矽酮高分子分析研判
- 技術司可移轉技術資料集 @ 經濟部

技術名稱-中文矽酮高分子分析研判的執行單位是中科院化學所, 產出年度是101, 計畫名稱是高值化學品技術開發與應用四年計畫, 技術規格是"官能基、分子量、成分組成分析", 潛力預估是矽酮高分子原料IR、NMR、GPC鑑定技術對研發、品管均為必要需求,可自行使用,開放技服商機無限。.

序號5569
產出年度101
技術名稱-中文矽酮高分子分析研判
執行單位中科院化學所
產出單位(空)
計畫名稱高值化學品技術開發與應用四年計畫
領域(空)
已申請專利之國家(空)
已獲得專利之國家(空)
技術現況敘述-中文"電子相關商品功能要求越來越高,所需要的材料性能也越要更耐熱、更透明、更耐候,矽酮高分子是不可或缺的選擇,自 己有分析能量才能建立品管能力,且可辨別購買之高價矽酮高分子之品質以免影響產品良率。 "
技術現況敘述-英文(空)
技術規格"官能基、分子量、成分組成分析"
技術成熟度實驗室階段
可應用範圍任何矽酮高分子原料IR、NMR、GPC鑑定技術應用。
潛力預估矽酮高分子原料IR、NMR、GPC鑑定技術對研發、品管均為必要需求,可自行使用,開放技服商機無限。
聯絡人員楊正乾
電話(03)4712201#358063
傳真(03)4719940
電子信箱csist@csistdup.org.tw
參考網址http://www.csistdup.org.tw
所須軟硬體設備一般化學合成設備及IR、NMR、GPC 光譜分析儀。
需具備之專業人才化學合成及化學分析儀器專業背景

序號

5569

產出年度

101

技術名稱-中文

矽酮高分子分析研判

執行單位

中科院化學所

產出單位

(空)

計畫名稱

高值化學品技術開發與應用四年計畫

領域

(空)

已申請專利之國家

(空)

已獲得專利之國家

(空)

技術現況敘述-中文

"電子相關商品功能要求越來越高,所需要的材料性能也越要更耐熱、更透明、更耐候,矽酮高分子是不可或缺的選擇,自 己有分析能量才能建立品管能力,且可辨別購買之高價矽酮高分子之品質以免影響產品良率。 "

技術現況敘述-英文

(空)

技術規格

"官能基、分子量、成分組成分析"

技術成熟度

實驗室階段

可應用範圍

任何矽酮高分子原料IR、NMR、GPC鑑定技術應用。

潛力預估

矽酮高分子原料IR、NMR、GPC鑑定技術對研發、品管均為必要需求,可自行使用,開放技服商機無限。

聯絡人員

楊正乾

電話

(03)4712201#358063

傳真

(03)4719940

電子信箱

csist@csistdup.org.tw

參考網址

http://www.csistdup.org.tw

所須軟硬體設備

一般化學合成設備及IR、NMR、GPC 光譜分析儀。

需具備之專業人才

化學合成及化學分析儀器專業背景

根據名稱 矽酮高分子分析研判 找到的相關資料

無其他 矽酮高分子分析研判 資料。

[ 搜尋所有 矽酮高分子分析研判 ... ]

根據電話 03 4712201 358063 找到的相關資料

(以下顯示 8 筆) (或要:直接搜尋所有 03 4712201 358063 ...)

