揮平台綜效，並在製程上將可不受基板型態限制，可以低溫直接噴印於高分子基板上，大幅提升製程之可應用性與經濟效益。
聯絡人員	林晉慶
電話	03-5918751
傳真	03-5820206
電子信箱	chinchinglin@itri.org.tw
參考網址	-
所須軟硬體設備	大氣噴鍍系統
需具備之專業人才	材料與化學背景，熟知大氣噴鍍技術相關知識

序號: 6319

產出年度: 102

技術名稱-中文: 低溫化大氣印製型金屬氧化物材料技術

執行單位: 工研院材化所

產出單位: (空)

計畫名稱: 行動智慧系統電子材料及應用技術開發計畫

領域: (空)

已申請專利之國家: (空)

已獲得專利之國家: (空)

技術現況敘述-中文: 藉由新材料設計開發克服氧化物解離效率差、鍍膜效率不佳上的問題，建立低溫化大氣印製型金屬氧化物材料技術，並以金屬粒子與導電氧化物混合系統，完成薄膜特性。

技術現況敘述-英文: (空)

技術規格: 於180℃製程溫度下，薄膜片電阻可達50Ω/□，可見光穿透率~85%。

技術成熟度: 實驗室階段

可應用範圍: 觸控面板、太陽能導電玻璃或其他軟性光電產業，另外亦可應用於節能建材產品上。

潛力預估: 低溫化大氣印製型金屬氧化物材料技術建立，進一步衍生應用於光電顯示元件之表面功能性光學薄膜加工應用，以擴大材料平台應用範疇及發揮平台綜效，並在製程上將可不受基板型態限制，可以低溫直接噴印於高分子基板上，大幅提升製程之可應用性與經濟效益。

