光斑解角器技術
- 經濟部產業技術司可移轉技術資料集 @ 經濟部

技術名稱-中文光斑解角器技術的執行單位是中科院材料所, 產出年度是102, 計畫名稱是光電半導體元件與系統應用關鍵計畫, 技術規格是"光斑影像比對特徵區域 128 x 128 pixels。利用感測像素NCC比對定位精度：3.45um 。利用光斑特徵點比對定位精度： 0.5um 。NCC定位法，解角器定位精度：  5 光斑特徵點定位法，解角器定位精度： 1 。", 潛力預估是精密多軸加工機之4、5軸，精密車、銑床之分度頭。.

序號	6344
產出年度	102
技術名稱-中文	光斑解角器技術
執行單位	中科院材料所
產出單位	(空)
計畫名稱	光電半導體元件與系統應用關鍵計畫
領域	(空)
已申請專利之國家	(空)
已獲得專利之國家	(空)
技術現況敘述-中文	利用雷射光斑絕對定位技術，開發絕對定位光斑解角器雛型裝置，事先記憶解角器母板所產生之光斑影像，並標定此光斑影像角度，待轉動光斑解角器母板，讀取新位置之光斑影像並與資料庫比對，得到新位置之絕對角度座標。
技術現況敘述-英文	(空)
技術規格	"光斑影像比對特徵區域 128 x 128 pixels。利用感測像素NCC比對定位精度：3.45um 。利用光斑特徵點比對定位精度： 0.5um 。NCC定位法，解角器定位精度：  5 光斑特徵點定位法，解角器定位精度： 1 。"
技術成熟度	實驗室階段
可應用範圍	工具機市場
潛力預估	精密多軸加工機之4、5軸，精密車、銑床之分度頭。
聯絡人員	黃宜裕
電話	03-4712201
傳真	03-4711024
電子信箱	csist_mrdc@csnet.gov.tw
參考網址	無
所須軟硬體設備	干涉儀裝置、定位分析軟體及個人電腦
需具備之專業人才	光電、電子相關背景
同步更新日期	2024-09-03

序號

6344

產出年度

102

技術名稱-中文

光斑解角器技術

執行單位

中科院材料所

產出單位

(空)

計畫名稱

光電半導體元件與系統應用關鍵計畫

領域

(空)

已申請專利之國家

(空)

已獲得專利之國家

(空)

技術現況敘述-中文

利用雷射光斑絕對定位技術，開發絕對定位光斑解角器雛型裝置，事先記憶解角器母板所產生之光斑影像，並標定此光斑影像角度，待轉動光斑解角器母板，讀取新位置之光斑影像並與資料庫比對，得到新位置之絕對角度座標。

技術現況敘述-英文

(空)

技術規格

"光斑影像比對特徵區域 128 x 128 pixels。利用感測像素NCC比對定位精度：3.45um 。利用光斑特徵點比對定位精度： 0.5um 。NCC定位法，解角器定位精度：  5 光斑特徵點定位法，解角器定位精度： 1 。"

技術成熟度

實驗室階段

可應用範圍

工具機市場

潛力預估

精密多軸加工機之4、5軸，精密車、銑床之分度頭。

聯絡人員

黃宜裕

電話

03-4712201

傳真

03-4711024

電子信箱

csist_mrdc@csnet.gov.tw

參考網址

無

所須軟硬體設備

干涉儀裝置、定位分析軟體及個人電腦

需具備之專業人才

光電、電子相關背景

同步更新日期

2024-09-03

根據名稱光斑解角器技術找到的相關資料

無其他光斑解角器技術資料。

[ 搜尋所有 光斑解角器技術 ... ]

根據電話 03-4712201 找到的相關資料

(以下顯示 8 筆) (或要:直接搜尋所有 03-4712201 ...)