側鏈籠狀矽氧烷之環氧樹脂及其製備方法及含側鏈籠狀矽氧烷之環氧樹脂材料之製備方法

核准國家: 中華民國 | 證書號碼: I388585 | 專利期間起: 117/08/20 | 專利期間訖: 本發明關於一種側鏈籠狀矽氧烷之環氧樹脂及其製備方法及含側鏈籠狀矽氧烷之環氧樹脂材料之製備方法,側鏈籠狀矽氧烷之環氧樹脂包括籠狀聚倍半矽氧烷基團連接於環氧樹脂(DGEBA)之側邊。側鏈籠狀矽氧烷之環氧樹... | 專利性質: 發明 | 執行單位: 中科院化學研究所 | 產出年度: 103 | 計畫名稱: 高值化學品技術開發與應用四年計畫 | 專利發明人: 楊正乾 | 馬振基

@ 技術司專利資料集

Germs resisting and self cleaning infiltration thin film and manufacturing method thereof

核准國家: 美國 | 證書號碼: US8415408B2 | 專利期間起: 119/03/24 | 專利期間訖: The invention provides a germs resisting and self-cleaning.infiltration thin film and manufacturing ... | 專利性質: 發明 | 執行單位: 中科院化學研究所 | 產出年度: 103 | 計畫名稱: 高值化學品技術開發與應用四年計畫 | 專利發明人: 楊正乾 | 吳國輝 | 古旺彩

@ 技術司專利資料集

碳三撥水劑之水性接著劑測試

執行單位: 中科院化學所 | 產出年度: 101 | 產出單位: | 計畫名稱: 高值化學品技術開發與應用四年計畫 | 領域: | 技術規格: 黏度: 10000~60000 cps、固含量:20~50% | 潛力預估: 織物輕量化、功能性化、防水透濕、保暖,氟素高分子材料的應用價值越來越重要,將來市場會越來越大。

@ 技術司可移轉技術資料集

建立矽橡膠研發能量

執行單位: 中科院化學所 | 產出年度: 101 | 產出單位: | 計畫名稱: 高值化學品技術開發與應用四年計畫 | 領域: | 技術規格: "矽橡膠 30-~3500cps,矽橡膠:SiO2:TiO2 100:20:20,Si(OEt)4 1~10%,Sn催化劑 0.5% 。" | 潛力預估: 電子相關商品均需使用,產品應用市場相當廣

@ 技術司可移轉技術資料集

梯狀含磷聚倍半矽氧烷有機/無機奈米複合材料之製造方法

核准國家: 中華民國 | 證書號碼: I341849 | 專利期間起: 100/05/11 | 專利期間訖: 116/02/09 | 專利性質: 發明 | 執行單位: 中科院化學所 | 產出年度: 101 | 計畫名稱: 高值化學品技術開發與應用四年計畫 | 專利發明人: 楊正乾 | 馬振基 | 古旺彩 | 彭運鑫

@ 技術司專利資料集

Epoxy/modifiedsilicondioxidecorrosionresistantnanocompositematerialandpreparationmethodthereof

核准國家: 美國 | 證書號碼: US7884176B2 | 專利期間起: 1996/10/5 | 專利期間訖: 116/10/05 | 專利性質: 發明 | 執行單位: 中科院化學所 | 產出年度: 101 | 計畫名稱: 高值化學品技術開發與應用四年計畫 | 專利發明人: 楊正乾 | 葉瑞銘

@ 技術司專利資料集

Epoxycompositematerialcontainingpolyaniline/carbonblackandpreparationmethodthereof

核准國家: 美國 | 證書號碼: US7834068B2 | 專利期間起: 1996/10/30 | 專利期間訖: 116/10/30 | 專利性質: 發明 | 執行單位: 中科院化學所 | 產出年度: 101 | 計畫名稱: 高值化學品技術開發與應用四年計畫 | 專利發明人: 楊正乾 | 吳國輝

@ 技術司專利資料集

Carbonnanotubecompoundandmethodforproducingthesame

核准國家: 美國 | 證書號碼: US7923527B1 | 專利期間起: 1998/10/14 | 專利期間訖: 118/10/14 | 專利性質: 發明 | 執行單位: 中科院化學所 | 產出年度: 101 | 計畫名稱: 高值化學品技術開發與應用四年計畫 | 專利發明人: 楊正乾 | 葉瑞銘