聯絡人員: 林晉慶

電話: 03-5918751

傳真: 03-5820206

電子信箱: chinchinglin@itri.org.tw

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所須軟硬體設備: 大氣噴鍍系統

需具備之專業人才: 材料與化學背景，熟知大氣噴鍍技術相關知識

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聚合型旋光性液晶化學品開發	執行單位: 工研院化工所 \| 產出年度: 93 \| 產出單位: \| 計畫名稱: 工研院材料與化工領域環境建構計畫 \| 領域: \| 技術規格: HTP=30.44mm-1之旋光性液晶單體，純度>98% \| 潛力預估: 聚合型高螺旋扭轉力液晶單體全球市場4億日元，市場佔有率若以5%計算約為新台幣500萬元/年，增亮膜市場約新台幣3000萬/年
12吋晶圓廠製程排水回收計畫	執行單位: 工研院能資所 \| 產出年度: 93 \| 產出單位: \| 計畫名稱: 永續資源技術開發三年計畫 \| 領域: \| 技術規格: 協助廠商提升水回收率10~15% \| 潛力預估: 根據力晶12吋廠實際推動的經驗，不僅可提升回收水質與水回率，且因機台排管分流資料庫的建立，大幅提升污染事故的處置效率與經濟效益。
大面積TFT-LCD 光激化乾式清洗技術	執行單位: 工研院能資所 \| 產出年度: 93 \| 產出單位: \| 計畫名稱: 永續資源技術開發三年計畫 \| 領域: \| 技術規格: 玻璃基板經 UV 光照射清洗後，基板上五點接觸角平均 < 10度 \| 潛力預估: 應映2008年LCD設備國產化需達50％之目標，故國內廠商需積極佈局易跨入之前段製程設備，此製程技術與設備皆為前段清洗設備必須。
晶圓表面有機污染檢測技術	執行單位: 工研院能資所 \| 產出年度: 93 \| 產出單位: \| 計畫名稱: 永續資源技術開發三年計畫 \| 領域: \| 技術規格: 完成Trinton-X-100 1 ppm及50 ppm的檢量線 \| 潛力預估: 高科技業中微污染控制是很重要的議題，任何的微量有機殘留都會影響製程與良率，因此有機物殘留檢測技術的建立，除了可以驗證清洗效率外，並能確保substrate表面之潔淨度。
奈米用水系統微量有機物質氧化去除技術	執行單位: 工研院能資所 \| 產出年度: 93 \| 產出單位: \| 計畫名稱: 工研院永續發展領域環境建構計畫 \| 領域: \| 技術規格: 0.13 mm 製程水質規格：TOC ≦ 0.8 ppb、Bacteria < 1 cfu/ml、total SiO2 ≦ 1 ppb、ion < 20 ppt、Particle ≦ 2 count... \| 潛力預估: 應映奈米及高科技製程所需用水規格，科針對國內12吋晶圓及下世代大尺寸的用水系統進行設計。
以ST微控器為控制核心之無感測直流無刷馬達驅動器	執行單位: 工研院能資所 \| 產出年度: 93 \| 產出單位: \| 計畫名稱: 工研院精密機械與微機電領域環境建構計畫 \| 領域: \| 技術規格: \| 潛力預估: 有機會應用於風扇負載，或直流變頻壓縮機，展現節能效益，或更進一步的控制。此為其商業淺力。
UV/O3系統實廠操作技術評估與開發	執行單位: 工研院能資所 \| 產出年度: 93 \| 產出單位: \| 計畫名稱: 永續資源技術開發三年計畫 \| 領域: \| 技術規格: \| 潛力預估: 科學園區管理局之污水納管管制條例，以及製程用水回收率需達85%之規定皆促使廠商進行有機廢水之處理
電子式溫度資料蒐集紀錄元件	執行單位: 工研院能資所 \| 產出年度: 93 \| 產出單位: \| 計畫名稱: 策略性服務業導向科專推動計畫 \| 領域: \| 技術規格: -30o~70oC±0.6oC(-20o~50o)/±1.2oC其他範圍,紅外線傳輸,工作條件:-20o~70oC,5~95﹪RH \| 潛力預估: 搭配蓄冷保溫櫃與保溫箱使用,推動全溫層保鮮服務,由於價格與進口產品比較具備相當高的競爭優勢,預估國內需求量每年超過1000個以上,加上授權廠家具備接受國外OEM及行銷能力,其評估每年出口(OEM)應可...
雨水貯留供水系統可行性評估系統	執行單位: 工研院能資所 \| 產出年度: 93 \| 產出單位: \| 計畫名稱: 永續資源技術開發三年計畫 \| 領域: \| 技術規格: 輔助設計軟體。 \| 潛力預估: 因應建築規則，綠建築專章已通過，建築設計市場需求殷切。
高濃度臭氧水產生技術	執行單位: 工研院能資所 \| 產出年度: 93 \| 產出單位: \| 計畫名稱: 永續資源技術開發三年計畫 \| 領域: \| 技術規格: 臭氧水濃度：50ppm \| 潛力預估: 臭氧技術因是on-site製造，具有高潔淨度特性，符合奈米製程高標準的潔淨度要求，並且省能省水，氧化力強，能在常溫下快速將有機物直接氧化成為CO2、羧酸類(R-COOH)等簡單小分子，反應產物可迅速揮...
二相流體精密洗淨製程技術	執行單位: 工研院能資所 \| 產出年度: 93 \| 產出單位: \| 計畫名稱: 永續資源技術開發三年計畫 \| 領域: \| 技術規格: 本技術可適用於具多孔性或具奈米孔洞之超微細結構元件與材料之清洗潔淨，奈米孔徑範圍可 < 5 nm~> 200 nm \| 潛力預估: 未來半導體及顯示器相繼產用具奈米孔洞或微細結構元件，故清洗技術需採用此技術。
蓄冷容器積載最佳化技術	執行單位: 工研院能資所 \| 產出年度: 93 \| 產出單位: \| 計畫名稱: 策略性服務業導向科專推動計畫 \| 領域: \| 技術規格: \| 潛力預估: 傳統物流公司以專用車輛配送,常、低溫貨件,或實施多溫共配之物流公司,以常溫車輛共配常、低溫貨件時,運用畚積載最佳化系統,可有效利用車廂內空間提供裝載率,將技術導入服務業者應用,預估可產生每年1仟萬元的...
PROFIBUS通訊技術及CAN-Bus通訊技術	執行單位: 工研院能資所 \| 產出年度: 93 \| 產出單位: \| 計畫名稱: 工研院精密機械與微機電領域環境建構計畫 \| 領域: \| 技術規格: \| 潛力預估: 基於現今工廠與日常機能自動化盛行的需求，標準的工業網路為最主要的構成要件。
功因控制技術	執行單位: 工研院能資所 \| 產出年度: 93 \| 產出單位: \| 計畫名稱: 工研院精密機械與微機電領域環境建構計畫 \| 領域: \| 技術規格: 220VAC輸入，具備保護功能，功因可達0.97以上。 \| 潛力預估: 運用於高功因雙向電能轉換控制系統之DSP架構，可應用於雙向交流電能轉換市場，如電梯、變頻器、工具機