利用極座標轉換法之紅外線追瞳系統	核准國家: 中華民國 \| 執行單位: 中科院材料所 \| 產出年度: 95 \| 專利性質: 發明 \| 計畫名稱: 光電輸出入模組與應用技術計畫 \| 專利發明人: 林宸生、葉茂勳、陳弦澤、郭靜男、賴良材 \| 證書號碼: 發明第 I 250467號 @ 經濟部產業技術司–專利資料集
電鑄殼模的增厚方法	核准國家: 中華民國 \| 執行單位: 中科院材料所 \| 產出年度: 95 \| 專利性質: 發明 \| 計畫名稱: 光電輸出入模組與應用技術計畫 \| 專利發明人: 張家華、蘇程裕、吳貞欽、徐駿龍 \| 證書號碼: 發明第 I 256328號 @ 經濟部產業技術司–專利資料集
以光學干涉術校準單點鑽石車床真空夾頭與工件之軸心的裝置	核准國家: 中華民國 \| 執行單位: 中科院材料所 \| 產出年度: 95 \| 專利性質: 發明 \| 計畫名稱: 光電輸出入模組與應用技術計畫 \| 專利發明人: 郭志暐、李志法、黃昭準、陳裕昌 \| 證書號碼: 發明第 I 257337號 @ 經濟部產業技術司–專利資料集
眼球軌跡追蹤方法	核准國家: 中華民國 \| 執行單位: 中科院材料所 \| 產出年度: 95 \| 專利性質: 發明 \| 計畫名稱: 光電輸出入模組與應用技術計畫 \| 專利發明人: 陳弦澤、林宸生、葉茂勳、賴良材、許孝義 \| 證書號碼: 發明第 I 261785號 @ 經濟部產業技術司–專利資料集
紅外線熱影像陣列模組驗證架構與製造方法	核准國家: 中華民國 \| 執行單位: 中科院材料所 \| 產出年度: 97 \| 專利性質: 發明 \| 計畫名稱: 光電輸出入模組與應用技術計畫 \| 專利發明人: 湯相峰、江建德、翁炳國、施志昌、高耀堂、羅俊傑、楊三德 \| 證書號碼: US 7,462.920B2 @ 經濟部產業技術司–專利資料集
電鑄模仁低溫增厚技術	執行單位: 中科院化學所 \| 產出年度: 93 \| 產出單位: \| 計畫名稱: 個人端光訊傳感與顯示技術四年計畫 \| 領域: \| 技術規格: (1)接合溫度200-400℃； (2)結合強度3000psi以上； (3)變形量<0.5μm/㎝。 \| 潛力預估: 基於光電、通訊、生技及電腦週邊產品對模具開發之需求日殷，市場前景可期。 @ 經濟部產業技術司可移轉技術資料集
新型滅火裝置	執行單位: 中科院化學所 \| 產出年度: 95 \| 產出單位: \| 計畫名稱: 先進安全車輛系統整合平台技術開發三年計畫 \| 領域: \| 技術規格: 雙頻火焰偵測器：1平方英尺汽油火源在10公呎以內可於3秒內確認火源與輸出訊號。氣體產生器式滅火器：噴灑時間約3-5秒，有效距離0.5-3公尺，通過ISO 12097規範驗證。 \| 潛力預估: 可分開各別或合併設置於各種有火災顧慮之場所，使用範圍寬廣。 @ 經濟部產業技術司可移轉技術資料集
車體動態穩定分析技術	執行單位: 金屬中心 \| 產出年度: 96 \| 產出單位: \| 計畫名稱: 車輛底盤次系統關鍵技術開發三年計畫 \| 領域: \| 技術規格: 液壓頻寬>3Hz，重量<10kg_x000D_ \| 潛力預估: 推廣中型客車_x000D_ @ 經濟部產業技術司可移轉技術資料集

[ 搜尋所有 03-4712201 ... ]

在『經濟部產業技術司可移轉技術資料集』資料集內搜尋:

與光斑解角器技術同分類的經濟部產業技術司可移轉技術資料集

奈米模板合成技術先期技術授權	執行單位: 工研院材料所 \| 產出年度: 93 \| 產出單位: \| 計畫名稱: 工研院材料與化工領域環境建構計畫 \| 領域: \| 技術規格: AAO模板的均勻孔洞直徑為最小可達50 nm，最大可達120nm, 模板厚度10 mm以上；AAO模板的面積可以達到200 mm x 200 mm \| 潛力預估: LCD、OLED、LED產業
功能性奈米粉體製造及應用技術先期技術授權	執行單位: 工研院材料所 \| 產出年度: 93 \| 產出單位: \| 計畫名稱: 工研院材料與化工領域環境建構計畫 \| 領域: \| 技術規格: 粉體之平均粒徑可操控在10 ~ 200 nm間，比表面積可高達240 m2/g以上，而粉體形狀可操控為球狀、棒狀或四足錐狀。遮蔽UV(>85%)及IR(>30%)光、可見光照射下抗菌(A>2)、疏水... \| 潛力預估: 根據美國SRI Consulting報告，2001年全球使用奈米粉體材料總價值已達31億美元。未來十年，市場規模會隨應用領域之開拓而急劇增加
奈米檢測技術-表面分析檢測技術應用先期技術授權	執行單位: 工研院材料所 \| 產出年度: 93 \| 產出單位: \| 計畫名稱: 工研院材料與化工領域環境建構計畫 \| 領域: \| 技術規格: 以微區ESCA技術分析表面/薄膜深度可<5nm，微區分析解析可<20um \| 潛力預估: 可應用在DLED開發高亮度、高發光效率
奈米導電粉體製造技術先期技術授權	執行單位: 工研院材料所 \| 產出年度: 93 \| 產出單位: \| 計畫名稱: 工研院材料與化工領域環境建構計畫 \| 領域: \| 技術規格: 奈米導電/磁性粉體粒徑小於30奈米，其外披覆有機殼層而呈核殼結構 \| 潛力預估: 電磁波遮蔽與高頻磁性應用之奈米粉體材料國內市場潛力約在新台幣24億元規模
軟凝態奈米混成材料分散及流變技術先期技術授權	執行單位: 工研院材料所 \| 產出年度: 93 \| 產出單位: \| 計畫名稱: 工研院材料與化工領域環境建構計畫 \| 領域: \| 技術規格: 塗膜厚度均勻性>90%，邊際效益< 2mm；3C放電容量維持率達94% \| 潛力預估: 自2005年起鋰電池電極板需求量激增，保守估計國內每月需求量9萬米平方產值約1.3億NT$
材料高頻電磁特性量測技術開發先期技術授權	執行單位: 工研院材料所 \| 產出年度: 93 \| 產出單位: \| 計畫名稱: 工研院材料與化工領域環境建構計畫 \| 領域: \| 技術規格: 高頻測試治具與測試標準評估與開發，其電氣特性符合:測試頻率：< 65 GHz, K Value：1 \| 潛力預估: 可提升廠商之高頻量測技術能力，強化對產品設計及特性之掌握度，加速產品進入市場的速度，提高競爭力
多元合金細晶及成形技術先期技術授權	執行單位: 工研院材料所 \| 產出年度: 93 \| 產出單位: \| 計畫名稱: 工研院材料與化工領域環境建構計畫 \| 領域: \| 技術規格: 鎂鋁合金材料晶粒尺寸﹤1mm、鎂鋁合金材料伸長率> 300%、多元合金塗層具有﹤5w /m. k之熱傳導率及Hv500以上之硬度 \| 潛力預估: 3C產品鎂鋁合金外殼產值目前有80億, 預估每年有20-30%之成長率
奈米一維材料製造技術-垂直氧化鋅奈米線技術先期技術授權	執行單位: 工研院材料所 \| 產出年度: 93 \| 產出單位: \| 計畫名稱: 工研院材料與化工領域環境建構計畫 \| 領域: \| 技術規格: 一維氧化鋅奈米線材料之垂直有序排列的技術：氧化鋅奈米線/纖維材料之成長於Si基板角度為70o~90o；氧化鋅奈米線/纖維材料之寬徑30~300nm；氧化鋅奈米線/纖維材料長度≧2.5μm \| 潛力預估: 本研究初期成果已克服了垂直氧化鋅奈米線在矽基板成長之障礙，並且成功驗證垂直氧化鋅奈米線在場發射功能，在此有利之基礎上,提高控制性與大面積之成長技術建立強化,並對於多種性質之其它光電元件用基板材之實施,...