@ 技術司專利資料集

側鏈籠狀矽氧烷之環氧樹脂及其製備方法及含側鏈籠狀矽氧烷之環氧樹脂材料之製備方法

核准國家: 中華民國 | 證書號碼: I388585 | 專利期間起: 117/08/20 | 專利期間訖: 本發明關於一種側鏈籠狀矽氧烷之環氧樹脂及其製備方法及含側鏈籠狀矽氧烷之環氧樹脂材料之製備方法,側鏈籠狀矽氧烷之環氧樹脂包括籠狀聚倍半矽氧烷基團連接於環氧樹脂(DGEBA)之側邊。側鏈籠狀矽氧烷之環氧樹... | 專利性質: 發明 | 執行單位: 中科院化學研究所 | 產出年度: 103 | 計畫名稱: 高值化學品技術開發與應用四年計畫 | 專利發明人: 楊正乾 | 馬振基

@ 技術司專利資料集

Germs resisting and self cleaning infiltration thin film and manufacturing method thereof

核准國家: 美國 | 證書號碼: US8415408B2 | 專利期間起: 119/03/24 | 專利期間訖: The invention provides a germs resisting and self-cleaning.infiltration thin film and manufacturing ... | 專利性質: 發明 | 執行單位: 中科院化學研究所 | 產出年度: 103 | 計畫名稱: 高值化學品技術開發與應用四年計畫 | 專利發明人: 楊正乾 | 吳國輝 | 古旺彩

@ 技術司專利資料集

碳三撥水劑之水性接著劑測試

執行單位: 中科院化學所 | 產出年度: 101 | 產出單位: | 計畫名稱: 高值化學品技術開發與應用四年計畫 | 領域: | 技術規格: 黏度: 10000~60000 cps、固含量:20~50% | 潛力預估: 織物輕量化、功能性化、防水透濕、保暖,氟素高分子材料的應用價值越來越重要,將來市場會越來越大。

@ 技術司可移轉技術資料集

建立矽橡膠研發能量

執行單位: 中科院化學所 | 產出年度: 101 | 產出單位: | 計畫名稱: 高值化學品技術開發與應用四年計畫 | 領域: | 技術規格: "矽橡膠 30-~3500cps,矽橡膠:SiO2:TiO2 100:20:20,Si(OEt)4 1~10%,Sn催化劑 0.5% 。" | 潛力預估: 電子相關商品均需使用,產品應用市場相當廣

@ 技術司可移轉技術資料集

梯狀含磷聚倍半矽氧烷有機/無機奈米複合材料之製造方法

核准國家: 中華民國 | 證書號碼: I341849 | 專利期間起: 100/05/11 | 專利期間訖: 116/02/09 | 專利性質: 發明 | 執行單位: 中科院化學所 | 產出年度: 101 | 計畫名稱: 高值化學品技術開發與應用四年計畫 | 專利發明人: 楊正乾 | 馬振基 | 古旺彩 | 彭運鑫

@ 技術司專利資料集

Epoxy/modifiedsilicondioxidecorrosionresistantnanocompositematerialandpreparationmethodthereof

核准國家: 美國 | 證書號碼: US7884176B2 | 專利期間起: 1996/10/5 | 專利期間訖: 116/10/05 | 專利性質: 發明 | 執行單位: 中科院化學所 | 產出年度: 101 | 計畫名稱: 高值化學品技術開發與應用四年計畫 | 專利發明人: 楊正乾 | 葉瑞銘

@ 技術司專利資料集

Epoxycompositematerialcontainingpolyaniline/carbonblackandpreparationmethodthereof

核准國家: 美國 | 證書號碼: US7834068B2 | 專利期間起: 1996/10/30 | 專利期間訖: 116/10/30 | 專利性質: 發明 | 執行單位: 中科院化學所 | 產出年度: 101 | 計畫名稱: 高值化學品技術開發與應用四年計畫 | 專利發明人: 楊正乾 | 吳國輝

@ 技術司專利資料集

Carbonnanotubecompoundandmethodforproducingthesame

核准國家: 美國 | 證書號碼: US7923527B1 | 專利期間起: 1998/10/14 | 專利期間訖: 118/10/14 | 專利性質: 發明 | 執行單位: 中科院化學所 | 產出年度: 101 | 計畫名稱: 高值化學品技術開發與應用四年計畫 | 專利發明人: 楊正乾 | 葉瑞銘

@ 技術司專利資料集

[ 搜尋所有 03 4712201 358063 ... ]

在『技術司可移轉技術資料集』資料集內搜尋:


與矽酮高分子分析研判同分類的技術司可移轉技術資料集

自行車傳/制動系統技術

執行單位: 工研院機械所 | 產出年度: 93 | 產出單位: | 計畫名稱: 先進車輛系統關鍵技術發展三年計畫 | 領域: | 技術規格: 27速Index System, 內變速器, Roller Brake、HCF動態疲勞測試、整車煞車系統測試(DIN-79100) | 潛力預估: 可運用系統化的創新專利設計流程,有效建立產品之專利技術,建立傳/制動系統功能驗證技術,作為發展系統設計

自行車電動助力模組

執行單位: 工研院機械所 | 產出年度: 93 | 產出單位: | 計畫名稱: 先進車輛系統關鍵技術發展三年計畫 | 領域: | 技術規格: 無刷馬達:350W、輔助方式:比例式、純電動模式 | 潛力預估: 多重行車輔助模式,建立整車煞車系統功能驗證技術,作為發展系統設計之基礎

375c.c.四行程稀薄燃燒引擎

執行單位: 工研院機械所 | 產出年度: 93 | 產出單位: | 計畫名稱: 先進車輛系統關鍵技術發展三年計畫 | 領域: | 技術規格: 排氣量:373c.c(Bore 60mm* Stroke 66mm)、引擎型式:四行程、汽缸數:雙缸、閥門數:4閥/缸、排列方式:V型-90、冷卻方式:水冷、燃油系統:氣道噴射、點火系統:電晶體微電腦... | 潛力預估: 小型低速雙缸四行程噴射引擎系統設計,稀油燃燒進氣氣道設計,EMS開迴路控制、循序燃油控制與循序引擎點火控制

液滴噴射暨噴霧產生之微型泵浦

執行單位: 工研院機械所 | 產出年度: 93 | 產出單位: | 計畫名稱: 先進車輛系統關鍵技術發展三年計畫 | 領域: | 技術規格: 元件尺寸:15mm x 4mm x 30mm、工作頻率:12~20 kHz 、驅動電壓:27~35Vpk-pk、消耗功率:1mW以下、噴射液滴直徑:10~50μm(視設計需求而定)、噴射流量:最大2... | 潛力預估: 薄膜隔離之腔體設計,壓電片與噴孔片間壓力室和導流構造,以及陣列微孔批量製造技術。

車載資訊系統

執行單位: 工研院機械所 | 產出年度: 93 | 產出單位: | 計畫名稱: 先進車輛系統關鍵技術發展三年計畫 | 領域: | 技術規格: 構裝:1 DIN或更小尺吋、最大消耗功率:小於3瓦、休眠消耗電流:小於20mA@12V DC、作業系統:Windows CE 4.2 core version、CPU: ARM Based 200MH... | 潛力預估: ITS/Telematics數位內容服務整合技術、先進安全車輛整合技術

自動離合手排變速箱(AcMT)技術

執行單位: 工研院機械所 | 產出年度: 93 | 產出單位: | 計畫名稱: 先進車輛系統關鍵技術發展三年計畫 | 領域: | 技術規格: 本技術可使用於300Nm以下之手排車。 | 潛力預估:

兩軸旋轉主軸頭

執行單位: 工研院機械所 | 產出年度: 93 | 產出單位: | 計畫名稱: 精密機械技術研究發展四年計畫 | 領域: | 技術規格: 主軸:功率:15 kW、最大扭力:48 Nm、最高轉速:20,000 rpm、主軸振動:3μm以內;C軸:最大扭力:1,000Nm、行程:±200°;A軸:最大扭力:800 Nm、行程:±95° | 潛力預估: 直接驅動技術結合兩軸旋轉模組技術、智能型主軸技術等關鍵技術,更進一步提昇高速與複合切削加工技術,領導業界邁向直接驅動高速五軸關聯技術領域,提昇五軸機台品級及其附加價值,增加國際競爭力

精密微量射出成型模組技術

執行單位: 工研院機械所 | 產出年度: 93 | 產出單位: | 計畫名稱: 精密機械技術研究發展四年計畫 | 領域: | 技術規格: ‧ 成型位置潔淨度:Class 1,000 (U.S. Federal Standard) 、最大射速1000mm/sec、鎖模力200噸 | 潛力預估: 替代全潔淨室的局部潔淨艙設計、大功率、高射速的電氣驅動射出成型、WinCE視窗系統的PC-Based控制器設計

電子束加工及模具製造技術

執行單位: 工研院機械所 | 產出年度: 93 | 產出單位: | 計畫名稱: 工研院創新前瞻技術研究計畫 | 領域: | 技術規格: 1. Mold size: 4 and 6 inches 2. Mold material: metal, silicon and glass 3. Minimum line width≦20nm 4... | 潛力預估: 奈米技術被喻為第四波的工業革命,其重要性不言而喻。其中,奈米模仁的製造技術對於是否能將產品商業化扮演一重要角色。而電子束微影技術與乾蝕刻是奈米模仁最重要的加工技術之一。舉凡電子、光電、生醫等領域都有其...

奈米轉印設備技術

執行單位: 工研院機械所 | 產出年度: 93 | 產出單位: | 計畫名稱: 工研院創新前瞻技術研究計畫 | 領域: | 技術規格: H.E./UV Module; Imprinting size:6”; Max. pressure:60 Bar; Max. temperature:250℃; Microwave rapid hea... | 潛力預估: 奈米轉印技術應用領域相當廣泛,包括生醫元件、光電顯示器、資料儲存媒體以及奈米電子等領域;國際半導體技術藍圖(ITRS)已於2003年正式將轉印微影技術(Imprint Lithography)列為下...

微慣性感測技術

執行單位: 工研院機械所 | 產出年度: 93 | 產出單位: | 計畫名稱: 微奈米系統應用技術四年計畫 | 領域: | 技術規格: 自由度:3維 解析度:400CPI | 潛力預估: 若能達成高解析度的滑鼠開發,將有機會成為電腦輸入裝置的另一種選擇。

微霧化器

執行單位: 工研院機械所 | 產出年度: 93 | 產出單位: | 計畫名稱: 微奈米系統應用技術四年計畫 | 領域: | 技術規格: 霧化粒徑SMD | 潛力預估: 本技術的研發,將有助於國內吸入式藥物傳輸系統的發展,同時也促使國內在微機電相關產業之週邊技術的建立,以提高我國在生技與醫療器材領域的競爭力。

微均熱片

執行單位: 工研院機械所 | 產出年度: 93 | 產出單位: | 計畫名稱: 微奈米系統應用技術四年計畫 | 領域: | 技術規格: 均熱片尺寸:30x30x2 mm 可耐熱通密度:100w/cm2 可耐熱功率:>50W | 潛力預估: 製造技術可完全自行掌握,規格達國際水準,具市場競爭力。

TFT ARRAY製造設備技術

執行單位: 工研院機械所 | 產出年度: 93 | 產出單位: | 計畫名稱: 電腦整合自動化系統技術研究發展四年計畫 | 領域: | 技術規格: 定位精度:±20mm | 潛力預估: 未來若完成電極圖案新製程設備,可大幅節省設備投資,市場需求大。