微波材料測試治具開發技術授權	執行單位: 工研院材料所 \| 產出年度: 93 \| 產出單位: \| 計畫名稱: 工研院材料與化工領域環境建構計畫 \| 領域: \| 技術規格: 材料K,Q量測, 測試頻率＜65GHz, 1＜K＜100,10＜Q＜1’10000,誤差￡±0.5% \| 潛力預估: 建立壓電膜材之壓電參數量測技術，支援相關應用產品開發。提供確認壓電膜材製作技術與產品設計開發可行性評估。可以利用已有的技術開發國內還沒有的量測系統，提供壓電薄膜在wafer level階段時的定量量...
高離子導電性質子傳導膜應用評估技術	執行單位: 工研院材料所 \| 產出年度: 93 \| 產出單位: \| 計畫名稱: 工研院創新前瞻技術研究計畫 \| 領域: \| 技術規格: *‧半氟系磺酸化離子高分子材料 ‧質子導電度：810-2 S/cm ‧甲醇穿透度：810-7 cm2/sec ‧膨潤性：40-60wt% ‧耐熱性：>250℃* \| 潛力預估: 攜帶型產品電力消耗與日遽增，在今日電子產品小型化、多功能化的趨勢下，對電池的要求也日漸升高。目前鋰電池的能量密度已接近發展的極限(500～600Whr/l)，未來高能量密度電池之開發為目前各消費電子大...
化學鍍活化液與其化學鍍技術	執行單位: 工研院材料所 \| 產出年度: 93 \| 產出單位: \| 計畫名稱: 工研院創新前瞻技術研究計畫 \| 領域: \| 技術規格: ‧化學鍍速率>0.25 ug/cm2.S ‧粒子平均粒徑<3.5 nm ‧活化粒子懸浮期>12個月 \| 潛力預估: 化學鍍活化液及其化學鍍技術，為一針對未來實行化學鍍進行超薄薄膜製程與習用化學鍍活化液缺點所設計，是以金屬奈米粒子觀念為出發點，當隨粒子粒徑越小時，比表面積越高，催化活性也越強，再加上粒子表面有有機穩定...
MB-OFDM UWB Matlab Baseband Simulation Platform	執行單位: 中科院電子所 \| 產出年度: 93 \| 產出單位: \| 計畫名稱: 超寬頻系統平台與IP發展四年計畫 \| 領域: \| 技術規格: - 符合MB-OFDM UWB PHY v1.0規範之Matlab floating-point與fixed-point simulation platform。 - Group A，B，C，D，E ... \| 潛力預估: 可搶攻UWB、Wireless USB等市場，極具市場潛力
O-PET光學膜配方及研製技術	執行單位: 工研院化工所 \| 產出年度: 93 \| 產出單位: \| 計畫名稱: 精密與機能性化學技術開發與應用四年計畫 \| 領域: \| 技術規格: 薄膜透光率≧85﹪、吸水率<0.4wt%、IV>0.4、耐熱溫度≧150℃，且延伸倍率可達3倍以上。 \| 潛力預估: 目前既有產品多為國外日本進口，價格昂貴，且都已鍍好ITO膜，售價達2500元 NT/m2。本技術為自行開發O-PET光學級酯粒材料及其雙軸製膜技術，自製膜材料＜100元 NT/m2，而二次加工處理導電...
有機無機混成耐磨耗材料與製程技術	執行單位: 工研院化工所 \| 產出年度: 93 \| 產出單位: \| 計畫名稱: 精密與機能性化學技術開發與應用四年計畫 \| 領域: \| 技術規格: 水性系統材料硬度可達: H 溶劑系統材料硬度可達: 塑膠基材可達2~3 H，玻璃基材可達5~7 H \| 潛力預估: 有機無機混成材料相關技術之建立可開發具有尺寸安定、低膨脹係數、高阻水氣及氧氣、高接著性、高耐熱、高透明性及可變折射率之特性，此材料相關產品可衍生應用於於耐磨耗、抗反射之薄膜塗層開發，以及高經濟價值之多...
平面光波導製程技術	執行單位: 工研院化工所 \| 產出年度: 93 \| 產出單位: \| 計畫名稱: 精密與機能性化學技術開發與應用四年計畫 \| 領域: \| 技術規格: 傳遞損失TE (TransverseElectric)：0.47dB TM (Transverse Magnetic) ： 0.51 dB/cm 極化損失(PDL): 0.03 dB(1.31) ... \| 潛力預估: 此技術成果的最大效益在於發展低成本、高品質且易於大量生產製造的光通訊被動元件。有別於以往成本較高、製作過程繁瑣的傳統光通訊元件，如能以旋轉塗佈與黃光製程的製造方式取代以往的FHD+RIE製程，不僅可大...