TFT CELL製造設備技術

執行單位: 工研院機械所 | 產出年度: 93 | 產出單位: | 計畫名稱: 電腦整合自動化系統技術研究發展四年計畫 | 領域: | 技術規格: ‧電漿源: 500mm ‧ 錨定能 : >10-5 J/m2 | 潛力預估: 非接觸式配向製程及設備為未來發展趨勢,在國外亦正研發中,市場需求殷切。

自行車傳/制動系統技術

執行單位: 工研院機械所 | 產出年度: 93 | 產出單位: | 計畫名稱: 先進車輛系統關鍵技術發展三年計畫 | 領域: | 技術規格: 27速Index System, 內變速器, Roller Brake、HCF動態疲勞測試、整車煞車系統測試(DIN-79100) | 潛力預估: 可運用系統化的創新專利設計流程,有效建立產品之專利技術,建立傳/制動系統功能驗證技術,作為發展系統設計

自行車電動助力模組

執行單位: 工研院機械所 | 產出年度: 93 | 產出單位: | 計畫名稱: 先進車輛系統關鍵技術發展三年計畫 | 領域: | 技術規格: 無刷馬達:350W、輔助方式:比例式、純電動模式 | 潛力預估: 多重行車輔助模式,建立整車煞車系統功能驗證技術,作為發展系統設計之基礎

375c.c.四行程稀薄燃燒引擎

執行單位: 工研院機械所 | 產出年度: 93 | 產出單位: | 計畫名稱: 先進車輛系統關鍵技術發展三年計畫 | 領域: | 技術規格: 排氣量:373c.c(Bore 60mm* Stroke 66mm)、引擎型式:四行程、汽缸數:雙缸、閥門數:4閥/缸、排列方式:V型-90、冷卻方式:水冷、燃油系統:氣道噴射、點火系統:電晶體微電腦... | 潛力預估: 小型低速雙缸四行程噴射引擎系統設計,稀油燃燒進氣氣道設計,EMS開迴路控制、循序燃油控制與循序引擎點火控制

液滴噴射暨噴霧產生之微型泵浦

執行單位: 工研院機械所 | 產出年度: 93 | 產出單位: | 計畫名稱: 先進車輛系統關鍵技術發展三年計畫 | 領域: | 技術規格: 元件尺寸:15mm x 4mm x 30mm、工作頻率:12~20 kHz 、驅動電壓:27~35Vpk-pk、消耗功率:1mW以下、噴射液滴直徑:10~50μm(視設計需求而定)、噴射流量:最大2... | 潛力預估: 薄膜隔離之腔體設計,壓電片與噴孔片間壓力室和導流構造,以及陣列微孔批量製造技術。

車載資訊系統

執行單位: 工研院機械所 | 產出年度: 93 | 產出單位: | 計畫名稱: 先進車輛系統關鍵技術發展三年計畫 | 領域: | 技術規格: 構裝:1 DIN或更小尺吋、最大消耗功率:小於3瓦、休眠消耗電流:小於20mA@12V DC、作業系統:Windows CE 4.2 core version、CPU: ARM Based 200MH... | 潛力預估: ITS/Telematics數位內容服務整合技術、先進安全車輛整合技術

自動離合手排變速箱(AcMT)技術

執行單位: 工研院機械所 | 產出年度: 93 | 產出單位: | 計畫名稱: 先進車輛系統關鍵技術發展三年計畫 | 領域: | 技術規格: 本技術可使用於300Nm以下之手排車。 | 潛力預估:

兩軸旋轉主軸頭

執行單位: 工研院機械所 | 產出年度: 93 | 產出單位: | 計畫名稱: 精密機械技術研究發展四年計畫 | 領域: | 技術規格: 主軸:功率:15 kW、最大扭力:48 Nm、最高轉速:20,000 rpm、主軸振動:3μm以內;C軸:最大扭力:1,000Nm、行程:±200°;A軸:最大扭力:800 Nm、行程:±95° | 潛力預估: 直接驅動技術結合兩軸旋轉模組技術、智能型主軸技術等關鍵技術,更進一步提昇高速與複合切削加工技術,領導業界邁向直接驅動高速五軸關聯技術領域,提昇五軸機台品級及其附加價值,增加國際競爭力

精密微量射出成型模組技術

執行單位: 工研院機械所 | 產出年度: 93 | 產出單位: | 計畫名稱: 精密機械技術研究發展四年計畫 | 領域: | 技術規格: ‧ 成型位置潔淨度:Class 1,000 (U.S. Federal Standard) 、最大射速1000mm/sec、鎖模力200噸 | 潛力預估: 替代全潔淨室的局部潔淨艙設計、大功率、高射速的電氣驅動射出成型、WinCE視窗系統的PC-Based控制器設計

電子束加工及模具製造技術

執行單位: 工研院機械所 | 產出年度: 93 | 產出單位: | 計畫名稱: 工研院創新前瞻技術研究計畫 | 領域: | 技術規格: 1. Mold size: 4 and 6 inches 2. Mold material: metal, silicon and glass 3. Minimum line width≦20nm 4... | 潛力預估: 奈米技術被喻為第四波的工業革命,其重要性不言而喻。其中,奈米模仁的製造技術對於是否能將產品商業化扮演一重要角色。而電子束微影技術與乾蝕刻是奈米模仁最重要的加工技術之一。舉凡電子、光電、生醫等領域都有其...

奈米轉印設備技術

執行單位: 工研院機械所 | 產出年度: 93 | 產出單位: | 計畫名稱: 工研院創新前瞻技術研究計畫 | 領域: | 技術規格: H.E./UV Module; Imprinting size:6”; Max. pressure:60 Bar; Max. temperature:250℃; Microwave rapid hea... | 潛力預估: 奈米轉印技術應用領域相當廣泛,包括生醫元件、光電顯示器、資料儲存媒體以及奈米電子等領域;國際半導體技術藍圖(ITRS)已於2003年正式將轉印微影技術(Imprint Lithography)列為下...

微慣性感測技術

執行單位: 工研院機械所 | 產出年度: 93 | 產出單位: | 計畫名稱: 微奈米系統應用技術四年計畫 | 領域: | 技術規格: 自由度:3維 解析度:400CPI | 潛力預估: 若能達成高解析度的滑鼠開發,將有機會成為電腦輸入裝置的另一種選擇。

微霧化器

執行單位: 工研院機械所 | 產出年度: 93 | 產出單位: | 計畫名稱: 微奈米系統應用技術四年計畫 | 領域: | 技術規格: 霧化粒徑SMD | 潛力預估: 本技術的研發,將有助於國內吸入式藥物傳輸系統的發展,同時也促使國內在微機電相關產業之週邊技術的建立,以提高我國在生技與醫療器材領域的競爭力。

微均熱片

執行單位: 工研院機械所 | 產出年度: 93 | 產出單位: | 計畫名稱: 微奈米系統應用技術四年計畫 | 領域: | 技術規格: 均熱片尺寸:30x30x2 mm 可耐熱通密度:100w/cm2 可耐熱功率:>50W | 潛力預估: 製造技術可完全自行掌握,規格達國際水準,具市場競爭力。

TFT ARRAY製造設備技術

執行單位: 工研院機械所 | 產出年度: 93 | 產出單位: | 計畫名稱: 電腦整合自動化系統技術研究發展四年計畫 | 領域: | 技術規格: 定位精度:±20mm | 潛力預估: 未來若完成電極圖案新製程設備,可大幅節省設備投資,市場需求大。

TFT CELL製造設備技術

執行單位: 工研院機械所 | 產出年度: 93 | 產出單位: | 計畫名稱: 電腦整合自動化系統技術研究發展四年計畫 | 領域: | 技術規格: ‧電漿源: 500mm ‧ 錨定能 : >10-5 J/m2 | 潛力預估: 非接觸式配向製程及設備為未來發展趨勢,在國外亦正研發中,市場需求殷切。

 |